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1. WO2020262134 - 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の精製方法、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法

公開番号 WO/2020/262134
公開日 30.12.2020
国際出願番号 PCT/JP2020/023711
国際出願日 17.06.2020
IPC
C07C 25/18 2006.1
C化学;冶金
07有機化学
C非環式化合物または炭素環式化合物
256員芳香環に結合している少なくとも1個のハロゲン原子を含有する化合物
18ハロゲン化された多環式芳香族炭化水素
C07C 381/12 2006.1
C化学;冶金
07有機化学
C非環式化合物または炭素環式化合物
381炭素および硫黄を含有し,C07C301/00~C07C337/00のグループに包含されない官能基をもつ化合物
12スルホニウム化合物
C07D 217/08 2006.1
C化学;冶金
07有機化学
D複素環式化合物(高分子化合物C08)
217イソキノリン環系または水素添加したイソキノリン環系を含有する複素環式化合物
02窒素含有環の炭素原子に直接結合する水素原子,または炭素原子および水素原子のみを含有する基のみを有するもの;アルキレン―ビス―イソキノリン
08環の窒素原子に直接結合する異種原子を有するもの
C07D 327/04 2006.1
C化学;冶金
07有機化学
D複素環式化合物(高分子化合物C08)
327異項原子として酸素および硫黄原子のみをもつ環を含有する複素環式化合物
021個の酸素原子および1個の硫黄原子
045員環
C07D 327/06 2006.1
C化学;冶金
07有機化学
D複素環式化合物(高分子化合物C08)
327異項原子として酸素および硫黄原子のみをもつ環を含有する複素環式化合物
021個の酸素原子および1個の硫黄原子
066員環
C07D 333/46 2006.1
C化学;冶金
07有機化学
D複素環式化合物(高分子化合物C08)
333異項原子として1個の硫黄原子のみをもつ5員環を含有する複素環式化合物
02他の環と縮合していないもの
46環の硫黄原子が置換されたもの
CPC
C07C 25/18
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
25Compounds containing at least one halogen atom bound to a six-membered aromatic ring
18Polycyclic aromatic halogenated hydrocarbons
C07C 381/12
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
381Compounds containing carbon and sulfur and having functional groups not covered by groups C07C301/00 - C07C337/00
12Sulfonium compounds
C07D 217/08
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
217Heterocyclic compounds containing isoquinoline or hydrogenated isoquinoline ring systems
02with only hydrogen atoms or radicals containing only carbon and hydrogen atoms, directly attached to carbon atoms of the nitrogen-containing ring; Alkylene-bis-isoquinolines
08with a hetero atom directly attached to the ring nitrogen atom
C07D 285/15
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
285Heterocyclic compounds containing rings having nitrogen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by groups C07D275/00 - C07D283/00
15Six-membered rings
C07D 295/26
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
295Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2.] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms
22with hetero atoms directly attached to ring nitrogen atoms
26Sulfur atoms
C07D 327/04
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
327Heterocyclic compounds containing rings having oxygen and sulfur atoms as the only ring hetero atoms
02one oxygen atom and one sulfur atom
04Five-membered rings
出願人
  • 富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP]/[JP]
発明者
  • 丹呉 直紘 TANGO Naohiro
  • 山本 慶 YAMAMOTO Kei
  • 王 惠瑜 OU Keiyu
代理人
  • 伊東 秀明 ITOH Hideaki
  • 三橋 史生 MITSUHASHI Fumio
優先権情報
2019-12235428.06.2019JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (ja)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) PURIFICATION METHOD FOR ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN-FORMING METHOD, AND PRODUCTION METHOD FOR ELECTRONIC DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE PURIFICATION D'UNE COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AUX RAYONS ACTINIQUES OU SENSIBLE AU RAYONNEMENT, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
(JA) 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の精製方法、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法
要約
(EN) The present invention addresses the problem of providing a purification method for an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which can be used to form a pattern in which defects are inhibited. The present invention also addresses another problem of providing: a pattern-forming method including a purification step based on the purification method; and a method for producing an electronic device using the pattern-forming method. The purification method according to the present invention is for an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition containing at least a resin having polarity which increases due to action of an acid, a compound which generates an acid due to irradiation with an actinic ray or a radiation, and a solvent, wherein the compound which generates an acid due to irradiation with an actinic ray or a radiation, includes one or more compounds selected from the group consisting of compounds (I)-(III), and the method comprises step X for filtering the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition through two or more filters.
(FR) Le problème à résoudre par la présente invention concerne la fourniture d'un procédé de purification d'une composition de résine sensible aux rayons actiniques ou sensible au rayonnement qui peut être utilisée dans la formation d'un motif ayant des défauts inhibés. Le problème à résoudre par la présente invention concerne également la fourniture : d'un procédé de formation de motif comprenant une étape de purification basée sur le procédé de purification ; et d'un procédé de fabrication d'un dispositif électronique utilisant le procédé de formation de motif. La présente invention concerne un procédé de purification d'une composition de résine sensible aux rayons actiniques ou sensible au rayonnement contenant au moins une résine ayant une polarité pouvant augmenter par l'action d'un acide, un composé pouvant générer un acide par irradiation avec des rayons actiniques ou un rayonnement, et un solvant, le composé générant un acide par irradiation avec des rayons actiniques ou un rayonnement, comprenant un ou plusieurs composés choisis dans le groupe constitué par des composés (I) à (III), le procédé comprenant une étape X destinée à filtrer la composition de résine sensible aux rayons actiniques ou sensible au rayonnement par l'intermédiaire de deux filtres ou plus.
(JA) 本発明の課題は、欠陥が抑制されたパターンを形成し得る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の精製方法を提供することである。また、本発明の他の課題は、上記精製方法に基づく精製工程を含むパターン形成方法、及び、上記パターン形成方法を用いた電子デバイスの製造方法を提供することである。 本発明の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の精製方法は、酸の作用により極性が増大する樹脂と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、溶剤と、を少なくとも含む感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の精製方法であり、 上記活性光線又は放射線の照射によって酸を発生する化合物が、化合物(I)~化合物(III)からなる群より選ばれる1種以上の化合物を含み、 上記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を2種以上のフィルタに通過させてろ過する工程Xを含む。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報