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1. (WO2013161754) SHORT POLYGLYCOLIC-ACID-RESIN FIBERS FOR USE IN WELL-TREATMENT FLUID
국제사무국에 기록된 최신 서지정보   

공개번호: WO/2013/161754 국제출원번호: PCT/JP2013/061768
공개일: 31.10.2013 국제출원일: 22.04.2013
IPC:
C09K 8/12 (2006.01) ,C09K 8/42 (2006.01) ,C09K 8/508 (2006.01) ,C09K 8/62 (2006.01) ,C09K 8/72 (2006.01) ,D01F 6/62 (2006.01)
C SECTION C — 화학; 야금
09
염료;페인트;윤기 방편제;천연 수지;접착제;그 밖에 분류되지 않는 조성물;그 밖에 분류되지 않는 재료의 응용
K
그 밖에 분류되지 않는 응용되는 물질; 그 밖에 분류되지 않는 물질의 응용
8
착정 또는 갱정용 조성물; 착정 또는 유전을 처리하기 위한 조성물, 예.완성 작업 또는 수선 작업용의 것
02
착정용 조성물
04
수성 착정용 조성물
06
점토를 함유 하지 않는 화합물
12
합성 유기 고분자 화합물 또는 그 전구체를 함유하는 것
C SECTION C — 화학; 야금
09
염료;페인트;윤기 방편제;천연 수지;접착제;그 밖에 분류되지 않는 조성물;그 밖에 분류되지 않는 재료의 응용
K
그 밖에 분류되지 않는 응용되는 물질; 그 밖에 분류되지 않는 물질의 응용
8
착정 또는 갱정용 조성물; 착정 또는 유전을 처리하기 위한 조성물, 예.완성 작업 또는 수선 작업용의 것
42
시멘트용 조성물, 예. 시추공에 케이싱을 시멘팅하기 위한 것; 막아버리기 위한 조성물, 예. 우물을 묻기 위한 것
C SECTION C — 화학; 야금
09
염료;페인트;윤기 방편제;천연 수지;접착제;그 밖에 분류되지 않는 조성물;그 밖에 분류되지 않는 재료의 응용
K
그 밖에 분류되지 않는 응용되는 물질; 그 밖에 분류되지 않는 물질의 응용
8
착정 또는 갱정용 조성물; 착정 또는 유전을 처리하기 위한 조성물, 예.완성 작업 또는 수선 작업용의 것
50
시추공벽을 바르기 위한 조성물, 즉, 시추공벽의 일시적 강화를 위한 조성물
504
물 혹은 극성 용제계의 조성물
506
유기 화합물을 함유하는 것
508
고분자 화합물을 함유하는 것
C SECTION C — 화학; 야금
09
염료;페인트;윤기 방편제;천연 수지;접착제;그 밖에 분류되지 않는 조성물;그 밖에 분류되지 않는 재료의 응용
K
그 밖에 분류되지 않는 응용되는 물질; 그 밖에 분류되지 않는 물질의 응용
8
착정 또는 갱정용 조성물; 착정 또는 유전을 처리하기 위한 조성물, 예.완성 작업 또는 수선 작업용의 것
60
지하 형태에서 행하기 위해 생산을 자극하기 위한 조성물
62
갈라진 곳 또는 균열을 형성하기 위한 조성물
C SECTION C — 화학; 야금
09
염료;페인트;윤기 방편제;천연 수지;접착제;그 밖에 분류되지 않는 조성물;그 밖에 분류되지 않는 재료의 응용
K
그 밖에 분류되지 않는 응용되는 물질; 그 밖에 분류되지 않는 물질의 응용
8
착정 또는 갱정용 조성물; 착정 또는 유전을 처리하기 위한 조성물, 예.완성 작업 또는 수선 작업용의 것
60
지하 형태에서 행하기 위해 생산을 자극하기 위한 조성물
62
갈라진 곳 또는 균열을 형성하기 위한 조성물
72
부식을 위한 화학 약품, 예. 산
D SECTION D — 섬유; 지류
01
천연사 또는 인조사, 또는 섬유; 방적
F
인조필라멘트, 사, 섬유, 강모, 또는 리본의 제조에 있어서 화학적 특징을 가지는 것; 탄소 필라멘트 제조에 특히 적합한 장치
6
합성중합체의 단일성분 인조필라멘트 또는 그 유사물; 그 제조
58
단일축중합생성물로부터 되는 것
62
폴리에스테르로부터 되는 것
출원인:
株式会社クレハ KUREHA CORPORATION [JP/JP]; 東京都中央区日本橋浜町三丁目3番2号 3-3-2, Nihonbashi-Hamacho, Chuo-ku, Tokyo 1038552, JP
발명자:
阿部俊輔 ABE Shunsuke; JP
山▲崎▼昌博 YAMAZAKI Masahiro; JP
▲高▼橋健夫 TAKAHASHI Takeo; JP
佐藤浩幸 SATO Hiroyuki; JP
鈴木賢一 SUZUKI Kenichi; JP
대리인:
野村康秀 NOMURA Yasuhide; 東京都荒川区東日暮里三丁目43番9号ビジュアル・シティー401号 Visual City 401, 43-9, Higashi-Nippori 3-chome, Arakawa-ku, Tokyo 1160014, JP
우선권 정보:
2012-10346927.04.2012JP
발명의 명칭: (EN) SHORT POLYGLYCOLIC-ACID-RESIN FIBERS FOR USE IN WELL-TREATMENT FLUID
(FR) FIBRES DE RÉSINE D'ACIDE POLYGLYCOLIQUE COURTES, DESTINÉES À ÊTRE UTILISÉES DANS UN FLUIDE DE TRAITEMENT DE PUITS
(JA) 坑井処理流体用ポリグリコール酸樹脂短繊維
요약서:
(EN) Short polyglycolic-acid-resin fibers for use in a well-treatment fluid, said fibers having (a) outside diameters of 5 to 300 µm, (b) lengths of 1 to 30 mm, (c) weights of 0.1 to 25 den, and (d) strengths of 1 to 20 g/den, wherein (e) the area taken up by the polyglycolic-acid resin in each fiber cross-section is 10% to 95% of the area of the circle circumscribing said cross-section. Also, a well-treatment fluid containing said short polyglycolic-acid-resin fibers.
(FR) Fibres de résine d'acide polyglycolique courtes, destinées à être utilisées dans un fluide de traitement de puits, qui présentent (a) des diamètres externes allant de 5 à 300 µm, (b) des longueurs de 1 à 30 mm, (c) un poids de 0,1 à 25 den, et (d) des résistances à la rupture de 1 à 20 g/den, (e) la zone occupée par la résine d'acide polyglycolique dans chaque section transversale de fibre étant égale à 10% à 95% de la zone du cercle entourant ladite section transversale. La présente invention concerne en outre un fluide de traitement de puits contenant lesdites fibres de résine d'acide polyglycolique courtes.
(JA)  (a)外径が5~300μm;(b)繊維長が1~30mm;(c)繊度が0.1~25D;(d)強度が1~20gf/D;かつ(e)繊維断面において、該繊維断面の外接円の面積に対するポリグリコール酸樹脂の面積の比率が10~95%;である坑井処理流体用ポリグリコール酸樹脂短繊維、並びに、該坑井処理流体用ポリグリコール酸樹脂短繊維を含有する坑井処理流体。
지정국: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
아프리카지역 지식재산권기구(ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
유라시아 특허청 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
유럽 특허청(EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
공개언어: 일본어 (JA)
출원언어: 일본어 (JA)