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1. WO2020262679 - 波長選択フィルタ、表示体、光学デバイス、および、波長選択フィルタの製造方法

公開番号 WO/2020/262679
公開日 30.12.2020
国際出願番号 PCT/JP2020/025397
国際出願日 26.06.2020
IPC
G02B 5/28 2006.1
G物理学
02光学
B光学要素,光学系,または光学装置
5レンズ以外の光学要素
20フィルター
28干渉フィルター
G02B 5/18 2006.1
G物理学
02光学
B光学要素,光学系,または光学装置
5レンズ以外の光学要素
18回折格子
G02B 5/26 2006.1
G物理学
02光学
B光学要素,光学系,または光学装置
5レンズ以外の光学要素
20フィルター
26反射フィルター
H01L 31/0232 2014.1
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
31赤外線,可視光,短波長の電磁波,または粒子線輻射に感応する半導体装置で,これらの輻射線エネルギーを電気的エネルギーに変換するかこれらの輻射線によって電気的エネルギーを制御かのどちらかに特に適用されるもの;それらの装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置;それらの細部
02細部
0232装置と結合した光学素子または光学装置
H01L 31/10 2006.1
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
31赤外線,可視光,短波長の電磁波,または粒子線輻射に感応する半導体装置で,これらの輻射線エネルギーを電気的エネルギーに変換するかこれらの輻射線によって電気的エネルギーを制御かのどちらかに特に適用されるもの;それらの装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置;それらの細部
08輻射線が装置内を流れる電流を制御するもの,例.光―抵抗器(フォト―レジスター)
10少なくとも1つの電位障壁または表面障壁に特徴のあるもの,例.フォトトランジスタ
H04N 5/369 2011.1
H電気
04電気通信技術
N画像通信,例.テレビジョン
5テレビジョン方式の細部
30光または類似信号から電気信号への変換
335固体撮像素子を用いるもの
369固体撮像素子の構造,固体撮像素子と関連する回路に特徴のあるもの
CPC
G02B 5/18
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
18Diffraction gratings
G02B 5/26
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
20Filters
26Reflecting filters
G02B 5/28
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
20Filters
28Interference filters
H01L 31/0232
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
31Semiconductor devices sensitive to infra-red radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
02Details
0232Optical elements or arrangements associated with the device
H01L 31/10
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
31Semiconductor devices sensitive to infra-red radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
08in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors
10characterised by at least one potential-jump barrier or surface barrier, e.g. phototransistors
H04N 5/369
HELECTRICITY
04ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
NPICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
5Details of television systems
30Transforming light or analogous information into electric information
335using solid-state image sensors [SSIS]
369SSIS architecture; Circuitry associated therewith
出願人
  • 凸版印刷株式会社 TOPPAN INC. [JP]/[JP]
発明者
  • 川下 雅史 KAWASHITA Masashi
  • 小田 ゆかり ODA Yukari
代理人
  • 恩田 誠 ONDA Makoto
  • 恩田 博宣 ONDA Hironori
優先権情報
2019-12010327.06.2019JP
2019-12010427.06.2019JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (ja)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) WAVELENGTH SELECTION FILTER, DISPLAY BODY, OPTICAL DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING WAVELENGTH SELECTION FILTER
(FR) FILTRE DE SÉLECTION DE LONGUEUR D'ONDE, CORPS D'AFFICHAGE, DISPOSITIF OPTIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN FILTRE DE SÉLECTION DE LONGUEUR D'ONDE
(JA) 波長選択フィルタ、表示体、光学デバイス、および、波長選択フィルタの製造方法
要約
(EN) This optical device is provided with: a surface relief structural layer having on a surface thereof a surface relief structure consisting of a plurality of protruding portions arranged with a sub-wavelength period; a high refractive index layer which is positioned on the surface relief structure and which has a surface shape that follows the surface relief structure; and a low refractive index layer which is positioned on the high refractive index layer and which has a surface shape that follows the recesses and protrusions on the surface of the high refractive index layer. The high refractive index layer includes: a first grating high refractive index portion which is positioned on a bottom portion of the surface relief structure and which forms a sub-wavelength grating; and a second grating high refractive index portion which is positioned on a top portion of the surface relief structure and which forms the sub-wavelength grating. The refractive index of the high refractive index layer is higher than the refractive indexes of both the surface relief structural layer and the low refractive index layer.
(FR) Selon la présente invention, ce dispositif optique est pourvu : d'une couche structurelle en relief de surface ayant sur une surface associée une structure en relief de surface constituée d'une pluralité de parties en saillie agencées avec une période de sous-longueur d'onde ; une couche à indice de réfraction élevé qui est positionnée sur la structure en relief de surface et qui a une forme de surface qui suit la structure en relief de surface ; et une couche à faible indice de réfraction qui est positionnée sur la couche à indice de réfraction élevé et qui a une forme de surface qui suit les creux et les saillies sur la surface de la couche à indice de réfraction élevé. La couche à indice de réfraction élevé comprend : une première partie à indice de réfraction élevé de réseau qui est positionnée sur une partie inférieure de la structure en relief de surface et qui forme un réseau de sous-longueur d'onde ; et une deuxième partie à indice de réfraction élevé de réseau qui est positionnée sur une partie supérieure de la structure en relief de surface et qui forme le réseau de sous-longueur d'onde. L'indice de réfraction de la couche à indice de réfraction élevé est supérieur aux indices de réfraction de la couche structurale en relief de surface et de la couche à faible indice de réfraction.
(JA) 光学デバイスは、サブ波長周期で並ぶ複数の凸部が構成する凹凸構造を表面に有する凹凸構造層と、凹凸構造上に位置して当該凹凸構造に追従した表面形状を有する高屈折率層と、高屈折率層上に位置して当該高屈折率層の表面の凹凸に追従した表面形状を有する低屈折率層とを備える。高屈折率層は、凹凸構造の底部に位置してサブ波長格子を構成する第1格子高屈折率部、および、凹凸構造の頂部に位置してサブ波長格子を構成する第2格子高屈折率部を含む。高屈折率層の屈折率は、凹凸構造層および低屈折率層の各々の屈折率よりも高い。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報