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1. WO2022050045 - 導電性積層体及びこれを用いた光学装置、導電性積層体の製造方法

公開番号 WO/2022/050045
公開日 10.03.2022
国際出願番号 PCT/JP2021/030121
国際出願日 18.08.2021
IPC
B32B 7/025 2019.1
B処理操作;運輸
32積層体
B積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
7層間の関係を特徴とする積層体;層間の特性の相対的な方向性,または層間の測定可能なパラメータの相対的な値を特徴とする積層体,すなわち層間で異なる物理的,化学的または物理化学的性質を有する積層体;層の相互結合を特徴とする積層体
02物理的,化学的または物理化学的性質
025電気的または磁気的性質
CPC
B32B 7/025
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
7Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
02Physical, chemical or physicochemical properties
025Electric or magnetic properties
出願人
  • デクセリアルズ株式会社 DEXERIALS CORPORATION [JP]/[JP]
発明者
  • 塩田 圭右 SHIOTA, Keisuke
  • 小野 行弘 ONO, Yukihiro
  • 手塚 かおり TEZUKA, Kaori
  • 若生 仁志 WAKO, Hitoshi
代理人
  • 野口 信博 NOGUCHI, Nobuhiro
  • 穂谷野 聡 HOYANO, Satoshi
優先権情報
2020-14948704.09.2020JP
2021-13041209.08.2021JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (ja)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) CONDUCTIVE LAYERED PRODUCT, OPTICAL DEVICE USING SAME, AND MANUFACTURING METHOD FOR CONDUCTIVE LAYERED PRODUCT
(FR) PRODUIT STRATIFIÉ CONDUCTEUR, DISPOSITIF OPTIQUE UTILISANT CELUI-CI, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION POUR PRODUIT STRATIFIÉ CONDUCTEUR
(JA) 導電性積層体及びこれを用いた光学装置、導電性積層体の製造方法
要約
(EN) Provided is a conductive layered product that achieves both low electrical resistance and high transmittance. Also provided are optical elements comprising the conductive layered product, and a manufacturing method for the conductive layered product. The conductive layered product 1 is obtained by layering a first metal oxide layer 3, a metal layer 4, and a second metal oxide layer 5 on at least one surface of a transparent substrate 2, in order from the side having the transparent substrate 2. The arithmetic average roughness of an interface of the first metal oxide layer 3 on the transparent substrate side 2 is no more than 2.0 nm. For example, in the conductive layered product 1, the interface of the first metal oxide layer 3 on the side having the transparent substrate 2 is the surface of the transparent substrate 2. Additionally, in a conductive layered product 1A that further comprises a resin layer 6 between the transparent substrate 2 and the first metal oxide layer 3, the interface of the first metal oxide layer 3 on the side having the transparent substrate 2 is the surface of the resin layer 6.
(FR) La présente invention concerne un produit stratifié conducteur qui présente à la fois une faible résistance électrique et une transmittance élevée. La présente invention concerne également des éléments optiques comprenant le produit stratifié conducteur, et un procédé de fabrication du produit stratifié conducteur. Le produit stratifié conducteur (1) est obtenu par stratification d'une première couche d'oxyde métallique (3), d'une couche métallique (4) et d'une seconde couche d'oxyde métallique (5) sur au moins une surface d'un substrat transparent (2), dans l'ordre à partir du côté ayant le substrat transparent (2). La rugosité moyenne arithmétique d'une interface de la première couche d'oxyde métallique (3) sur le côté substrat transparent (2) n'est pas supérieure à 2,0 nm. Par exemple, dans le produit stratifié conducteur (1), l'interface de la première couche d'oxyde métallique (3) sur le côté ayant le substrat transparent (2) est la surface du substrat transparent (2). De plus, dans un produit stratifié conducteur (1A) qui comprend en outre une couche de résine (6) entre le substrat transparent (2) et la première couche d'oxyde métallique (3), l'interface de la première couche d'oxyde métallique (3) sur le côté ayant le substrat transparent (2) est la surface de la couche de résine (6).
(JA) 低電気抵抗と高透過率を両立する導電性積層体の提供及びこれを備えた各種光学素子、導電性積層体の製造方法の提供。導電性積層体1は、透明基材2の少なくとも1面上に、第1の金属酸化物層3、金属層4及び第2の金属酸化物層5が、透明基材2側からこの順に積層され、第1の金属酸化物層3の透明基材側2の界面の算術平均粗さが2.0nm以下である。例えば、導電性積層体1では、第1の金属酸化物層3の透明基材2側の界面が透明基材2の表面である。また、透明基材2と第1の金属酸化物層3との間に樹脂層6をさらに備える導電性積層体1Aでは、第1の金属酸化物層3の透明基材2側の界面が樹脂層6の表面である。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報