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1. WO2021002234 - 重合体、組成物、処理基材、処理基材の製造方法及び部材の製造方法

公開番号 WO/2021/002234
公開日 07.01.2021
国際出願番号 PCT/JP2020/024401
国際出願日 22.06.2020
IPC
C08F 220/18 2006.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
220ただ1つの炭素―炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,そのうちのただ1つの脂肪族基がただ1つのカルボキシル基によって停止されている化合物.その塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの共重合体
029個以下の炭素原子をもつモノカルボン酸;その誘導体
10エステル
12一価のアルコールまたはフェノールのエステル
16フェノールまたは2個以上の炭素原子をもつアルコールのエステル
18アクリル酸またはメタクリル酸との
C08F 220/24 2006.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
220ただ1つの炭素―炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,そのうちのただ1つの脂肪族基がただ1つのカルボキシル基によって停止されている化合物.その塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの共重合体
029個以下の炭素原子をもつモノカルボン酸;その誘導体
10エステル
22ハロゲンを含有するエステル
24パーハロアルキル基を含有するもの
G03F 7/038 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
038不溶性又は特異的に親水性になる高分子化合物
G03F 7/039 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
039光分解可能な高分子化合物,例.ポジ型電子レジスト
G03F 7/09 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
09構造の細部,例.支持体,補助層,に特徴のあるもの
G03F 7/20 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20露光;そのための装置
出願人
  • AGC株式会社 AGC INC. [JP]/[JP]
発明者
  • 桜田 智明 SAKURADA Tomoaki
  • 佐々木 崇 SASAKI Takashi
  • 平野 遼 HIRANO Ryo
代理人
  • 特許業務法人T.S.パートナーズ T.S. PARTNERS
  • 小川 利春 OGAWA Toshiharu
  • 金 鎭文 KIM Jin-Moon
  • 比企野 健 HIKINO Ken
  • 横井 大一郎 YOKOI Daiichiro
優先権情報
2019-12325901.07.2019JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) POLYMER, COMPOSITION, PROCESSED SUBSTRATE, METHOD FOR MANUFACTURING PROCESSED SUBSTRATE, AND METHOD FOR MANUFACTURING MEMBER
(FR) POLYMÈRE, COMPOSITION, SUBSTRAT TRAITÉ, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN SUBSTRAT TRAITÉ, ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN ÉLÉMENT
(JA) 重合体、組成物、処理基材、処理基材の製造方法及び部材の製造方法
要約
(EN)
Provided are a polymer, a composition, a processed substrate, a method for manufacturing a processed substrate, and a method for manufacturing a member, whereby adhesion to the surface of the substrate can be improved, it is possible to form a liquid-repellent film in which the yield rate of a fine pattern is enhanced, and it is possible to remove the formed liquid-repellent film using a fluorine-based solvent without decreasing the performance of a functional member. A polymer having a unit (u1), a unit (u2), and a unit (u3). Unit (u1): a unit derived from a monomer m1 in which the surface energy of a homopolymer thereof is less than 25 mN/m. Unit (u2): a unit derived from a monomer m2 for which the absolute value of the difference between the octanol-water partition coefficient of the monomer before and after light exposure when the monomer together with a photoacid generator is exposed at a wavelength that decomposes the photoacid generator is 0.3 or greater. Unit (u3): a unit derived from a monomer m3 in which the surface energy of a homopolymer thereof is 25 mN/m or greater.
(FR)
L'invention concerne un polymère, une composition, un substrat traité, un procédé de fabrication d'un substrat traité, et un procédé de fabrication d'un élément, permettant d'améliorer l'adhérence à la surface du substrat, de former un film repoussant les liquides dans lequel le taux de rendement d'un motif fin est amélioré, et de retirer, à l'aide d'un solvant à base de fluor, le film repoussant les liquides formé, sans diminuer les performances d'un élément fonctionnel. L'invention concerne également un polymère ayant une unité (u1), une unité (u2) et une unité (u3). Unité (u1) : une unité dérivée d'un monomère m1 dans lequel l'énergie de surface d'un homopolymère de celui-ci est inférieure à 25 mN/m. Unité (u2) : une unité dérivée d'un monomère m2 pour lequel la valeur absolue de la différence entre le coefficient de partage octanol-eau du monomère avant et après exposition à la lumière lorsque le monomère conjointement à un générateur de photoacide est exposé à une longueur d'onde qui décompose le générateur de photoacide est de 0,3 ou plus. Unité (u3) : une unité dérivée d'un monomère m3 dans lequel l'énergie de surface d'un homopolymère de celui-ci est de 25 mN/m ou plus.
(JA)
基材の表面に対する密着性が改善し、微細パターンの歩留り率が向上した撥液性膜を形成でき、機能性部材の性能が低下することなく形成した撥液性膜をフッ素系溶媒で除去できる、重合体、組成物、処理基材、処理基材の製造方法及び部材の製造方法の提供。 下記単位(u1)と、下記単位(u2)と、下記単位(u3)とを有する重合体。 単位(u1): ホモポリマーの表面エネルギーが25mN/m未満である単量体m1に由来する単位 単位(u2): 単量体を光酸発生剤とともに、光酸発生剤が分解する波長で露光した際の露光の前後の単量体のオクタノール-水分配係数の差の絶対値が0.3以上である単量体m2に由来する単位 単位(u3): ホモポリマーの表面エネルギーが25mN/m以上であり、単量体m3に由来する単位
国際事務局に記録されている最新の書誌情報