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1. (WO2018022298) MPC WITH UNCONSTRAINED DEPENDENT VARIABLES FOR KPI PERFORMANCE ANALYSIS
국제사무국에 기록된 최신 서지정보    정보 제출

공개번호: WO/2018/022298 국제출원번호: PCT/US2017/041661
공개일: 01.02.2018 국제출원일: 12.07.2017
IPC:
G06Q 10/06 (2012.01) ,G06F 17/00 (2006.01)
출원인: HONEYWELL INTERNATIONAL INC.[US/US]; Intellectual Property-Patent Services 115 Tabor Road, M/S 4D3 P. O. Box 377 Morris Plains, New Jersey 07950, US
발명자: TRENCHARD, Andrew John; US
OGDEN-SWIFT, Andrew; US
대리인: SZUCH, Colleen D.; US
우선권 정보:
15/221,75528.07.2016US
발명의 명칭: (EN) MPC WITH UNCONSTRAINED DEPENDENT VARIABLES FOR KPI PERFORMANCE ANALYSIS
(FR) MPC AVEC VARIABLES DÉPENDANTES NON CONTRAINTES POUR ANALYSE DE PERFORMANCES PAR KPI
요약서: front page image
(EN) A method (100) of Key Performance Indicator (KPI) performance analysis. A dynamic Model Predictive Control (MPC) process model for an industrial process including measured variables (MVs) and controlled variables (CVs) for an MPC controller is provided (101). The MPC process model includes at least one KPI that is also included in a business KPI monitoring system for the industrial process. A future trajectory of the KPI and a steady-state (SS) value for the KPI are estimated (102). The future trajectory and SS value are used (103) for determining dynamic relationships between key plant operating variables selected from the CVs and MVs, and the KPI. A performance of the KPI is analyzed (104) including identifying at least one cause of a problem in the performance or exceeding the performance during operation of the industrial process from the dynamic relationships and a current value for at least a portion of the MVs.
(FR) L'invention concerne un procédé (100) d'analyse de performances par indicateurs-clés de performances (KPI). Un modèle dynamique de processus à commande prédictive avec modèle (MPC) pour un processus industriel comprenant des variables mesurées (MV) et des variables commandées (CV) pour un moyen de commande à MPC est mis en place (101). Le modèle de processus à MPC comprend au moins un KPI qui est également compris dans un système de surveillance de KPI d'entreprise du processus industriel. Une trajectoire future du KPI et une valeur en régime établi (SS) du KPI sont estimées (102). La trajectoire future et la valeur en SS sont utilisées (103) pour déterminer des relations dynamiques entre des variables-clés d'exploitation d'usine, sélectionnées parmi les CV et les MV, et le KPI. Des performances du KPI sont analysées (104), ce qui comprend l'identification d'au moins une cause d'un problème dans les performances ou d'un dépassement des performances pendant l'exploitation du processus industriel à partir des relations dynamiques et d'une valeur actuelle d'au moins une partie des MV.
지정국: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
유라시아 특허청 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
유럽 특허청(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 영어 (EN)
출원언어: 영어 (EN)