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1. WO2020261949 - ウエハー試験装置

公開番号 WO/2020/261949
公開日 30.12.2020
国際出願番号 PCT/JP2020/022452
国際出願日 01.06.2020
IPC
H01L 21/66 2006.1
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
66製造または処理中の試験または測定
H01L 21/68 2006.1
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
67製造または処理中の半導体または電気的固体装置の取扱いに特に適用される装置;半導体または電気的固体装置もしくは構成部品の製造または処理中のウエハの取扱いに特に適用される装置
68位置決め,方向決め,または整列のためのもの
G01R 31/26 2020.1
G物理学
01測定;試験
R電気的変量の測定;磁気的変量の測定
31電気的性質を試験するための装置;電気的故障の位置を示すための装置;試験対象に特徴のある電気的試験用の装置で,他に分類されないもの
26個々の半導体装置の試験
G01R 31/28 2006.1
G物理学
01測定;試験
R電気的変量の測定;磁気的変量の測定
31電気的性質を試験するための装置;電気的故障の位置を示すための装置;試験対象に特徴のある電気的試験用の装置で,他に分類されないもの
28電子回路の試験,例.シグナルトレーサーによるもの
CPC
G01R 31/26
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
31Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
26Testing of individual semiconductor devices
G01R 31/28
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
31Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
H01L 21/68
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
68for positioning, orientation or alignment
出願人
  • 宮川 末晴 MIYAKAWA SUEHARU [JP]/[JP]
発明者
  • 宮川 末晴 MIYAKAWA SUEHARU
優先権情報
2019-13061026.06.2019JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (ja)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) WAFER TESTING APPARATUS
(FR) APPAREIL DE TEST DE TRANCHE
(JA) ウエハー試験装置
要約
(EN) [Problem] To provide a multi-stage wafer testing apparatus comprising a highly accurate position-aligning means, the apparatus not requiring a space for a wafer positioning unit under a wafer testing unit. The wafer testing apparatus is provided with a unit slide mechanism for sliding a wafer testing unit, and a means for causing a wafer tray mounting surface of a wafer positioning stage to follow an inclination of a wafer tray and for lifting and lowering the wafer tray mounting surface without changing the inclination. [Solution] Provided is a wafer testing apparatus 10 in which a wafer testing unit 20 is provided with a unit slide mechanism 28, making it possible to eliminate a space for a wafer positioning stage 32 under the wafer testing unit 20. The wafer positioning stage 32 is provided with an alignment stage rocking mechanism 40 and an alignment stage lifting/lowering mechanism 50 to enable lifting and lowering of the wafer tray 23 without changing the inclination thereof.
(FR) Le problème décrit par la présente invention est de fournir un appareil de test de tranche à plusieurs étages comprenant un moyen d'alignement de position hautement précis, l'appareil ne nécessitant pas d'espace pour une unité de positionnement de tranche sous une unité de test de tranche. L'appareil de test de tranche est pourvu d'un mécanisme de coulissement d'unité permettant de faire coulisser une unité de test de tranche et d'un moyen permettant d'amener une surface de montage de plateau de tranche d'un étage de positionnement de tranche à suivre une inclinaison d'un plateau de tranche et permettant de lever et d'abaisser la surface de montage de plateau de tranche sans changer l'inclinaison. La solution selon l'invention porte sur un appareil de test de tranche (10) dans lequel une unité de test de tranche (20) est pourvue d'un mécanisme de coulissement d'unité (28), permettant d'éliminer un espace pour un étage de positionnement de tranche (32) sous l'unité de test de tranche (20). L'étage de positionnement de tranche (32) est pourvu d'un mécanisme de basculement d'étage d'alignement (40) et d'un mécanisme de levage/abaissement d'étage d'alignement (50) permettant de lever et d'abaisser le plateau de tranche (23) sans changer son inclinaison.
(JA) 【課題】ウエハー試験ユニットをスライドさせるユニットスライド機構を備え、ウエハー位置決めステージのウエハートレー載置面をウエハートレーの傾きに追随させ、その傾きを変えることなく昇降させる手段を備えることで、ウエハー試験ユニットの下側にウエハー位置決めユニットのスペースを必要としない高精度の位置合せ手段を備える多段構成のウエハー試験装置を提供する。 【解決手段】ウエハー試験ユニット20にユニットスライド機構28を備えることで、前記ウエハー試験ユニット20の下側にウエハー位置決めステージ32のスペースを無くすことができ、前記ウエハー位置決めステージ32にアライメントステージ揺動機構40とアライメントステージ昇降機構50を備えることで前記ウエハートレー23の傾きを変えることなく昇降させ、高精度の位置合せが行えるウエハー試験装置10が実現できる。
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