(EN) The present disclosure describes: a substrate processing apparatus which is capable of measuring, with high accuracy, the thickness of a film that is formed on the surface of a substrate; a substrate processing method; and a computer-readable recording medium. This substrate processing apparatus is provided with: a rotary holding unit which is configured so as to hold and rotate a substrate; a chemical agent supply unit which is configured so as to supply an etching liquid to the surface of the substrate during the rotation of the substrate by means of the rotary holding unit; a rinsing liquid supply unit which is configured so as to supply a rinsing liquid to the surface of the substrate during the rotation of the substrate by means of the rotary holding unit; a measuring unit which is configured so as to measure the thickness of a film in a state where a measuring head is positioned in the vicinity of the surface of the substrate; a drive unit which is configured so as to relatively move the measuring head in the horizontal direction with respect to the surface of the substrate during the measurement by means of the measuring unit; and an auxiliary supply unit which is configured so as to fill the space between the measuring head and the surface of the substrate with the rinsing liquid by supplying the rinsing liquid to the space during the measurement by means of the measuring unit.
(FR) La présente invention concerne : un appareil de traitement de substrat étant capable de mesurer, avec une précision élevée, l'épaisseur d'un film qui est formé sur la surface d'un substrat ; un procédé de traitement de substrat ; et un support d'enregistrement lisible par ordinateur. Le présent appareil de traitement de substrat comporte : une unité de maintien rotative qui est configurée de façon à maintenir et à faire tourner un substrat ; une unité d'alimentation en agent chimique qui est configurée de façon à fournir un liquide de gravure à la surface du substrat pendant la rotation du substrat au moyen de l'unité de maintien rotative ; une unité d'alimentation en liquide de rinçage qui est configurée de façon à fournir un liquide de rinçage à la surface du substrat pendant la rotation du substrat au moyen de l'unité de maintien rotative ; une unité de mesure qui est configurée de façon à mesurer l'épaisseur d'un film dans un état dans lequel une tête de mesure est positionnée à proximité de la surface du substrat ; une unité d'entraînement qui est configurée de manière à déplacer relativement la tête de mesure dans la direction horizontale par rapport à la surface du substrat pendant la mesure au moyen de l'unité de mesure ; et une unité d'alimentation auxiliaire qui est configurée de façon à remplir l'espace entre la tête de mesure et la surface du substrat avec le liquide de rinçage en fournissant le liquide de rinçage à l'espace pendant la mesure au moyen de l'unité de mesure.
(JA) 本開示は、基板の表面に形成されている膜の厚さを精度よく測定することが可能な基板処理装置、基板処理方法及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体を説明する。 基板処理装置は、基板を保持して回転させるように構成された回転保持部と、回転保持部による基板の回転中に、基板の表面にエッチング液を供給するように構成された薬液供給部と、回転保持部による基板の回転中に、基板の表面にリンス液を供給するように構成されたリンス液供給部と、測定ヘッドが基板の表面近傍に位置した状態で膜の厚さを測定するように構成された測定部と、測定部による測定中に、測定ヘッドを基板の表面に対して水平方向に相対移動させるように構成された駆動部と、測定部による測定中に、測定ヘッドと基板の表面との間の隙間にリンス液を供給して隙間をリンス液で満たすように構成された補助供給部とを備える。
