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1. WO2022050247 - 流体デバイス及びその使用

公開番号 WO/2022/050247
公開日 10.03.2022
国際出願番号 PCT/JP2021/031830
国際出願日 31.08.2021
IPC
G01N 37/00 2006.1
G物理学
01測定;試験
N材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
37このサブクラスの他のいずれのグループにも包含されない細部
C12M 1/00 2006.1
C化学;冶金
12生化学;ビール;酒精;ぶどう酒;酢;微生物学;酵素学;突然変異または遺伝子工学
M酵素学または微生物学のための装置
1酵素学または微生物学のための装置
G01N 35/02 2006.1
G物理学
01測定;試験
N材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
35グループG01N1/00~G01N33/00のいずれか1つに分類される方法または材料に限定されない自動分析;そのための材料の取扱い
021以上の処理位置または分析位置へコンベア系によって移動させられる多数の試料容器を用いるもの
G01N 35/08 2006.1
G物理学
01測定;試験
N材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
35グループG01N1/00~G01N33/00のいずれか1つに分類される方法または材料に限定されない自動分析;そのための材料の取扱い
08チューブ系を流れる不連続試料流を用いるもの,例.フローインジェクション分析
B01J 19/00 2006.1
B処理操作;運輸
01物理的または化学的方法または装置一般
J化学的または物理的方法,例.触媒またはコロイド化学;それらの関連装置
19化学的,物理的または物理化学的プロセス一般;それらに関連した装置
G01N 21/03 2006.1
G物理学
01測定;試験
N材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
21光学的手段,すなわち,赤外線,可視光線または紫外線を使用することによる材料の調査または分析
01光学的調査を容易に行なうための配置または装置
03キュベット構造
CPC
B01J 19/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
19Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
C12M 1/00
CCHEMISTRY; METALLURGY
12BIOCHEMISTRY; BEER; SPIRITS; WINE; VINEGAR; MICROBIOLOGY; ENZYMOLOGY; MUTATION OR GENETIC ENGINEERING
MAPPARATUS FOR ENZYMOLOGY OR MICROBIOLOGY; APPARATUS FOR CULTURING MICROORGANISMS FOR PRODUCING BIOMASS, FOR GROWING CELLS OR FOR OBTAINING FERMENTATION OR METABOLIC PRODUCTS, i.e. BIOREACTORS OR FERMENTERS
1Apparatus for enzymology or microbiology
G01N 21/03
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
21Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
01Arrangements or apparatus for facilitating the optical investigation
03Cuvette constructions
G01N 35/02
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
35Automatic analysis not limited to methods or materials provided for in any single one of groups G01N1/00 - G01N33/00; Handling materials therefor
02using a plurality of sample containers moved by a conveyor system past one or more treatment or analysis stations
G01N 35/08
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
35Automatic analysis not limited to methods or materials provided for in any single one of groups G01N1/00 - G01N33/00; Handling materials therefor
08using a stream of discrete samples flowing along a tube system, e.g. flow injection analysis
G01N 37/00
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
37Details not covered by any other group of this subclass
出願人
  • 凸版印刷株式会社 TOPPAN INC. [JP]/[JP]
発明者
  • 後藤 圭佑 GOTO Keisuke
  • 牧野 洋一 MAKINO Yoichi
  • 和田 晋一 WADA Shinichi
  • 篠原 雄一郎 SHINOHARA Yuichiro
代理人
  • 松沼 泰史 MATSUNUMA Yasushi
  • 鈴木 史朗 SUZUKI Shirou
  • 清水 雄一郎 SHIMIZU Yuichiro
  • 大槻 真紀子 OTSUKI Makiko
優先権情報
2020-14750702.09.2020JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (ja)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) FLUID DEVICE AND USE THEREOF
(FR) DISPOSITIF À FLUIDES ET SON UTILISATION
(JA) 流体デバイス及びその使用
要約
(EN) A fluid device comprising: a base at least partially provided with a well array in which a plurality of wells that open to one face and have the same shape are regularly arranged; and a lid member arranged facing the well array, wherein a space between the well array and the lid member forms a flow passage through which a fluid flows, and a distance Dab between a center of gravity Ca of an opening portion of any well A of the well array and the center of gravity Cb of an opening portion of a well B closest to the well A and the diameter Da of a circle having the same area as the area of the opening portion of the well A satisfy the following formula (1): (1): 0.8 ≤ Da/Dab < 1.
(FR) L'invention concerne un dispositif à fluide comprenant une base au moins partiellement pourvue d'un réseau de puits dans lequel plusieurs puits qui s'ouvrent sur une face et qui présentent la même forme sont disposés à intervalles réguliers ; et un élément de couvercle disposé face au réseau de puits, un espace entre le réseau de puits et l'élément de couvercle formant un passage d'écoulement à travers lequel un fluide s'écoule, et une distance Dab entre un centre de gravité Ca d'une partie d'ouverture d'un puits A quelconque du réseau de puits et le centre de gravité Cb d'une partie d'ouverture d'un puits B le plus proche du puits A et le diamètre Da d'un cercle ayant la même surface que la surface de la partie d'ouverture du puits A satisfont la formule (1) suivante (1) : 0,8 ≤ Da/Dab < 1.
(JA) 一方面に開口する複数の同一形状のウェルが規則的に配置されたウェルアレイを少なくとも一部に有する基板と、前記ウェルアレイと対向して配置された蓋部材と、を備え、前記ウェルアレイと前記蓋部材との間の空間は流体が流れる流路を形成しており、前記ウェルアレイの任意のウェルAの開口部の重心Caと、前記ウェルAに最も近接するウェルBの開口部の重心Cbとの間の距離Dabと、前記ウェルAの開口部の面積と同面積の円の直径Daとが、下記式(1)を満たす、流体デバイス。 0.8≦Da/Dab<1 …(1)
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