(EN) Provided are a polymer, a composition, a processed substrate, a method for manufacturing a processed substrate, and a method for manufacturing a member, whereby adhesion to the surface of the substrate can be improved, it is possible to form a liquid-repellent film in which the yield rate of a fine pattern is enhanced, and it is possible to remove the formed liquid-repellent film using a fluorine-based solvent without decreasing the performance of a functional member. A polymer having a unit (u1), a unit (u2), and a unit (u3). Unit (u1): a unit derived from a monomer m1 in which the surface energy of a homopolymer thereof is less than 25 mN/m. Unit (u2): a unit derived from a monomer m2 for which the absolute value of the difference between the octanol-water partition coefficient of the monomer before and after light exposure when the monomer together with a photoacid generator is exposed at a wavelength that decomposes the photoacid generator is 0.3 or greater. Unit (u3): a unit derived from a monomer m3 in which the surface energy of a homopolymer thereof is 25 mN/m or greater.
(FR) L'invention concerne un polymère, une composition, un substrat traité, un procédé de fabrication d'un substrat traité, et un procédé de fabrication d'un élément, permettant d'améliorer l'adhérence à la surface du substrat, de former un film repoussant les liquides dans lequel le taux de rendement d'un motif fin est amélioré, et de retirer, à l'aide d'un solvant à base de fluor, le film repoussant les liquides formé, sans diminuer les performances d'un élément fonctionnel. L'invention concerne également un polymère ayant une unité (u1), une unité (u2) et une unité (u3). Unité (u1) : une unité dérivée d'un monomère m1 dans lequel l'énergie de surface d'un homopolymère de celui-ci est inférieure à 25 mN/m.
Unité (u2) : une unité dérivée d'un monomère m2 pour lequel la valeur absolue de la différence entre le coefficient de partage octanol-eau du monomère avant et après exposition à la lumière lorsque le monomère conjointement à un générateur de photoacide est exposé à une longueur d'onde qui décompose le générateur de photoacide est de 0,3 ou plus. Unité (u3) : une unité dérivée d'un monomère m3 dans lequel l'énergie de surface d'un homopolymère de celui-ci est de 25 mN/m ou plus.
(JA) 基材の表面に対する密着性が改善し、微細パターンの歩留り率が向上した撥液性膜を形成でき、機能性部材の性能が低下することなく形成した撥液性膜をフッ素系溶媒で除去できる、重合体、組成物、処理基材、処理基材の製造方法及び部材の製造方法の提供。 下記単位（ｕ１）と、下記単位（ｕ２）と、下記単位（ｕ３）とを有する重合体。 単位（ｕ１）： ホモポリマーの表面エネルギーが２５ｍＮ／ｍ未満である単量体ｍ１に由来する単位 単位（ｕ２）： 単量体を光酸発生剤とともに、光酸発生剤が分解する波長で露光した際の露光の前後の単量体のオクタノール－水分配係数の差の絶対値が０．３以上である単量体ｍ２に由来する単位 単位（ｕ３）： ホモポリマーの表面エネルギーが２５ｍＮ／ｍ以上であり、単量体ｍ３に由来する単位