(EN) One problem to be addressed by the present invention is to provide a transfer film which is capable of forming a pattern that has a low dielectric constant, while exhibiting excellent followability to level difference when bonded. Another problem to be addressed by the present invention is to provide a pattern forming method, a method for producing a circuit wiring line and a method for producing a touch panel, the methods being associated with the transfer film. A transfer film according to the present invention sequentially comprises a provisional supporting body, a thermoplastic resin layer and a photosensitive layer in this order; the photosensitive layer contains a compound A that has a carboxy group; and the content of the carboxy group is decreased by irradiation of active light or radiation.
(FR) L'invention a pour objet de fournir un film de transfert qui permet de former un motif de faible constante diélectrique, et qui présente d'excellentes propriétés pour épouser les différences de niveau lors d'un collage. L'invention a également pour objet de fournir un procédé de formation de motif, un procédé de fabrication de câblage de circuit et un procédé de fabrication d'écran tactile associés audit film de transfert. Le film de transfert de l'invention possède dans l'ordre un support temporaire, une couche de résine thermoplastique et une couche photosensible. Ladite couche photosensible contient un composé (A) possédant un groupe carboxy. La teneur en groupe carboxy est diminuée sous l'effet d'une irradiation par des rayons actiniques ou des rayonnements.
(JA) 本発明の課題は、低誘電率のパターンが形成可能であり、且つ、貼合の際に段差追従性に優れる、転写フィルムを提供することにある。また、本発明の他の課題は、上記転写フィルムに関する、パターン形成方法、回路配線の製造方法、及びタッチパネルの製造方法を提供することにある。 本発明の転写フィルムは、仮支持体と、熱可塑性樹脂層と、感光性層とをこの順に有する転写フィルムであり、 上記感光性層は、カルボキシ基を有する化合物Ａを含み、 活性光線又は放射線の照射によって上記カルボキシ基の含有量が減少する、転写フィルム。
