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1. WO2020262586 - フィルム、積層体、フィルム層付き半導体ウェハ、フィルム層付き半導体搭載用基板、及び半導体装置

公開番号 WO/2020/262586
公開日 30.12.2020
国際出願番号 PCT/JP2020/025149
国際出願日 26.06.2020
IPC
B32B 27/34 2006.1
B処理操作;運輸
32積層体
B積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
27本質的に合成樹脂からなる積層体
34ポリアミドからなるもの
C08F 22/40 2006.1
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
22ただ1つの炭素-炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,その少なくとも1つがカルボキシル基によって停止されており,そして分子中に少なくとも1個の他のカルボキシル基を含有する化合物,その塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの単独重合体または共重合体
36アミドまたはイミド
40イミド,例.環状イミド
C08L 35/00 2006.1
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
L高分子化合物の組成物
35ただ1つの炭素―炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,その少なくとも1つがカルボキシル基によって停止されており,そして分子中に少なくとも1個の他のカルボキシル基をもつ化合物,その塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの単独重合体または共重合体の組成物;そのような重合体の誘導体の組成物
C08L 61/34 2006.1
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
L高分子化合物の組成物
61アルデヒドまたはケトンの縮重合体の組成物;そのような重合体の誘導体の組成物
34アルデヒドまたはケトンとグループC08L61/04,C08L61/18およびC08L61/20の少なくとも2個に属する単量体との縮重合体
H01L 21/60 2006.1
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02半導体装置またはその部品の製造または処理
04少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
50サブグループH01L21/06~H01L21/326の一つに分類されない方法または装置を用いる半導体装置の組立
60動作中の装置にまたは装置から電流を流すためのリードまたは他の導電部材の取り付け
C08K 3/013 2018.1
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
K無機または非高分子有機物質の添加剤としての使用(ペイント,インキ,ワニス,染料,艶出剤,接着剤C09)
3無機物質の添加剤としての使用
01特定の機能に特徴のあるもの
013充填剤,顔料または補強剤
CPC
B32B 27/34
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
27Layered products comprising ; a layer of; synthetic resin
34comprising polyamides
C08F 22/40
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
22Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical and containing at least one other carboxyl radical in the molecule; Salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof
36Amides or imides
40Imides, e.g. cyclic imides
C08K 3/013
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
3Use of inorganic substances as compounding ingredients
01characterized by their specific function
013Fillers, pigments or reinforcing additives
C08L 35/00
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
35Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a carboxyl radical, and containing at least one other carboxyl radical in the molecule, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
C08L 61/34
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
61Compositions of condensation polymers of aldehydes or ketones
34Condensation polymers of aldehydes or ketones with monomers covered by at least two of the groups C08L61/04, C08L61/18 and C08L61/20
出願人
  • 三菱瓦斯化学株式会社 MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. [JP]/[JP]
発明者
  • 岡庭 正志 OKANIWA, Masashi
  • 東口 鉱平 HIGASHIGUCHI, Kohei
  • 関戸 隆人 SEKIDO, Takahito
  • 高野 健太郎 TAKANO, Kentaro
  • 木田 剛 KIDA, Tsuyoshi
代理人
  • 稲葉 良幸 INABA, Yoshiyuki
  • 大貫 敏史 ONUKI, Toshifumi
  • 内藤 和彦 NAITO, Kazuhiko
優先権情報
2019-12235228.06.2019JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (ja)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) FILM, MULTILAYER BODY, SEMICONDUCTOR WAFER WITH FILM LAYER, SUBSTRATE FOR MOUNTING SEMICONDUCTOR WITH FILM LAYER, AND SEMICONDUCTOR DEVICE
(FR) FILM, CORPS MULTICOUCHE, TRANCHE DE SEMI-CONDUCTEUR AVEC COUCHE DE FILM, SUBSTRAT POUR MONTER UN SEMI-CONDUCTEUR AVEC UNE COUCHE DE FILM, ET DISPOSITIF À SEMI-CONDUCTEUR
(JA) フィルム、積層体、フィルム層付き半導体ウェハ、フィルム層付き半導体搭載用基板、及び半導体装置
要約
(EN) The present invention provides a film which contains: (A) a compound that contains at least one compound selected from the group consisting of maleimide compounds and citraconimide compounds; (B) an organic peroxide that contains at least one substance selected from the group consisting of organic peroxides represented by a specific formula; and (C) an imidazole compound that is represented by a specific formula.
(FR) La présente invention concerne un film qui contient : (A) un composé qui contient au moins un composé choisi dans le groupe constitué par des composés maléimide et des composés citraconimide ; (B) un peroxyde organique qui contient au moins une substance choisie dans le groupe constitué par des peroxydes organiques représentés par une formule spécifique ; et (C) un composé imidazole qui est représenté par une formule spécifique.
(JA) 本発明は、マレイミド化合物及びシトラコンイミド化合物からなる群より選択される少なくとも1種を含有する化合物(A)と、特定の式で表される有機過酸化物からなる群より選択される少なくとも1種を含有する有機過酸化物(B)と、特定の式で表されるイミダゾール化合物(C)と、を含有する、フィルムを提供する。
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