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1. JP2005502076 - 光学薄膜とその関連方法

官庁 日本
出願番号 2003525333
出願日 30.08.2002
公開番号 2005502076
公開日 20.01.2005
公報種別 A
IPC
G02B 1/11
G物理学
02光学
B光学要素,光学系,または光学装置
1使用物質によって特徴づけられた光学要素;光学要素のための光学的コーティング
10光学要素への塗布または表面処理によって作られた光学的コーティング
11反射防止コーティング
B32B 7/02
B処理操作;運輸
32積層体
B積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
7層間の関係を特徴とする積層体;層間の特性の相対的な方向性,または層間の測定可能なパラメータの相対的な値を特徴とする積層体,すなわち層間で異なる物理的,化学的または物理化学的性質を有する積層体;層の相互結合を特徴とする積層体
02物理的,化学的または物理化学的性質
B32B 9/00
B処理操作;運輸
32積層体
B積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
9本質的にグループB32B11/00~B32B29/00に包含されない特殊な物質からなる積層体
C23C 14/08
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
14被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
06被覆材料に特徴のあるもの
08酸化物
G02B 5/26
G物理学
02光学
B光学要素,光学系,または光学装置
5レンズ以外の光学要素
20フィルター
26反射フィルター
CPC
G02B 1/116
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
1Optical elements characterised by the material of which they are made
10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
11Anti-reflection coatings
113using inorganic layer materials only
115Multilayers
116including electrically conducting layers
G02B 5/208
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
20Filters
208for use with infra-red or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infra-red and/or ultraviolet radiation
出願人 フオン・アルデンネ・ゲゼルシヤフト・ミト・ベシユレンクテル・ハフツング
発明者 ダンネンベルク・ラント・ダーヴィト
代理人 江崎 光史
三原 恒男
奥村 義道
鍛冶澤 實
優先権情報 09/944,050 30.08.2001 US
発明の名称
(JA) 光学薄膜とその関連方法
要約
(JA)

基板に対する光学薄膜は、酸化チタンおよび一つ以上の添加剤を含むアモルファス材料で構成される。酸化チタンと酸化した状態の添加剤は、固溶体を形成しない。このアモルファス材料は、低放射膜、二重低放射膜および反射防止膜に使用される。基板に成膜する方法は、基板の上に誘電体の第一の反射防止膜を成膜する措置、この反射防止膜の上に金属膜を成膜する措置、およびこの金属膜の上に第二の反射防止膜を成膜する措置から成る。第一の反射防止膜と第二の反射防止膜の中の少なくとも一つは、このアモルファス材料で構成される。