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1. (WO2001022469) ELECTRON-OPTICAL LENS ARRANGEMENT WITH AN AXIS THAT CAN BE LARGELY DISPLACED
국제사무국에 기록된 최신 서지정보   

공개번호:    WO/2001/022469    국제출원번호:    PCT/DE2000/002797
공개일: 29.03.2001 국제출원일: 16.08.2000
국제예비심사 청구일:    30.01.2001    
IPC:
H01J 37/30 (2006.01), H01J 37/317 (2006.01)
출원인: CEOS CORRECTED ELECTRON OPTICAL SYSTEMS GMBH [DE/DE]; Englerstrasse 28, 69126 Heidelberg (DE) (For All Designated States Except US).
ROSE, Harald [DE/DE]; (DE) (For US Only).
SCHMID, Peter [DE/DE]; (DE) (For US Only).
JANZEN, Roland [DE/DE]; (DE) (For US Only)
발명자: ROSE, Harald; (DE).
SCHMID, Peter; (DE).
JANZEN, Roland; (DE)
대리인: PÖHNER, Wilfried; Röntgenring 4, Postfach 63 23, 97070 Würzburg (DE)
우선권 정보:
199 44 857.4 18.09.1999 DE
발명의 명칭: (DE) ELEKTRONENOPTISCHE LINSENANORDNUNG MIT WEIT VERSCHIEBBAR ACHSE
(EN) ELECTRON-OPTICAL LENS ARRANGEMENT WITH AN AXIS THAT CAN BE LARGELY DISPLACED
(FR) ENSEMBLE LENTILLE OPTOELECTRONIQUE A AXE FORTEMENT DECALABLE
요약서: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft eine elektronenoptische Linsenanordnung mit weit verschiebbarer Achse, insbesondere für die Elektronenlithographie, mit einer Zylinderlinse und einem Quadrupolfeld, dessen Symmetrieebene in der Mittelebene des Spaltes der Zylinderlinse verläuft, wobei die fokussierende Ebene des Quadrupols in Richtung des Spaltes ausgerichtet ist und die fokussierende Brechkraft der Zylinderlinse betragsmäßig doppelt so groß wie die des Quadrupols ist, wobei ein Ablenksystem für die geladenen Teilchen in der Ebene des Spaltes der Zylinderlinse vorgeschaltet ist und in Richtung des Spaltes der Zylinderlinse mehrere, ein Quadrupolfeld erzeugende Elektroden bzw. Polschuhe vorhanden sind, die individuell und vorzugsweise sukzessive erregbar sind und das Quadrupolfeld entsprechend der Ablenkung des Teilchenstrahles derart verschoben wird, daß der Teilchenstrahl im Bereich des Quadrupolfeldes auftrifft sowie eine Halterung für das Objekt vorhanden ist, die senkrecht zur optischen Achse und zur Richtung des Spaltes der Zylinderlinse verschiebbar ist.
(EN)The invention relates to an electron-optical lens arrangement with an axis that can be largely displaced, especially for electron lithography. The inventive arrangement comprises a cylinder lens and a quadrupole field. The plane of symmetry of said quadrupole field extends in the mid-plane of the gap pertaining to the cylinder lens. The focussing level of the quadrupole is oriented in the direction of the gap. The amount of the focussing refractive power belonging to the cylinder lens is twice as high as the amount of the quadrupole. A deflection system for the charged particles is connected upstream in the level of the gap pertaining to the cylinder lens and several electrodes or pole shoes which generate a quadrupole field are provided in the direction of the gap pertaining to the cylinder lens. Said electrodes or pole shoes can be individually and preferably successively excited and the quadrupole field can be displaced according to the deflection of the particle beam in such a way that the particle beam impinges upon the area of the quadrupole field. A holding device is provided for the object. Said device is arranged vertical in relation to the optical axis and can be displaced in relation to the direction of the gap pertaining to the cylinder lens.
(FR)L'invention concerne un ensemble lentille optoélectronique à axe fortement décalable, en particulier pour la lithographie par faisceau d'électrons, qui comporte une lentille cylindrique et un champ quadripolaire dont le plan de symétrie s'étend dans le plan central de la fente de la lentille cylindrique. Le plan de focalisation du quadripôle est orienté en direction de la fente et la réfringence de focalisation de la lentille cylindrique est deux fois plus grande que celle du quadripôle. Un système de déviation pour les particules chargées est monté en aval dans le plan de la fente de la lentille cylindrique et, en direction de ladite fente, sont montées plusieurs électrodes ou pièces polaires qui produisent un champ quadripolaire et peuvent être excitées individuellement et, de préférence, successivement. Le champ quadripolaire est décalé conformément à la déviation du faisceau de particules, de telle sorte que ledit faisceau de particules apparaît dans la zone du champ quadripolaire. L'ensemble selon l'invention comporte un support pour l'objet, support qui peut être décalé perpendiculairement à l'axe optique et à la direction de la fente de la lentille cylindrique.
지정국: JP, KR, US.
European Patent Office (AT, BE, CH, CY, DE, DK, ES, FI, FR, GB, GR, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE).
공개언어: German (DE)
출원언어: German (DE)