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1. WO2021065902 - 電極埋設セラミックス構造体

公開番号 WO/2021/065902
公開日 08.04.2021
国際出願番号 PCT/JP2020/036890
国際出願日 29.09.2020
IPC
B32B 18/00 2006.01
B処理操作;運輸
32積層体
B積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
18本質的にセラミックからなる積層体,例.耐火性製品
C04B 41/88 2006.01
C化学;冶金
04セメント;コンクリート;人造石;セラミックス;耐火物
B石灰;マグネシア;スラグ;セメント;その組成物,例.モルタル,コンクリートまたは類似の建築材料;人造石;セラミックス;耐火物;天然石の処理
41モルタル,コンクリート,人造石またはセラミックスの後処理;天然石の処理
80セラミックスのみの
81被覆または含浸
85無機物によるもの
88金属
G01F 23/26 2006.01
G物理学
01測定;試験
F体積,体積流量,質量流量,または液位の測定;体積による測定
23液位または流動性固体のレベルの指示または測定,例.体積による指示,警報器による指示
22被測定レベルによって定まる直線寸法,圧力または重量以外の物理的変量の測定によるもの,例.蒸気または水の熱伝達の差異によるもの
26電場または電磁場における液体または流動性固体の存在に起因するキャパシタまたはインダクタの容量または誘導係数の変化の測定によるもの
H05B 3/18 2006.01
H電気
05他に分類されない電気技術
B電気加熱;他に分類されない電気照明
3抵抗加熱
10材料の組成または性質または導体の配置に特徴のある加熱要素(組成それ自体は,関連するサブクラスを参照)
18導体が絶縁物質の中に埋込まれたもの
C04B 35/486 2006.01
C化学;冶金
04セメント;コンクリート;人造石;セラミックス;耐火物
B石灰;マグネシア;スラグ;セメント;その組成物,例.モルタル,コンクリートまたは類似の建築材料;人造石;セラミックス;耐火物;天然石の処理
35組成に特徴を持つ成形セラミック製品;セラミック組成;セラミック製品を製造するための無機化合物粉末の処理
01酸化物を基とするもの
48酸化ジルコニウムまたは酸化ハフニウムまたはジルコニウム酸塩またはハフニウム酸塩を基とするもの
486ファインセラミックス
G01N 27/409 2006.01
G物理学
01測定;試験
N材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
27電気的,電気化学的,または磁気的手段の利用による材料の調査または分析
26電気化学的変量の調査によるもの;電解または電気泳動の利用によるもの
403セルと電極の組合せ
406固体電解質を有するセルおよびプローブ
407気体の調査または分析のためのもの
409酸素濃淡電池
出願人
  • 日本碍子株式会社 NGK INSULATORS, LTD. [JP]/[JP]
発明者
  • 大西 孝生 OHNISHI Takao
  • 田邊 大始 TANABE Daishi
  • 森下 瑛文 MORISHITA Akifumi
代理人
  • 吉竹 英俊 YOSHITAKE Hidetoshi
  • 有田 貴弘 ARITA Takahiro
  • 中尾 和樹 NAKAO Kazuki
  • 喜多 弘行 KITA Hiroyuki
優先権情報
2019-18351104.10.2019JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) ELECTRODE EMBEDDED CERAMIC STRUCTURE
(FR) STRUCTURE CÉRAMIQUE À ÉLECTRODE INCORPORÉE
(JA) 電極埋設セラミックス構造体
要約
(EN)
An electrode embedded ceramic structure (10) is provided with: a first ceramic layer (2); an electrode layer (4) provided on the top surface of the first ceramic layer (2); and a second ceramic layer (6) which covers the first ceramic layer (2) and the electrode layer (4), and which is thinner than the first ceramic layer (2). In the electrode embedded ceramic structure (10), in a cross section taken along the stacking direction of the first ceramic layer (2), the electrode layer (4), and the second ceramic layer (6), if the length of the electrode layer (4) on the first ceramic layer (2) side is L1, the length of the electrode layer (4) on the second ceramic layer (6) side is L2, and the length of the electrode layer (4) in a direction orthogonal to the stacking direction is L3, the relationship (L1+L2)/L3≥2.2 is satisfied.
(FR)
L'invention concerne une structure céramique à électrode incorporée (10) munie : d'une première couche de céramique (2) ; d’une couche d'électrode (4) disposée sur la surface supérieure de la première couche de céramique (2) ; et d’une seconde couche de céramique (6) qui recouvre la première couche de céramique (2) et la couche d'électrode (4), et qui est plus mince que la première couche de céramique (2). Dans la structure céramique à électrode incorporée (10), dans une section transversale prise le long de la direction d'empilement de la première couche de céramique (2), de la couche d'électrode (4), et de la seconde couche de céramique (6), si la longueur de la couche d'électrode (4) sur le côté première couche de céramique (2) est L1, la longueur de la couche d'électrode (4) sur le côté seconde couche de céramique (6) est L2, et la longueur de la couche d'électrode (4) dans une direction orthogonale à la direction d'empilement est L3, la relation (L1+L2)/L3≥2,2 est satisfaite.
(JA)
電極埋設セラミックス構造体(10)は、第1セラミックス層(2)と、第1セラミックス層(2)の表面に設けられている電極層(4)と、第1セラミックス層(2)及び電極層(4)を被覆しているとともに、第1セラミックス層(2)より厚みが薄い第2セラミックス層(6)を備えている。この電極埋設セラミックス構造体(10)では、第1セラミックス層(2)と電極層(4)と第2セラミックス層(6)の積層方向に沿った断面において、第1セラミックス層(2)側の電極層(4)の長さをL1とし、第2セラミックス層(6)側の電極層(4)の長さをL2とし、積層方向に直交する方向の電極層(4)の長さをL3としたときに、式(L1+L2)/L3≧2.2を満足している。
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