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1. WO2023032782 - 接着剤組成物、積層体、及び加工された半導体基板の製造方法

公開番号 WO/2023/032782
公開日 09.03.2023
国際出願番号 PCT/JP2022/031855
国際出願日 24.08.2022
IPC
H01L 21/02 2006.1
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02半導体装置またはその部品の製造または処理
B32B 7/12 2006.1
B処理操作;運輸
32積層体
B積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
7層間の関係を特徴とする積層体;層間の特性の相対的な方向性,または層間の測定可能なパラメータの相対的な値を特徴とする積層体,すなわち層間で異なる物理的,化学的または物理化学的性質を有する積層体;層の相互結合を特徴とする積層体
04層の相互結合
12層間に接着剤または結合材料を用いるもの
C09J 11/06 2006.1
C化学;冶金
09染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
J接着剤;接着方法一般の非機械的観点;他に分類されない接着方法;物質の接着剤としての使用
11グループC09J9/00に分類されない接着剤の特徴,例.添加剤
02非高分子添加剤
06有機物
C09J 183/05 2006.1
C化学;冶金
09染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
J接着剤;接着方法一般の非機械的観点;他に分類されない接着方法;物質の接着剤としての使用
183主鎖のみに,いおう,窒素,酸素または炭素を含みまたは含まずにけい素を含む結合を形成する反応によって得られる高分子化合物に基づく接着剤;そのような重合体の誘導体に基づく接着剤
04ポリシロキサン
05水素と結合したけい素を含むもの
C09J 183/07 2006.1
C化学;冶金
09染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
J接着剤;接着方法一般の非機械的観点;他に分類されない接着方法;物質の接着剤としての使用
183主鎖のみに,いおう,窒素,酸素または炭素を含みまたは含まずにけい素を含む結合を形成する反応によって得られる高分子化合物に基づく接着剤;そのような重合体の誘導体に基づく接着剤
04ポリシロキサン
07不飽和脂肪族基に結合したけい素を含むもの
H01L 21/304 2006.1
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02半導体装置またはその部品の製造または処理
04少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
30H01L21/20~H01L21/26に分類されない方法または装置を用いる半導体本体の処理
302表面の物理的性質または形状を変換するため,例.エッチング,ポリシング,切断
304機械的処理,例.研摩,ポリシング,切断
出願人
  • 日産化学株式会社 NISSAN CHEMICAL CORPORATION [JP]/[JP]
発明者
  • 奥野 貴久 OKUNO Takahisa
  • 臼井 友輝 USUI Yuki
  • 柳井 昌樹 YANAI Masaki
  • 新城 徹也 SHINJO Tetsuya
代理人
  • 高岡 亮一 TAKAOKA Ryoichi
  • 小田 直 ODA Nao
  • 山下 武志 YAMASHITA Takeshi
  • 小森 幸子 KOMORI Yukiko
優先権情報
2021-13988030.08.2021JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (ja)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) ADHESIVE COMPOSITION, MULTILAYER BODY, AND METHOD FOR PRODUCING PROCESSED SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
(FR) COMPOSITION ADHÉSIVE, CORPS MULTICOUCHE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE SUBSTRAT SEMI-CONDUCTEUR TRAITÉ
(JA) 接着剤組成物、積層体、及び加工された半導体基板の製造方法
要約
(EN) A multilayer body which comprises a semiconductor substrate, a supporting substrate and a bonding layer that is provided between the semiconductor substrate and the supporting substrate, wherein: the bonding layer is formed of a cured product of an adhesive composition; the adhesive composition contains a polyorganosiloxane that has an alkenyl group bonded to a silicon atom and having 2 to 40 carbon atoms, a polyorganosiloxane that has an Si-H group, a platinum group metal catalyst and a crosslinking inhibitor; and the crosslinking inhibitor contains at least either a pyridine ring-containing compound or a phosphorus-containing organic compound.
(FR) L'invention concerne un corps multicouche qui comprend un substrat semi-conducteur, un substrat de support et une couche de liaison qui est disposée entre le substrat semi-conducteur et le substrat de support, la couche de liaison étant formée d'un produit durci d'une composition adhésive ; la composition adhésive contient un polyorganosiloxane qui a un groupe alcényle lié à un atome de silicium et ayant de 2 à 40 atomes de carbone, un polyorganosiloxane qui a un groupe Si-H, un catalyseur métallique du groupe du platine et un inhibiteur de réticulation ; et l'inhibiteur de réticulation contient au moins un composé contenant un cycle pyridine ou un composé organique contenant du phosphore.
(JA) 半導体基板と、支持基板と、前記半導体基板と前記支持基板との間に設けられた接着層とを有する積層体であって、 前記接着層が、接着剤組成物の硬化物から形成され、 前記接着剤組成物が、ケイ素原子に結合した炭素数2~40のアルケニル基を有するポリオルガノシロキサンと、Si-H基を有するポリオルガノシロキサンと、白金族金属系触媒と、架橋阻害剤とを含有し、 前記架橋阻害剤が、ピリジン環含有化合物、及びリン含有有機化合物の少なくともいずれかを含有する、積層体。
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