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1. (WO2017003081) 경량화 인조대리석 및 이의 제조방법
국제사무국에 기록된 최신 서지정보

공개번호: WO/2017/003081 국제출원번호: PCT/KR2016/004654
공개일: 05.01.2017 국제출원일: 03.05.2016
IPC:
C04B 14/04 (2006.01) ,C04B 14/30 (2006.01) ,C04B 14/18 (2006.01) ,C04B 24/28 (2006.01) ,C04B 26/16 (2006.01)
C SECTION C — 화학; 야금
04
시멘트; 콘크리트; 인조석; 세라믹스; 내화물
B
석회; 마그네시아; 슬래그; 시멘트; 그 조성물, 예. 모르타르, 콘크리트 또는 유사한 건축재료; 인조석; 세라믹; 내화물; 천연석의 처리
14
모르타르, 콘크리트, 인조석 또는 그 유사물을 사용하기 위한 충전재로서 무기물의 사용. 예. 안료, 모르타르, 콘크리트, 또는 인조석; 무기물의 충전성을 향상시키는데 특히 적절한 처리
02
입상재료
04
규소가 풍부한 재료; 규산염
C SECTION C — 화학; 야금
04
시멘트; 콘크리트; 인조석; 세라믹스; 내화물
B
석회; 마그네시아; 슬래그; 시멘트; 그 조성물, 예. 모르타르, 콘크리트 또는 유사한 건축재료; 인조석; 세라믹; 내화물; 천연석의 처리
14
모르타르, 콘크리트, 인조석 또는 그 유사물을 사용하기 위한 충전재로서 무기물의 사용. 예. 안료, 모르타르, 콘크리트, 또는 인조석; 무기물의 충전성을 향상시키는데 특히 적절한 처리
02
입상재료
30
실리카이외의 산화물
C SECTION C — 화학; 야금
04
시멘트; 콘크리트; 인조석; 세라믹스; 내화물
B
석회; 마그네시아; 슬래그; 시멘트; 그 조성물, 예. 모르타르, 콘크리트 또는 유사한 건축재료; 인조석; 세라믹; 내화물; 천연석의 처리
14
모르타르, 콘크리트, 인조석 또는 그 유사물을 사용하기 위한 충전재로서 무기물의 사용. 예. 안료, 모르타르, 콘크리트, 또는 인조석; 무기물의 충전성을 향상시키는데 특히 적절한 처리
02
입상재료
04
규소가 풍부한 재료; 규산염
14
화산기원의 광물
18
진주암(perlite)
C SECTION C — 화학; 야금
04
시멘트; 콘크리트; 인조석; 세라믹스; 내화물
B
석회; 마그네시아; 슬래그; 시멘트; 그 조성물, 예. 모르타르, 콘크리트 또는 유사한 건축재료; 인조석; 세라믹; 내화물; 천연석의 처리
24
모르타르, 콘크리트, 인조석 또는 그 유사한 것을 위한 활성성분으로서의 유기물의 사용 예. 가소제
24
고분자화합물
28
탄소-탄소불포화 결합만이 관여하는 반응이외의 반응에 의해서 얻어지는 것
C SECTION C — 화학; 야금
04
시멘트; 콘크리트; 인조석; 세라믹스; 내화물
B
석회; 마그네시아; 슬래그; 시멘트; 그 조성물, 예. 모르타르, 콘크리트 또는 유사한 건축재료; 인조석; 세라믹; 내화물; 천연석의 처리
26
유기결합제만을 함유하는 모르타르, 콘크리트, 인조석 또는 그 유사조성물
02
.고분자화합물
10
탄소-탄소불포화 결합만이 관여하는 반응이외의 반응에 의해서 얻어지는 것
16
폴리우레탄
출원인:
롯데첨단소재 주식회사 LOTTE ADVANCED MATERIALS CO., LTD. [KR/KR]; 전라남도 여수시 여수산단로 334-27(평여동) (Pyeongyeo-dong)334-27, Yeosusandan-ro Yeosu-si Jeonnam 59616, KR
발명자:
황철연 HWANG, Cheol Yeon; KR
강한주 KANG, Han Ju; KR
손창호 SON, Chang Ho; KR
대리인:
특허법인아주 AJU KIM CHANG & LEE; 서울시 서초구 사임당로 174, 강남미래타워 12-13층 12-13th Floor, Gangnam Mirae Tower 174 Saimdang-Ro, Seocho-Gu Seoul 06627, KR
우선권 정보:
10-2015-009380830.06.2015KR
발명의 명칭: (EN) LIGHTWEIGHT ARTIFICIAL MARBLE AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
(FR) MARBRE ARTIFICIEL LÉGER ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(KO) 경량화 인조대리석 및 이의 제조방법
요약서:
(EN) An artificial marble of the present invention comprises: a surface layer comprising first particles having an average diameter of approximately 0.1-1.5 mm and a specific gravity of approximately 2-3, and second particles having an average diameter of approximately 1-45 μm and a specific gravity of approximately 2-3; and an inner layer formed on one surface of the surface layer, and comprising third particles having an average diameter of approximately 2-6 mm and a specific gravity of approximately 0.1-1.5. The surface layer and the inner layer of the artificial marble share a matrix, and thus interlayer adhesive strength is excellent and a step for attaching the surface layer and the inner layer to each other is unnecessary.
(FR) La présente invention concerne un marbre artificiel qui comprend : une couche de surface comprenant des premières particules ayant un diamètre moyen d'environ 0,1-1,5 mm et une densité relative d'environ 2-3, et des deuxièmes particules ayant un diamètre moyen d'environ 1-45 µm et une densité relative d'environ 2-3; et une couche interne formée sur une surface de la couche de surface, et comprenant des troisièmes particules ayant un diamètre moyen d'environ 2-6 mm et une densité relative d'environ 0,1-1.5. La couche de surface et la couche interne du marbre artificiel partagent une matrice, et ainsi la résistance d'adhérence intercouche est excellente et l'étape consistant à fixer la couche de surface et la couche interne l'une à l'autre n'est pas nécessaire.
(KO) 본 발명의 인조대리석은 평균 입경 약 0. 1 내지 약 1.5 mm, 비중 약 2 내지 약 3인 제 1 입자 및 평균 입경 약 1 내지 약 45 μm, 비중 약 2 내지 약 3인 제 2 입자를 포함하는 표면층; 및 상기 표면층의 일면에 형성되며, 평균 입경 약 2 내지 약 6 mm, 비중 약 0. 1 내지 약 1.5인 제 3 입자를 포함하는 내부층을 포함하는 것을 특징으로 한다. 상기 인조대리석은 표면층과 내부층이 매트릭스를 공유하여,층간 접착력이 우수하고, 표면층과 내부층의 접착 공정이 필요 없다.
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지정국: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
아프리카지역 지식재산권기구(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
유라시아 특허청(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
유럽 특허청(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
아프리카 지식재산권기구(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 한국어 (KO)
출원언어: 한국어 (KO)