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1. WO2020261784 - 感放射線性樹脂組成物の製造方法

公開番号 WO/2020/261784
公開日 30.12.2020
国際出願番号 PCT/JP2020/018971
国際出願日 12.05.2020
IPC
G03F 7/038 2006.1
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
038不溶性又は特異的に親水性になる高分子化合物
G03F 7/039 2006.1
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
039光分解可能な高分子化合物,例.ポジ型電子レジスト
CPC
G03F 7/038
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
G03F 7/039
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
039Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
出願人
  • 富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP]/[JP]
発明者
  • 田中 匠 TANAKA Takumi
  • 江副 博之 EZOE Hiroyuki
  • 原田 憲一 HARADA Kenichi
代理人
  • 中島 順子 NAKASHIMA Junko
  • 米倉 潤造 YONEKURA Junzo
  • 藤森 義真 FUJIMORI Yoshinao
  • 上出 真紀 KAMIDE Maki
優先権情報
2019-11723225.06.2019JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (ja)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) PRODUCTION METHOD FOR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UNE COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AU RAYONNEMENT
(JA) 感放射線性樹脂組成物の製造方法
要約
(EN) Provided is a production method for a radiation-sensitive resin composition in which variations in sensitivity after long-term storage are inhibited and which is used to form a pattern in which the occurrence of a defect is inhibited. This production method for a radiation-sensitive resin composition comprises: step 1 for putting, into a stirring tank, at least a resin having polarity which increases due to action of an acid, a photoacid generator, and a solvent; and step 2 for producing the radiation-sensitive resin composition by stirring and mixing, in the stirring tank, the resin having polarity which increases due to action of an acid, the photoacid generator, and the solvent in a gas in which the concentration of inert gas is 90 vol% or more, wherein, in step 2, the gas pressure inside the stirring tank is higher than the gas pressure outside the stirring tank, and, in step 2, the difference between the gas pressure inside the stirring tank and the gas pressure outside the stirring tank is 2.0 kPa or less.
(FR) L'invention concerne un procédé de production d'une composition de résine sensible au rayonnement dans laquelle des variations de sensibilité après un stockage à long terme sont inhibées et qui est utilisée pour former un motif dans lequel l'apparition d'un défaut est inhibée. Ce procédé de production d'une composition de résine sensible au rayonnement comprend : une étape 1 servant à mettre, dans un réservoir d'agitation, au moins une résine ayant une polarité qui augmente en raison de l'action d'un acide, un générateur de photoacide et un solvant ; et une étape 2 servant à produire la composition de résine sensible au rayonnement par l'agitation et le mélange, dans le réservoir d'agitation, de la résine ayant une polarité qui augmente en raison de l'action d'un acide, du générateur de photoacide et du solvant dans un gaz dans lequel la concentration de gaz inerte est de 90 % en volume ou plus. Dans l'étape 2, la pression de gaz à l'intérieur du réservoir d'agitation est supérieure à la pression de gaz à l'extérieur du réservoir d'agitation, et, dans l'étape 2, la différence entre la pression de gaz à l'intérieur du réservoir d'agitation et la pression de gaz à l'extérieur du réservoir d'agitation est de 2,0 kPa ou moins.
(JA) 形成されるパターンの欠陥の発生が抑制され、かつ、長期保管後の感度の変動が抑制された感放射線性樹脂組成物の製造方法を提供する。感放射線性樹脂組成物の製造方法は、撹拌槽に、少なくとも、酸の作用により極性が増大する樹脂、光酸発生剤、及び、溶剤を投入する工程1と、撹拌槽内において、不活性ガスの濃度が90体積%以上である気体の下、酸の作用により極性が増大する樹脂、光酸発生剤、及び、溶剤を撹拌混合して、感放射線性樹脂組成物を製造する工程2と、を有し、工程2において、撹拌槽内の気圧が撹拌槽外の気圧よりも高く、工程2において、撹拌槽内の気圧と撹拌槽外の気圧との差が2.0kPa以下である。
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