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1. (WO2017173129) METROLOGY SYSTEM FOR SUBSTRATE DEFORMATION MEASUREMENT
국제사무국에 기록된 최신 서지정보    정보 제출

공개번호: WO/2017/173129 국제출원번호: PCT/US2017/025112
공개일: 05.10.2017 국제출원일: 30.03.2017
IPC:
H01L 21/66 (2006.01)
H SECTION H — 전기
01
기본적 전기소자
L
반도체 장치; 다른 곳에 속하지 않는 전기적 고체 장치
21
반도체 장치 또는 고체 장치 또는 그러한 부품의 제조 또는 처리에 특별히 적용되는 방법 또는 장비
66
제조 또는 처리중의 시험이나 측정
출원인:
APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054, US
발명자:
VAEZ-IRAVANI, Mehdi; US
EGAN, Todd; US
BANNA, Samer; US
TANTIWONG, Kyle; US
대리인:
PATTERSON, B. Todd; US
STEVENS, Joseph J.; US
우선권 정보:
62/315,66230.03.2016US
발명의 명칭: (EN) METROLOGY SYSTEM FOR SUBSTRATE DEFORMATION MEASUREMENT
(FR) SYSTÈME DE MÉTROLOGIE POUR MESURE DE DÉFORMATION DE SUBSTRAT
요약서:
(EN) Embodiments of the disclosure provide methods and system for inspecting and treating a substrate. In one embodiment, a method is provided including transmitting a first plurality of beams from a diffractive beam splitter to a first surface of a substrate to generate a reflection of a second plurality of beams, wherein the first plurality of beams are spaced apart from each other upon arriving at the first surface of the substrate; receiving the second plurality of beams on a recording surface of an optical device, wherein the second plurality of beams are spaced apart from each other upon arriving at the recording surface; measuring positional information of the second plurality of beams on the recording surface; comparing the positional information of the second plurality of beams to positional information stored in a memory; and storing a result of the comparison in the memory.
(FR) Selon des modes de réalisation, l'invention concerne des procédés et un système d'inspection et de traitement de substrat. Dans un mode de réalisation, l'invention concerne un procédé qui comprend la transmission d'une première pluralité de faisceaux depuis un diviseur de faisceau à diffraction jusqu'à une première surface d'un substrat afin de générer une réflexion d'une seconde pluralité de faisceaux, la première pluralité de faisceaux étant espacés les uns des autres lors de leur arrivée sur la première surface du substrat ; la réception de la seconde pluralité de faisceaux sur une surface d'enregistrement d'un dispositif optique, la seconde pluralité de faisceaux étant espacés les uns des autres lors de leur arrivée sur la surface d'enregistrement ; la mesure d'informations de position de la seconde pluralité de faisceaux sur la surface d'enregistrement ; la comparaison des informations de position de la seconde pluralité de faisceaux à des informations de position stockées dans une mémoire ; le stockage d'un résultat de la comparaison dans la mémoire.
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African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 영어 (EN)
출원언어: 영어 (EN)