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1. WO2022065115 - 紫外線を照射する装置、基板を処理する装置、及び紫外線を照射する方法

公開番号 WO/2022/065115
公開日 31.03.2022
国際出願番号 PCT/JP2021/033586
国際出願日 13.09.2021
IPC
H01J 65/00 2006.1
H電気
01基本的電気素子
J電子管または放電ランプ
65うつわ内部に電極をもたないランプ;うつわ外部に少なくとも1つの主電極をもつランプ
H01L 21/31 2006.1
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02半導体装置またはその部品の製造または処理
04少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
30H01L21/20~H01L21/26に分類されない方法または装置を用いる半導体本体の処理
31半導体本体上への絶縁層の形成,例.マスキング用またはフォトリソグラフィック技術の使用によるもの;これらの層の後処理;これらの層のための材料の選択
C23C 16/48 2006.1
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
16ガス状化合物の分解による化学的被覆であって,表面材料の反応生成物を被覆層中に残さないもの,すなわち化学蒸着(CVD)法
44被覆の方法に特徴のあるもの
48放射によるもの,例.光分解,放射線分解,粒子放射
CPC
C23C 16/48
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
16Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
44characterised by the method of coating
48by irradiation, e.g. photolysis, radiolysis, particle radiation
H01J 11/32
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
11Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. AC-PDPs [Alternating Current Plasma Display Panels]
20Constructional details
22Electrodes, e.g. special shape, material or configuration
32Disposition of the electrodes
H01J 11/38
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
11Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. AC-PDPs [Alternating Current Plasma Display Panels]
20Constructional details
34Vessels, containers or parts thereof, e.g. substrates
38Dielectric or insulating layers
H01J 61/30
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
61Gas-discharge or vapour-discharge lamps
02Details
30Vessels; Containers
H01J 65/00
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
65Lamps without any electrode inside the vessel; Lamps with at least one main electrode outside the vessel
H01L 21/31
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
04the devices having at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
18the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic System or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
30Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
31to form insulating layers thereon, e.g. for masking or by using photolithographic techniques
出願人
  • 東京エレクトロン株式会社 TOKYO ELECTRON LIMITED [JP]/[JP]
発明者
  • 飯塚 八城 IIZUKA Hachishiro
代理人
  • 特許業務法人弥生特許事務所 YAYOY PATENT OFFICE
優先権情報
2020-16013424.09.2020JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (ja)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) DEVICE FOR EMITTING ULTRAVIOLET LIGHT, DEVICE FOR PROCESSING SUBSTRATE, AND METHOD FOR EMITTING ULTRAVIOLET LIGHT
(FR) DISPOSITIF D’ÉMISSION DE LUMIÈRE ULTRAVIOLETTE, DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ D’ÉMISSION DE LUMIÈRE ULTRAVIOLETTE
(JA) 紫外線を照射する装置、基板を処理する装置、及び紫外線を照射する方法
要約
(EN) Provided is technology to efficiently emit ultraviolet light in order to process a substrate. The present invention comprises: discharge chambers which are arranged so as to face each other while sandwiching a discharge space filled with a gas for forming plasma through discharge, and which include an electrode substrate and a translucent plate which transmits and emits ultraviolet light; two base electrodes which are provided on a plate surface of the electrode substrate in order to supply the power for forming the plasma of the gas, and which are formed in belt shapes extending next to one another; a comb-shaped electrode part in which are arranged side by side, along the direction in which the base electrodes extend, a plurality of first tooth part electrodes that are connected to one of the base electrodes and are formed in a line shape so as to extend toward the other base electrode, and a plurality of second tooth part electrodes that are connected to the other base electrode and are formed in a line shape so as to extend toward the one base electrode; a dielectric part provided between the comb-shaped electrode part provided on the electrode substrate and the discharge space; and a power supply part which supplies power to the comb-shaped electrode part.
(FR) L'invention concerne une technologie permettant d'émettre efficacement une lumière ultraviolette afin de traiter un substrat. La présente invention comprend : des chambres de décharge qui sont disposées de manière à se faire face tout en prenant en sandwich un espace de décharge rempli d'un gaz pour former un plasma par décharge, et qui comprennent un substrat d'électrode et une plaque translucide qui transmet et émet une lumière ultraviolette ; deux électrodes de base qui sont disposées sur une surface de plaque du substrat d'électrode afin de fournir de l’énergie pour former le plasma du gaz, et qui sont formées en forme de courroie s'étendant l'une à côté de l'autre ; une partie électrode en forme de peigne dans laquelle sont disposées côte à côte, le long de la direction dans laquelle s'étendent les électrodes de base, plusieurs premières électrodes de partie dent qui sont connectées à l'une des électrodes de base et qui sont formées en forme de ligne de façon à s'étendre vers l'autre électrode de base, et plusieurs secondes électrodes de partie dent qui sont connectées à l'autre électrode de base et qui sont formées en forme de ligne de façon à s'étendre vers ladite électrode de base ; une partie diélectrique disposée entre la partie électrode en forme de peigne disposée sur le substrat d'électrode et l'espace de décharge ; et une partie d'alimentation électrique qui fournit de l'énergie à la partie électrode en forme de peigne.
(JA) 基板を処理するための紫外線を効率的に照射する技術を提供する。放電によりプラズマ化させるためのガスが充填された放電空間を挟んで互いに対向するように配置され、電極基板と紫外線を透過させて照射する透光板とを備えた放電室と、前記ガスをプラズマ化するための電力を供給するために前記電極基板の板面に設けられ、互いに並んで伸びる帯状に形成された2本の基部電極と、一方の前記基部電極に接続され、他方の前記基部電極に向かって伸びだすように線状に形成された複数の第1の歯部電極と、他方の前記基部電極に接続され、一方の前記基部電極に向かって伸びだすように線状に形成された複数の第2の歯部電極と、を前記基部電極の伸びる方向に沿って、並ぶように配置された櫛歯電極部と、前記電極基板に設けられた前記櫛歯電極部と、前記放電空間との間に設けられた誘電体部と、前記櫛歯電極部に電力を供給する電力供給部とを備える。
関連特許文献
国際事務局に記録されている最新の書誌情報