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1. WO2020262213 - 偏光板の製造方法

公開番号 WO/2020/262213
公開日 30.12.2020
国際出願番号 PCT/JP2020/024066
国際出願日 19.06.2020
IPC
G02B 5/30 2006.1
G物理学
02光学
B光学要素,光学系,または光学装置
5レンズ以外の光学要素
30偏光要素
CPC
G02B 5/30
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
30Polarising elements
出願人
  • 日東電工株式会社 NITTO DENKO CORPORATION [JP]/[JP]
発明者
  • 嶋津 亮 SHIMAZU Ryo
  • 後藤 周作 GOTO Shusaku
  • 森崎 真由美 MORISAKI Mayumi
代理人
  • 籾井 孝文 MOMII Takafumi
優先権情報
2019-11777425.06.2019JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (ja)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) POLARIZATION PLATE PRODUCTION METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE PLAQUE POLARISANTE
(JA) 偏光板の製造方法
要約
(EN) The present invention provides a polarization plate having high single body transmittance and excellent durability under a high temperature and high humidity environment, and a production method for such a polarization plate. This polarization plate production method comprises coating, on at least one of the surfaces of a polarization film, an acidic aqueous solution containing an acid component and having a pH of 2.5 or lower.
(FR) La présente invention concerne une plaque polarisante ayant une transmittance de corps unique élevée et une excellente durabilité dans un environnement à température élevée et humidité élevée, et un procédé de production d'une telle plaque polarisante. Ce procédé de production de plaque polarisante comprend le dépôt, sur au moins l'une des surfaces d'un film polarisant, d'une solution aqueuse acide contenant un composant acide et ayant un pH inférieur ou égal à 2,5.
(JA) 本発明は、高い単体透過率を有し、かつ、高温高湿環境下における耐久性に優れた偏光板およびそのような偏光板の製造方法を提供する。本発明の偏光板の製造方法は、酸成分を含み、pHが2.5以下である酸性水溶液を、偏光膜の少なくとも一方の面に塗布することを含む。
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