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1. WO2023027040 - 導電膜およびその製造方法

公開番号 WO/2023/027040
公開日 02.03.2023
国際出願番号 PCT/JP2022/031614
国際出願日 22.08.2022
IPC
C30B 29/32 2006.1
C化学;冶金
30結晶成長
B単結晶成長;共晶物質の一方向固化または共析晶物質の一方向析出;物質のゾーンメルティングによる精製;特定構造を有する均質多結晶物質の製造;単結晶または特定構造を有する均質多結晶物質;単結晶または特定構造を有する均質多結晶物質の後処理;そのための装置
29材料または形状によって特徴づけられた単結晶または特定構造を有する均質多結晶物質
10無機化合物または組成物
16酸化物
22複合酸化物
32チタン酸塩;ゲルマニウム酸塩;モリブデン酸塩;タングステン酸塩
C01G 23/00 2006.1
C化学;冶金
01無機化学
GサブクラスC01DまたはC01Fに包含されない金属を含有する化合物
23チタン化合物
出願人
  • 株式会社デンソー DENSO CORPORATION [JP]/[JP]
  • 国立大学法人東海国立大学機構 NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION TOKAI NATIONAL HIGHER EDUCATION AND RESEARCH SYSTEM [JP]/[JP]
発明者
  • 山本 剛久 YAMAMOTO Takahisa
  • 徳永 智春 TOKUNAGA Tomoharu
  • 河野 竜大 KONO Ryota
  • 稗田 康平 HIEDA Kouhei
  • 疋田 育之 HIKITA Yasuyuki
  • 加納 一彦 KANO Kazuhiko
代理人
  • 弁理士法人ゆうあい特許事務所 YOU-I PATENT FIRM
優先権情報
2021-13923427.08.2021JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (ja)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) ELECTROCONDUCTIVE FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
(FR) FILM ÉLECTRIQUEMENT CONDUCTEUR ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 導電膜およびその製造方法
要約
(EN) An electroconductive film having a metal oxide as the main component, wherein the metal oxide has the same components as a compound represented by formula (I) and has a crystal structure in which a diffraction peak appears, in an X-ray diffraction pattern, at the same diffraction angle as the diffraction angle at which a diffraction peak appears in an X-ray diffraction pattern of the compound represented by formula (I). Formula (I): (AO)2B6O11. A in formula (I) is a metal element that can have a valence of +1 or +2; B in formula (I) is a transition metal element that can have a valence of +4 or +5; O in formula (I) is elemental oxygen; and the average valence of B in formula (I) is less than the maximum oxidation number of B.
(FR) L'invention concerne un film électriquement conducteur ayant un oxyde métallique en tant que composant principal, l'oxyde métallique ayant les mêmes composants qu'un composé représenté par la formule (I) et possédant une structure cristalline dans laquelle un pic de diffraction apparaît, dans un diagramme de diffraction des rayons X, au même angle de diffraction que l'angle de diffraction auquel un pic de diffraction apparaît dans un motif de diffraction des rayons X du composé représenté par la formule (I). Formule (I) : (AO)2B6O11. A dans la formule (I) est un élément métallique qui peut avoir une valence de +1 ou +2 ; B dans la formule (I) est un élément métallique de transition qui peut avoir une valence de +4 ou +5 ; O dans la formule (I) est l'oxygène élémentaire ; et la valence moyenne de B dans la formule (I) est inférieure au nombre d'oxydation maximal de B.
(JA) 金属酸化物を主成分として含む導電膜であって、金属酸化物は、下記の式(I)で表される化合物と同じ成分を有し、かつ、X線回折パターンにおいて、下記の式(I)で表される化合物のX線回折パターンで回折ピークが出現する回折角度と同じ回折角度に、回折ピークが出現する結晶構造を有し、 (AO)11 (I) 式(I)中のAは、+1価または+2価をとり得る金属元素であり、式(I)中のBは、+4価または+5価をとり得る遷移金属元素であり、式(I)中のOは、酸素元素であり、式(I)中のBの平均価数は、Bの最大酸化数未満である。
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