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1. (WO2017001010) SELF-LOCKING HOLDER FOR SUBSTRATES
국제사무국에 기록된 최신 서지정보

공개번호: WO/2017/001010 국제출원번호: PCT/EP2015/065011
공개일: 05.01.2017 국제출원일: 01.07.2015
IPC:
C23C 14/50 (2006.01) ,C03C 17/00 (2006.01) ,C23C 16/458 (2006.01)
C SECTION C — 화학; 야금
23
금속재료의 피복; 금속 피복재료; 화학적 표면처리; 금속재료의 확산처리; 진공증착, 스퍼터링(SPUTTERING), 이온주입 또는 화학증착에 의한 피복 일반; 금속재료의 방식 또는 이물질 형성 방지 일반
C
금속재료의 피복; 금속 피복재료; 표면 확산, 화학적 전환 또는 치환에 의한 금속재료의 표면처리; 진공증착, 스퍼터링, 이온주입 또는 화학증착에 의한 피복, 일반
14
피복형성재료의 진공증착, 스퍼터링, 또는 이온주입에 의한 피복
22
.피복공정에 특징이 있는 것
50
기판 홀더
C SECTION C — 화학; 야금
03
유리; 광물 또는 슬래그울(Slag Wool)
C
유리, 유약(glazes) 또는 유리질법랑(Vitreous enamels) 의 화학적 조성; 유리의 표면처리; 유리, 광물 또는 슬래 그로부터의 섬유 또는 필라멘트의 표면처리; 유리와 유리 또는 타물질과의 접착
17
섬유 또는 필라멘트가 아닌 유리 (예. 실투유리)의 피복에 의한 표면처리
C SECTION C — 화학; 야금
23
금속재료의 피복; 금속 피복재료; 화학적 표면처리; 금속재료의 확산처리; 진공증착, 스퍼터링(SPUTTERING), 이온주입 또는 화학증착에 의한 피복 일반; 금속재료의 방식 또는 이물질 형성 방지 일반
C
금속재료의 피복; 금속 피복재료; 표면 확산, 화학적 전환 또는 치환에 의한 금속재료의 표면처리; 진공증착, 스퍼터링, 이온주입 또는 화학증착에 의한 피복, 일반
16
가스상 화합물의 분해에 의한 화학적 피복, 단 표면재료의 반응생성물을 피복층중에 남기지 않는것, 즉 화학증착법
44
.피복방법에 특징이 있는 것
458
반응 챔버에서 기판을 지지하는 방법에 특징이 있는 것
출원인:
APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054, US
BRÜNING, Andre [DE/DE]; DE (US)
LINDENBERG, Ralph [DE/DE]; DE (US)
발명자:
BRÜNING, Andre; DE
LINDENBERG, Ralph; DE
대리인:
ZIMMERMANN & PARTNER PATENTANWÄLTE MBB; Josephspitalstr. 15 80331 München, DE
우선권 정보:
발명의 명칭: (EN) SELF-LOCKING HOLDER FOR SUBSTRATES
(FR) SUPPORT AUTOBLOQUANT POUR SUBSTRATS
요약서:
(EN) A holder (200) configured to be attached to a carrier body (160) for holding a substrate (101) is described. The holder (200) includes a first portion (210) having a first inclined surface (212), the first portion (210) being configured to be attached to the carrier body (160), a second portion (220), the second portion (220) being configured to be movable relative to the first portion (210) in at least one direction (X). The first inclined surface (212) is inclined with respect to a substrate (101) to be loaded by a first angle (α).
(FR) La présente invention concerne un support (200) configuré pour être fixé à un corps de support (160) pour maintenir un substrat (101). Le support (200) comprend une première partie (210) ayant une première surface inclinée (212), la première partie (210) étant configurée pour être fixée au corps de support (160), une deuxième partie (220), la deuxième partie (220) étant configurée pour être mobile par rapport à la première partie (210) dans au moins une direction (X). La première surface inclinée (212) est inclinée par rapport à un substrat (101) pour être chargée à un premier angle (α).
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지정국: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
아프리카지역 지식재산권기구(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
유라시아 특허청(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
유럽 특허청(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
아프리카 지식재산권기구(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 영어 (EN)
출원언어: 영어 (EN)
또한로 출판 됨:
CN107810288KR1020180022989