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1. WO2021045203 - 高分子材料及びその製造方法

公開番号 WO/2021/045203
公開日 11.03.2021
国際出願番号 PCT/JP2020/033642
国際出願日 04.09.2020
IPC
C08G 77/42 2006.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
G炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物
77高分子の主鎖にいおう,窒素,酸素または炭素を有しまたは有せずにけい素を含む連結基を形成する反応により得られる高分子化合物
42ポリシロキサン連鎖を含むブロックまたはグラフト重合体
C08G 81/00 2006.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
G炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物
81単量体の不存在下に重合体を相互に反応することにより得られる高分子化合物,例.ブロック重合体
C08L 5/16 2006.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
L高分子化合物の組成物
5グループC08L1/00またはC08L3/00に属さない多糖類またはその誘導体の組成物
16シクロデキストリン;その誘導体
C08L 83/04 2006.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
L高分子化合物の組成物
83主鎖のみにいおう,窒素,酸素または炭素を含みまたは含まずにけい素を含む結合を形成する反応によって得られる高分子化合物の組成物;そのような重合体の誘導体の組成物
04ポリシロキサン
CPC
C08G 77/42
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
77Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
42Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences
C08G 81/00
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
81Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers in the absence of monomers, e.g. block polymers
C08L 5/16
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
5Compositions of polysaccharides or of their derivatives not provided for in groups C08L1/00 or C08L3/00
16Cyclodextrin; Derivatives thereof
C08L 83/04
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
83Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
04Polysiloxanes
出願人
  • 国立大学法人大阪大学 OSAKA UNIVERSITY [JP]/[JP]
発明者
  • ▲高▼島 義徳 TAKASHIMA, Yoshinori
  • 原田 明 HARADA, Akira
  • 山口 浩靖 YAMAGUCHI, Hiroyasu
  • 大▲崎▼ 基史 OSAKI, Motofumi
  • 吉田 大地 YOSHIDA, Daichi
代理人
  • 特許業務法人三枝国際特許事務所 SAEGUSA & PARTNERS
優先権情報
2019-16244105.09.2019JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) POLYMER MATERIAL AND PRODUCTION METHOD THEREFOR
(FR) MATÉRIAU POLYMÈRE ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) 高分子材料及びその製造方法
要約
(EN)
Provided are: a polymer material that has a polysiloxane backbone and that has excellent mechanical properties and high hygroscopicity; and a production method for the polymer material. The present invention is a polymer material having a polysiloxane backbone, wherein the polysiloxane backbone has, at a side chain thereof, a constituent unit represented by general formula (1): -R1-RH (in formula (1), R1 represents NH or O, and RH represents a host group). The host group is a monovalent group in which a hydrogen atom or a hydroxy group is removed from a cyclodextrin or a cyclodextrin derivative. The cyclodextrin derivative has a structure obtained by substituting the hydrogen atom of at least one hydroxy group possessed by a cyclodextrin, with at least one group selected from the group consisting of hydrocarbon groups, acyl groups, and -CONHR (R represents a methyl group or an ethyl group).
(FR)
L'invention concerne : un matériau polymère qui a un squelette de polysiloxane et qui présente d'excellentes propriétés mécaniques et une hygroscopicité élevée ; et un procédé de production du matériau polymère. La présente invention concerne un matériau polymère ayant un squelette de polysiloxane, le squelette de polysiloxane ayant, au niveau d'une chaîne latérale de celui-ci, un motif constitutif représenté par la formule générale (1) : -R1-RH (dans la formule (1), R1 représente NH ou O, et RH représente un groupe hôte). Le groupe hôte est un groupe monovalent dans lequel un atome d'hydrogène ou un groupe hydroxy est éliminé d'une cyclodextrine ou d'un dérivé de cyclodextrine. Le dérivé de cyclodextrine a une structure obtenue en substituant l'atome d'hydrogène d'au moins un groupe hydroxyle possédé par une cyclodextrine par au moins un groupe choisi dans le groupe constitué par les groupes hydrocarbonés, les groupes acyle, et -CONHR (où R est un groupe méthyle ou un groupe éthyle).
(JA)
機械特性に優れ、高い吸湿性を備えたポリシロキサン骨格を有する高分子材料及びその製造方法を提供する。 本発明は、ポリシロキサン骨格を有する高分子材料であって、前記ポリシロキサン骨格は側鎖に下記一般式(1) -R-R (1) (式(1)中、RはNH又はOを示し、Rはホスト基を示す。) で表される構成単位を有し、前記ホスト基は、シクロデキストリン又はシクロデキストリン誘導体から1個の水素原子又は水酸基が除された1価の基であり、前記シクロデキストリン誘導体は、シクロデキストリンが有する少なくとも1個の水酸基の水素原子が炭化水素基、アシル基及び-CONHR(Rはメチル基又はエチル基)からなる群より選ばれる少なくとも1種の基で置換された構造を有する。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報