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1. (WO2018038427) 원거리장 플라즈모닉 렌즈 및 원거리장 플라즈모닉 렌즈 조립체
국제사무국에 기록된 최신 서지정보    정보 제출

공개번호: WO/2018/038427 국제출원번호: PCT/KR2017/008594
공개일: 01.03.2018 국제출원일: 09.08.2017
IPC:
G02B 5/00 (2006.01) ,G01N 21/552 (2014.01) ,G02B 3/00 (2006.01)
G SECTION G — 물리학
02
광학
B
광학요소, 광학계 또는 광학장치; H01J; X선 광학 H01J; 29/89
5
렌즈 이외 광학요소
[IPC code unknown for G01N 21/552]
G SECTION G — 물리학
02
광학
B
광학요소, 광학계 또는 광학장치; H01J; X선 광학 H01J; 29/89
3
단렌즈 또는 복합렌즈
출원인:
한국기초과학지원연구원 KOREA BASIC SCIENCE INSTITUTE [KR/KR]; 대전시 유성구 과학로 169-148 169-148, Gwahak-ro Yuseong-gu Daejeon 34133, KR
발명자:
김승현 KIM, Seung Hyun; KR
김건희 KIM, Geon Hee; KR
김이종 KIM, I Jong; KR
대리인:
신일균 SHIN, Ilkyun; KR
우선권 정보:
10-2016-010666123.08.2016KR
발명의 명칭: (EN) FAR-FIELD PLASMONIC LENS AND FAR-FIELD PLASMONIC LENS ASSEMBLY
(FR) LENTILLE PLASMONIQUE DE CHAMP LOINTAIN ET ENSEMBLE DE LENTILLES PLASMONIQUES DE CHAMP LOINTAIN
(KO) 원거리장 플라즈모닉 렌즈 및 원거리장 플라즈모닉 렌즈 조립체
요약서:
(EN) A far-field plasmonic lens according to the present invention comprises: a base substrate having a positive dielectric constant; and a nano structure array having a negative dielectric constant, and having a predetermined cross-sectional area and extending in a lengthwise direction at the upper part of the base substrate, wherein the nano structure array comprises a first nano structure formed at a central position, and a plurality of second nano structures arranged at intervals around the first nano structure.
(FR) Une lentille plasmonique à champ lointain selon la présente invention comprend : un substrat de base ayant une constante diélectrique positive; et un réseau de nanostructures ayant une constante diélectrique négative, et ayant une section transversale prédéterminée et s'étendant dans une direction longitudinale au niveau de la partie supérieure du substrat de base, le réseau de nanostructures comprenant une première nanostructure formée au niveau d'une position centrale, et une pluralité de secondes nanostructures agencées à des intervalles autour de la première nanostructure.
(KO) 본 발명에 따른 원거리장(far-field) 플라즈모닉 렌즈는 양의 유전율을 가지는 베이스 기판; 및 음의 유전율을 가지며, 상기 베이스 기판의 상부에 일정 단면적을 가지고 길이 방향으로 연장되어 형성되는 나노 구조체 어레이;를 포함하되, 상기 나노 구조체 어레이는 중심 위치에 형성되는 제1 나노 구조체와, 상기 제1 나노 구조체를 중심으로 이격 배열된 복수의 제2 나노 구조체를 포함한다.
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지정국: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
아프리카지역 지식재산권기구(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
유라시아 특허청 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
유럽 특허청(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 한국어 (KO)
출원언어: 한국어 (KO)