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1. WO2021065236 - 基板ホルダ及び基板処理装置

公開番号 WO/2021/065236
公開日 08.04.2021
国際出願番号 PCT/JP2020/031380
国際出願日 20.08.2020
IPC
C25D 17/08 2006.01
C化学;冶金
25電気分解または電気泳動方法;そのための装置
D電気分解または電気泳動による被覆方法;電鋳;電気分解による加工品の接合;そのための装置
17電解被覆用槽の構造部品またはその組立体
06被覆物品の懸垂または支持装置
08ラック
C25D 17/06 2006.01
C化学;冶金
25電気分解または電気泳動方法;そのための装置
D電気分解または電気泳動による被覆方法;電鋳;電気分解による加工品の接合;そのための装置
17電解被覆用槽の構造部品またはその組立体
06被覆物品の懸垂または支持装置
H01L 21/683 2006.01
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
67製造または処理中の半導体または電気的固体装置の取扱いに特に適用される装置;半導体または電気的固体装置もしくは構成部品の製造または処理中のウエハの取扱いに特に適用される装置
683支持または把持のためのもの
出願人
  • 株式会社荏原製作所 EBARA CORPORATION [JP]/[JP]
発明者
  • 関 正也 SEKI, Masaya
  • 鈴木 潔 SUZUKI, Kiyoshi
  • 佐竹 正行 SATAKE, Masayuki
代理人
  • 宮前 徹 MIYAMAE, Toru
  • 鐘ヶ江 幸男 KANEGAE, Yukio
  • 渡邊 誠 WATANABE, Makoto
  • 道下 浩治 MICHISHITA, Koji
優先権情報
2019-18367404.10.2019JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) SUBSTRATE HOLDER AND SUBSTRATE PROCESSING DEVICE
(FR) SUPPORT DE SUBSTRAT ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
(JA) 基板ホルダ及び基板処理装置
要約
(EN)
Provided are a substrate holder and a substrate processing device that make it possible to position a substrate even if the substrate is subjected to frictional force or the like from a support surface. This substrate holder 200 is provided with: a first retention member 300; a second retention member 500 that, together with the first retention member 300, clamps a substrate W; three or more positioning members 360 that have a contact surface 342 for making contact with a side end section of the substrate W; a first moving member 380 having a plurality of engaging parts 384 for engaging respectively with the positioning members 360 so as to cause the positioning members 360 to move while maintaining a state in which respective distances between an ideal axis L and a contact surface 376 of each of the positioning members 360 is equal; and a first urging member 310 for urging the first moving member 380. The first moving member 380 transmits urging force of the first urging member 310 to each of the positioning members 360. The positioning members 360, due to the transmitted urging force, are urged in an orientation whereby the contact surfaces 376 approach the ideal axis L.
(FR)
L'invention concerne un support de substrat et un dispositif de traitement de substrat qui permettent de positionner un substrat même si le substrat est soumis à une force de frottement ou une force similaire par une surface de support. Ce support de substrat 200 comprend : un premier élément de retenue 300 ; un second élément de retenue 500 qui, conjointement avec le premier élément de retenue 300, serre un substrat W ; trois éléments de positionnement 360 ou plus qui ont une surface de contact 342 pour établir un contact avec une section d'extrémité latérale du substrat W ; un premier élément mobile 380 ayant une pluralité de parties de couplage 384 pour se coupler respectivement avec les éléments de positionnement 360 de façon faire déplacer les éléments de positionnement 360 tout en maintenant un état dans lequel les distances respectives entre un axe idéal L et une surface de contact 376 de chaque élément de positionnement 360 sont égales ; et un premier élément de poussée pour pousser le premier élément mobile 380. Le premier élément mobile 380 transmet une force de poussée du premier élément de poussée 310 à chaque élément de positionnement 360. Les éléments de positionnement 360, en raison de la force de poussée transmise, sont forcés de prendre une orientation dans laquelle les surfaces de contact 376 s'approchent de l'axe idéal L
(JA)
基板が支持面から摩擦力等を受ける場合にも、基板の位置決めができる、基板ホルダ及び基板処理装置を提供する。 本発明に係る基板ホルダ200は、第1保持部材300と、第1保持部材300と共に基板Wを挟持するための第2保持部材500と、基板Wの側端部と接触するための接触面342を有する3つ以上の位置決め部材360と、理想軸Lと、それぞれの位置決め部材360の接触面376との、それぞれの距離が等しい状態を維持して、位置決め部材360を移動させるように、それぞれの位置決め部材360と係合する複数の係合部384を有する第1移動部材380と、第1移動部材380を付勢する第1付勢部材310と、を備え、第1移動部材380は、第1付勢部材310の付勢力を、それぞれの位置決め部材360に伝達し、位置決め部材360は、伝達された付勢力により、接触面376が理想軸Lへ近づく向きへ付勢される。
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