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1. (WO2016091314) ELECTROSTATIC BIPRISM
국제사무국에 기록된 최신 서지정보

공개번호: WO/2016/091314 국제출원번호: PCT/EP2014/077393
공개일: 16.06.2016 국제출원일: 11.12.2014
국제예비심사 청구일: 04.10.2016
IPC:
H01J 37/04 (2006.01)
H SECTION H — 전기
01
기본적 전기소자
J
전자관 또는 방전램프
37
방전에 노출되는(exposed) 물체 또는 재료를 도입하는 설비가 있는 전자관, 예. 그 시험 또는 처리를 위한 것
02
세부
04
전극장치 및 방전을 발생하고 또는 제어하기 위한 관련부품, 예. 전자광학장치, 이온광학장치
출원인:
FORSCHUNGSZENTRUM JÜLICH GMBH [DE/DE]; Leo-Brandt-Straße 52425 Jülich, DE
COMMISSARIAT À L'ÈNERGIE ATOMIQUE ET AUX ÉNERGIES ALTERNATIVES [FR/FR]; 17, rue des Martyrs F-38054 Grenoble cedex 9, FR
발명자:
DUCHAMP, Martial; DE
DUNIN-BORKOWSKI, Rafal Edward; DE
GIRARD, Olivier; FR
COOPER, David; FR
대리인:
JOSTARNDT PATENTANWALTS-AG; Philipsstraße 8 52068 Aachen, DE
우선권 정보:
발명의 명칭: (EN) ELECTROSTATIC BIPRISM
(FR) BIPRISME ÉLECTROSTATIQUE
요약서:
(EN) The invention relates to an electrostatic biprism comprising a multilayer with a freestanding electrode, being preferably a multi-biprism, the method for preparing said electrostatic biprism and the use of said biprism within an electron beam device. The invention further relates to a microscope, an interferometer or an electron beam device comprising said electrostatic biprism.
(FR) La présente invention concerne un biprisme électrostatique comportant une multicouche avec une électrode autoportante, étant de préférence un double multi-prisme, le procédé pour la préparation dudit biprisme électrostatique et l'utilisation dudit biprisme à l'intérieur d'un dispositif à faisceau d'électrons. L'invention concerne en outre un microscope, un interféromètre ou un dispositif à faisceau d'électrons comprenant ledit biprisme électrostatique.
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지정국: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
아프리카지역 지식재산권기구(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
유라시아 특허청(EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
유럽 특허청(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
아프리카 지식재산권기구(OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 영어 (EN)
출원언어: 영어 (EN)