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1. WO2021033714 - 描画装置および偏向器

公開番号 WO/2021/033714
公開日 25.02.2021
国際出願番号 PCT/JP2020/031271
国際出願日 19.08.2020
IPC
H01J 37/305 2006.01
H電気
01基本的電気素子
J電子管または放電ランプ
37放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
30物体の局所的な処理のための電子ビームまたはイオンビーム管
305鋳造する,溶かす,脱水するまたはエッチングするためのもの
G03F 7/20 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20露光;そのための装置
H01L 21/027 2006.01
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02半導体装置またはその部品の製造または処理
027その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループH01L21/18またはH01L21/34に分類されないもの
出願人
  • 株式会社ニューフレアテクノロジー NUFLARE TECHNOLOGY, INC. [JP]/[JP]
発明者
  • 岸 和宏 KISHI Kazuhiro
  • 小笠原 宗博 OGASAWARA Munehiro
代理人
  • 中村 行孝 NAKAMURA Yukitaka
  • 朝倉 悟 ASAKURA Satoru
  • 関根 毅 SEKINE Takeshi
  • 赤岡 明 AKAOKA Akira
優先権情報
2019-15025120.08.2019JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) DRAWING DEVICE AND DEFLECTOR
(FR) DISPOSITIF D'ÉTIRAGE ET DÉFLECTEUR
(JA) 描画装置および偏向器
要約
(EN)
[Problem] To provide a drawing device and a deflector that make it possible to improve the accuracy of blanking control of a charged particle beam while also curbing charge-up of an electrode of the deflector. [Solution] A blanking deflector according to the present embodiment is provided with: a first electrode including a first insulator, a first material film that covers the entire surface of the first insulator and has a lower resistance than the first insulator, and a first low-resistivity film that covers all or part of the surface of the first material film and has a lower resistance than the first material film; and a second electrode including a second insulator, a second material film that covers the entire surface of the second insulator and has a lower resistance than the second insulator, and a second low-resistivity film that covers all or part of the surface of the second material film and has a lower resistance than the second material film. The blanking deflector controls whether to have a charged particle beam pass between the first electrode and the second electrode to irradiate a sample therewith.
(FR)
[Problème] Fournir un dispositif d'étirage et un déflecteur qui permettent d'améliorer la précision de commande d'étirage d'un faisceau de particules chargées tout en freinant également la charge d'une électrode du déflecteur. [Solution] Un déflecteur d'étirage selon le présent mode de réalisation est pourvu : d'une première électrode incluant un premier isolant, un premier film de matériau qui recouvre la totalité de la surface du premier isolant et présente une résistance inférieure à celle du premier isolant, et un premier film à faible résistivité qui recouvre tout ou partie de la surface du premier film de matériau et présente une résistance inférieure à celle du premier film de matériau; et d'une seconde électrode incluant un second isolant, un second film de matériau qui recouvre la totalité de la surface du second isolant et présente une résistance inférieure à celle du second isolant, et un second film à faible résistivité qui recouvre tout ou partie de la surface du second film de matériau et présente une résistance inférieure à celle du second film de matériau. Le déflecteur d'étirage commande s'il faut ou non qu'un faisceau de particules chargées passe entre la première électrode et la seconde électrode pour irradier un échantillon avec celui-ci.
(JA)
[課題]偏向器の電極のチャージアップを抑制しつつ、荷電粒子ビームのブランキング制御の精度を向上させることができる描画装置および偏向器を提供する。 【解決手段】本実施形態によるブランキング偏光器は、第1絶縁体と、第1絶縁体の表面全体を被覆し第1絶縁体よりも抵抗が低い第1材料膜と、第1材料膜の表面の一部または全部を被覆し第1材料膜よりも抵抗が低い第1低抵抗膜とを有する第1電極と、第2絶縁体と、第2絶縁体の表面全体を被覆し第2絶縁体よりも抵抗が低い第2材料膜と、第2材料膜の表面の一部または全部を被覆し第2材料膜よりも抵抗が低い第2低抵抗膜とを有する第2電極と、を備え、第1電極と第2電極との間に荷電粒子ビームを通過させて荷電粒子ビームを試料に照射するか否かを制御する。
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