(EN) The present invention addresses the problem of providing a transfer film that can form a pattern having exceptional development residue suppression properties even when developed after being left for a prescribed period after exposure. The present invention also addresses the problem of providing a method for producing a laminate using the transfer film, and a method for producing a circuit wiring. This transfer film has a temporary support and a composition layer, the composition layer including a photosensitive composition layer, and the photosensitive composition layer containing a polymer, a polymerizable compound, and a photopolymerization initiator that satisfy both requirements 1 and 2 indicated below. Requirement 1: The number-average molecular weight in terms of standard polystyrene obtained by gel permeation chromatography is 3,000-50,000. Requirement 2: The content ratio of components having a molecular weight equivalent to at least ten times the above number-average molecular weight, which is derived from an integrated molecular weight distribution curve in terms of standard polystyrene obtained by gel permeation chromatography, is 3.0% or less.
(FR) La présente invention aborde le problème de la fourniture d'un film de transfert qui peut former un motif ayant d'exceptionnelles propriétés de suppression de résidus de développement même lorsqu'il est développé après avoir reposé pendant une période prescrite après l'exposition. La présente invention aborde également le problème consistant à fournir un procédé de production d'un stratifié à l'aide du film de transfert et un procédé de production d'un câblage de circuit. Ce film de transfert comprend un support temporaire et une couche de composition, la couche de composition comprenant une couche de composition photosensible, et la couche de composition photosensible contenant un polymère, un composé polymérisable et un initiateur de photopolymérisation qui satisfont les exigences 1 et 2 indiquées ci-dessous. Exigence 1 : La masse moléculaire moyenne en nombre en termes de polystyrène standard obtenu par chromatographie par perméation de gel est de 3 000 à 50 000. Exigence 2 : Le rapport de teneur en composants ayant une masse moléculaire équivalente à au moins dix fois la masse moléculaire moyenne en nombre ci-dessus, qui est dérivée d'une courbe de distribution de masse moléculaire intégrée en termes de polystyrène standard obtenu par chromatographie par perméation de gel, est de 3,0 % ou moins.
(JA) 本発明の課題は、露光後に所定期間引き置いてから現像した場合であっても、現像残渣抑制性に優れたパターンを形成できる転写フィルムを提供することである。また、本発明の他の課題は、上記転写フィルムを用いた積層体の製造方法及び回路配線の製造方法を提供することである。 本発明の転写フィルムは、仮支持体と、組成物層と、を有する転写フィルムであり、 上記組成物層は、感光性組成物層を含み、 上記感光性組成物層は、以下に示す要件1及び要件2をいずれも満たすポリマー、重合性化合物、及び光重合開始剤を含む。 要件1:ゲル浸透クロマトグラフィーにより得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量が、3,000~50,000である。 要件2:ゲル浸透クロマトグラフィーにより得られる標準ポリスチレン換算の積分分子量分布曲線から求められる、上記数平均分子量の10倍以上に相当する分子量の成分の含有比率が、3.0%以下である。