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1. (WO2017205361) COMBINED PATCH AND DESIGN-BASED DEFECT DETECTION
국제사무국에 기록된 최신 서지정보    정보 제출

공개번호: WO/2017/205361 국제출원번호: PCT/US2017/033976
공개일: 30.11.2017 국제출원일: 23.05.2017
IPC:
G01N 21/95 (2006.01) ,G01N 21/88 (2006.01)
G SECTION G — 물리학
01
측정; 시험
N
재료의 화학적 또는 물리적 성질의 검출에 의한 재료의 조사 또는 분석
21
광학적 수단, 즉 적외선, 가시광선, 또는 자외선을 사용하는 것에 의한 재료의 조사 또는 분석
84
특수한 적용에 특히 적합한 시스템
88
결함, 상처 또는 오염의 존재조사
95
조사되는 물체의 재질 또는 형상에 특징이 있는 것
G SECTION G — 물리학
01
측정; 시험
N
재료의 화학적 또는 물리적 성질의 검출에 의한 재료의 조사 또는 분석
21
광학적 수단, 즉 적외선, 가시광선, 또는 자외선을 사용하는 것에 의한 재료의 조사 또는 분석
84
특수한 적용에 특히 적합한 시스템
88
결함, 상처 또는 오염의 존재조사
출원인:
KLA-TENCOR CORPORATION [US/US]; Legal Department One Technology Drive Milpitas, California 95035, US
발명자:
BRAUER, Bjorn; US
BHATTACHARYYA, Santosh; US
대리인:
MCANDREWS, Kevin; US
MORRIS, Elizabeth M. N; US
우선권 정보:
15/356,79921.11.2016US
62/341,54525.05.2016US
발명의 명칭: (EN) COMBINED PATCH AND DESIGN-BASED DEFECT DETECTION
(FR) DÉTECTION DE DÉFAUT COMBINÉE À BASE DE PLAQUE ET DE CONCEPTION
요약서:
(EN) Defect detection is performed by comparing a test image and a reference image with a rendered design image, which may be generated from a design file. This may occur because a comparison of the test image and another reference image was inconclusive due to noise. The results of the two comparisons with the rendered design image can indicate whether a defect is present in the test image.
(FR) Selon la présente invention, la détection de défaut est effectuée par comparaison d'une image d’essai et d'une image de référence à une image de conception rendue, qui peut être générée à partir d'un fichier de conception. Cela peut être réalisé parce qu'une comparaison de l'image d'essai et d'une autre image de référence n’était pas concluante en raison du bruit. Les résultats des deux comparaisons à l'image de conception rendue peuvent indiquer si un défaut est présent dans l'image d’essai.
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지정국: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
아프리카지역 지식재산권기구(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
유라시아 특허청 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
유럽 특허청(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 영어 (EN)
출원언어: 영어 (EN)