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1. WO2021049146 - 蒸着源及び真空処理装置

公開番号 WO/2021/049146
公開日 18.03.2021
国際出願番号 PCT/JP2020/026591
国際出願日 07.07.2020
IPC
C23C 14/24 2006.01
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
14被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22被覆の方法に特徴のあるもの
24真空蒸着
CPC
C23C 14/24
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
22characterised by the process of coating
24Vacuum evaporation
出願人
  • 株式会社アルバック ULVAC, INC. [JP]/[JP]
発明者
  • 藤井 厳 FUJII, Gen
  • 宮内 琢真 MIYAUCHI, Takuma
代理人
  • 大森 純一 OMORI, Junichi
優先権情報
2019-16380709.09.2019JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) VAPOR DEPOSITION SOURCE AND VACUUM PROCESSING DEVICE
(FR) SOURCE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT SOUS VIDE
(JA) 蒸着源及び真空処理装置
要約
(EN)
[Problem] To curb blockage of an ejection nozzle by a vapor deposition material. [Solution] A vapor deposition source, in which a vaporization vessel comprises: a vessel body including a bottom section and a side wall section that is provided continuously from the bottom section; and a top plate which faces the bottom section and to which an ejection nozzle is disposed. A vapor deposition material is accommodated in a space surrounded by the vessel body and the top plate. A first heating mechanism faces the side wall section. A second heating mechanism is provided so as to face respective side sections of the top plate and the ejection nozzle, and so as to be spaced apart from the first heating mechanism in the direction from the bottom section toward the top plate. A first reflector faces the first heating mechanism and is disposed to the side opposite the side wall section. A second reflector faces the second heating mechanism and is disposed to the side opposite the side sections, and is disposed so as to be spaced apart in the above-mentioned direction from the first reflector.
(FR)
Le problème décrit par la présente invention est de limiter le blocage d'une buse d'éjection par un matériau de dépôt en phase vapeur. La solution selon l'invention porte sur une source de dépôt en phase vapeur, dans laquelle un récipient de vaporisation comprend : un corps de récipient comprenant une section inférieure et une section de paroi latérale qui est disposée en continu à partir de la section inférieure ; et une plaque supérieure qui fait face à la section inférieure et sur laquelle est disposée une buse d'éjection. Un matériau de dépôt en phase vapeur est logé dans un espace entouré par le corps de récipient et la plaque supérieure. Un premier mécanisme de chauffage fait face à la section de paroi latérale. Un second mécanisme de chauffage est disposé de façon à faire face à des sections latérales respectives de la plaque supérieure et de la buse d'éjection, et de manière à être espacée du premier mécanisme de chauffage dans la direction allant de la section inférieure à la plaque supérieure. Un premier réflecteur fait face au premier mécanisme de chauffage et est disposé sur le côté en regard de la section de paroi latérale. Un second réflecteur fait face au second mécanisme de chauffage et est disposé sur le côté en regard des sections latérales, et est disposé de manière à être espacé dans la direction mentionnée ci-dessus du premier réflecteur.
(JA)
【課題】蒸着材料による噴出ノズルの閉塞を抑制する。 【解決手段】蒸着源において、蒸発容器は、底部と上記底部に連設された側壁部とを含む容器本体と、上記底部に対向し、噴出ノズルが設けられた天板とを有し、上記容器本体と上記天板とによって囲まれた空間に蒸着材料が収容される。第1加熱機構は、上記側壁部に対向する。第2加熱機構は、上記天板及び上記噴出ノズルのそれぞれの側部に対向し、上記第1加熱機構とは上記底部から上記天板に向かう方向に離間して設けられる。第1リフレクタは、上記第1加熱機構と対向し、上記側壁部の反対側に設けられる。第2リフレクタは、上記第2加熱機構と対向し、上記側部の反対側に設けられ、上記第1リフレクタとは上記方向に離間して設けられる。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報