(EN) The present invention provides: an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition containing a resin that undergoes decomposition through the action of an acid and gains a larger polarity, and a compound represented by a specific general formula (Q); and an actinic ray sensitive or radiation sensitive film, a pattern forming method, an electronic device manufacturing method, and a compound, all of which use the composition.
(FR) La présente invention concerne : une composition de résine sensible aux rayons actiniques ou au rayonnement qui contient une résine qui est décomposée par l'action d'un acide et qui augmente en polarité, et un composé représenté par une formule générale spécifique (Q) ; et un film sensible aux rayons actiniques ou au rayonnement, un procédé de formation de motif, un procédé de fabrication de dispositif électronique et un composé, ceux-ci utilisant tous la composition.
(JA) 本発明は、酸の作用により分解し極性が増大する樹脂と、特定の一般式（Ｑ）で表される化合物とを含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いた、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び化合物を提供する。
