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1. (KR1020190047020) 계측 시스템 및 기판 처리 시스템, 그리고 디바이스 제조 방법

특허청 : 대한민국
출원번호: 1020197010449 출원일: 20.09.2017
공개번호: 1020190047020 공개일: 07.05.2019
공개유형: A
PCT 참조번호: 출원번호: ; 공개번호: WO2018061945 자료를 보려면 여기를 클릭하십시오
IPC:
G03F 7/20
G01B 21/00
G03F 9/00
G SECTION G — 물리학
03
전자사진; 광파 이외의 파를 사용하는 유사기술; 영화; 사진; 홀로그래피(Holography)
F
사진제판법에 의한 요철화 또는 패턴화 표면의 제조, 예. 인쇄용, 반도체장치의 제조법용; 그것을 위한 재료; 그것을 위한 원료; 그것을 위한 특별히 적합한 장치
7
사진제판법, 예 사진석판법에 의한 요철화 또는 패턴화된 표면의 제조, 예. 인쇄표면의 제조 그것을 위한 재료, 예. 포토레지스트로 된 것 그것을 위하여 특히 적합한 장치
20
노광; 그것을 위한 장치
G SECTION G — 물리학
01
측정; 시험
B
길이, 두께 또는 유사한 직선치의 측정; 각도의 측정; 면적의 측정; 표면 또는 윤곽의 불규칙성 측정
21
이 서브클래스의 다른 그룹의, 개별형식의 측정수단에 적합하지 아니한 측정장치 또는 그 세부 포함
G SECTION G — 물리학
03
전자사진; 광파 이외의 파를 사용하는 유사기술; 영화; 사진; 홀로그래피(Holography)
F
사진제판법에 의한 요철화 또는 패턴화 표면의 제조, 예. 인쇄용, 반도체장치의 제조법용; 그것을 위한 재료; 그것을 위한 원료; 그것을 위한 특별히 적합한 장치
9
원고, 마스크, 프레임, 사진시트, 표면구조 또는 모양이 작성된 표면의 위치결정 또는 위치 맞춤, 예. 자동적인 것
CPC:
G03F 7/70591
G01B 21/00
G03F 7/70716
G03F 7/70775
G03F 9/7003
출원인: 가부시키가이샤 니콘
발명자: 이치노세 고
도쇼 도모노리
대리인: 특허법인코리아나
우선권 정보 JP-P-2016-192810 30.09.2016 JP
발명의 명칭: (KO) 계측 시스템 및 기판 처리 시스템, 그리고 디바이스 제조 방법
요약서: front page image
(KO) 마이크로 디바이스의 제조 라인에서 사용되는 계측 시스템 (500) 은, 노광 장치와는 독립적으로 형성되어 있다. 계측 시스템 (500) 은, 각각 기판 (예를 들어 적어도 1 개의 프로세스 처리를 거친 후, 감응제가 도포되기 전의 기판) 에 대한 계측 처리를 실시하는 복수의 계측 장치 (100 ∼ 100) 와, 복수의 계측 장치와 기판의 수수를 실시하기 위한 반송 시스템을 구비하고 있다. 복수의 계측 장치는, 기판에 형성된 복수의 마크의 위치 정보를 제 1 조건의 설정하에서 취득하는 제 1 계측 장치 (100) 와, 다른 기판 (예를 들어, 제 1 계측 장치에 있어서 제 1 조건의 설정하에서 위치 정보의 취득이 실시되는 기판과 동일한 로트에 포함되는 다른 기판) 에 형성된 복수의 마크의 위치 정보를 제 1 조건의 설정하에서 취득하는 제 2 계측 장치 (100) 를 포함한다. 1 1 1 3 1 2
또한로 출판 됨:
CN109791379WO/2018/061945