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1. (WO2017003250) 프탈로니트릴 수지
국제사무국에 기록된 최신 서지정보

공개번호: WO/2017/003250 국제출원번호: PCT/KR2016/007109
공개일: 05.01.2017 국제출원일: 01.07.2016
IPC:
C08G 75/0222 (2016.01) ,C08G 65/333 (2006.01) ,C08K 3/00 (2006.01) ,C08L 81/02 (2006.01) ,C08L 71/00 (2006.01)
[IPC code unknown for C08G 75/0222]
C SECTION C — 화학; 야금
08
유기 고분자 화합물; 그 제조 또는 화학적 처리; 그에 따른 조성물
G
탄소-탄소 불포화 결합만이 관여하는 반응 이외의 반응으로 얻는 고분자 화합물
65
고분자의 주사슬에 에테르 결합 형성하는 반응으로 얻어지는 고분자 화합물
02
.헤테로 고리의 개환에 의해 고리 에테르로부터의
32
화학적 후처리로 변성된 고분자
329
유기 화합물을 사용하는 것
333
질소를 함유하는 것
C SECTION C — 화학; 야금
08
유기 고분자 화합물; 그 제조 또는 화학적 처리; 그에 따른 조성물
K
무기 또는 비고분자 유기 물질의 배합 성분으로서의 사용
3
무기 배합 성분의 사용
C SECTION C — 화학; 야금
08
유기 고분자 화합물; 그 제조 또는 화학적 처리; 그에 따른 조성물
L
고분자 화합물의 조성물
81
주사슬에 질소, 산소 또는 탄소를 포함하거나 하지 않는 황만을 포함한 결합을 형성하는 반응으로 얻어지는 고분자 화합물의 조성물 폴리술폰의 조성물; 그러한 고분자 유도체의 조성물
02
.폴리티오에테르; 폴리티오에테르-에테르
C SECTION C — 화학; 야금
08
유기 고분자 화합물; 그 제조 또는 화학적 처리; 그에 따른 조성물
L
고분자 화합물의 조성물
71
주사슬에 에테르 결합을 형성하는 반응으로 얻어지는 폴리에테르의 조성물 ;그러한 고분자 유도체의 조성물
출원인:
주식회사 엘지화학 LG CHEM, LTD. [KR/KR]; 서울시 영등포구 여의대로 128 128, Yeoui-daero, Yeongdeungpo-gu, Seoul 07336, KR
발명자:
안기호 AHN, Ki Ho; KR
김상우 KIM, Sang Woo; KR
이승희 LEE, Seung Hee; KR
대리인:
특허법인 다나 DANA PATENT LAW FIRM; 서울시 강남구 역삼로 3길 11 광성빌딩 신관 5층 5th Floor, New Wing, Gwangsung Bldg., 11, Yeoksam-ro 3-gil, Gangnam-gu, Seoul 06242, KR
우선권 정보:
10-2015-009435701.07.2015KR
발명의 명칭: (EN) PHTHALONITRILE RESIN
(FR) RÉSINE DE PHTALONITRILE
(KO) 프탈로니트릴 수지
요약서:
(EN) The present application relates to a phthalonitrile resin and the like. The present application can provide: a phthalonitrile resin capable of forming a composite having an excellent curing property, exhibiting suitable process temperature and a wide process window and having excellent physical properties; a polymerizable composition using the same; and a prepolymer. In addition, according to the present application, provided are: a phthalonitrile resin exhibiting suitable viscosity characteristics, thereby being capable of providing a final product free from the deterioration of mechanical properties and the like caused by bubbles generated during processing; a polymerizable composition using the same; and a prepolymer.
(FR) La présente invention concerne une résine de phtalonitrile et analogue. La présente invention permet d'obtenir : une résine de phtalonitrile apte à former un composite ayant une excellente propriété de durcissement, présentant une température de traitement appropriée et une large fenêtre de traitement et présentant d'excellentes propriétés physiques; une composition polymérisable l'utilisant; et un prépolymère. En outre, la présente invention concerne : une résine de phtalonitrile présentant des caractéristiques de viscosité appropriées, ce qui permet de fournir un produit final exempt de détérioration des propriétés mécaniques et similaire provoquée par des bulles produites pendant le traitement; une composition polymérisable l'utilisant; et un prépolymère.
(KO) 본 출원에서는 프탈로니트릴 수지 등에 대한 것이다. 본 출원에서는 경화성이 우수하고, 적절한 가공 온도와 넓은 프로세스 윈도우(process window)를 나타내며, 우수한 물성의 복합체를 형성할 수 있는 프탈로니트릴 수지, 그를 사용한 중합성 조성물 및 프리폴리머를 제공할 수 있다. 또한, 본 출원에 따르면, 적절한 점도 특성을 나타내어서, 가공 과정에서 발생하는 기포에 의한 기계적 물성 등의 저하가 없는 최종 제품을 제공할 수 있는 프탈로니트릴 수지, 그를 사용한 중합성 조성물 및 프리폴리머를 제공할 수 있다.
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지정국: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
아프리카지역 지식재산권기구(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
유라시아 특허청(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
유럽 특허청(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
아프리카 지식재산권기구(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 한국어 (KO)
출원언어: 한국어 (KO)
또한로 출판 됨:
CN107709410EP3299404US20180194895JP2018518584