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1. WO2020261752 - 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の製造方法、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法

公開番号 WO/2020/261752
公開日 30.12.2020
国際出願番号 PCT/JP2020/018062
国際出願日 28.04.2020
IPC
C07C 309/17 2006.1
C化学;冶金
07有機化学
C非環式化合物または炭素環式化合物
309スルホン酸;そのハライド,エステルまたは無水物
01スルホン酸
02スルホン酸基が非環式炭素原子に結合しているもの
03非環式飽和炭素骨格の
17炭素骨格に結合しているカルボキシル基を含有するもの
C07C 309/42 2006.1
C化学;冶金
07有機化学
C非環式化合物または炭素環式化合物
309スルホン酸;そのハライド,エステルまたは無水物
01スルホン酸
28スルホン酸基が炭素骨格の6員芳香環の炭素原子に結合しているもの
41炭素骨格に結合している単結合の酸素原子を含有するもの
42非縮合6員芳香環環の炭素原子に結合しているスルホン酸基をもつもの
C07C 311/07 2006.1
C化学;冶金
07有機化学
C非環式化合物または炭素環式化合物
311スルホン酸アミド,すなわちスルホン酸基の単結合で結合している酸素原子がニトロまたはニトロソ基の一部でない窒素原子で置き換えられている化合物
01スルホン酸アミド基の硫黄原子が非環式炭素原子に結合しているもの
02非環式飽和炭素骨格の
07少なくとも1個のスルホン酸アミド基の窒素原子が6員芳香環以外の環の炭素原子に結合しているもの
C07C 311/48 2006.1
C化学;冶金
07有機化学
C非環式化合物または炭素環式化合物
311スルホン酸アミド,すなわちスルホン酸基の単結合で結合している酸素原子がニトロまたはニトロソ基の一部でない窒素原子で置き換えられている化合物
48スルホン酸アミド基の窒素原子がさらに他の異種原子に結合しているもの
C07C 311/51 2006.1
C化学;冶金
07有機化学
C非環式化合物または炭素環式化合物
311スルホン酸アミド,すなわちスルホン酸基の単結合で結合している酸素原子がニトロまたはニトロソ基の一部でない窒素原子で置き換えられている化合物
50以下のいずれかの基を含有する化合物「図」または「図」(Xは異種原子,Yは任意の原子を表わす)
51Yは水素または炭素原子であるもの
C09K 3/00 2006.1
C化学;冶金
09染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
K他に分類されない応用される物質;他に分類されない物質の応用
3物質であって,他に分類されないもの
CPC
C07C 309/17
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
309Sulfonic acids; Halides, esters, or anhydrides thereof
01Sulfonic acids
02having sulfo groups bound to acyclic carbon atoms
03of an acyclic saturated carbon skeleton
17containing carboxyl groups bound to the carbon skeleton
C07C 309/42
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
309Sulfonic acids; Halides, esters, or anhydrides thereof
01Sulfonic acids
28having sulfo groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton
41containing singly-bound oxygen atoms bound to the carbon skeleton
42having the sulfo groups bound to carbon atoms of non-condensed six-membered aromatic rings
C07C 311/07
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
311Amides of sulfonic acids, i.e. compounds having singly-bound oxygen atoms of sulfo groups replaced by nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups
01Sulfonamides having sulfur atoms of sulfonamide groups bound to acyclic carbon atoms
02of an acyclic saturated carbon skeleton
07having the nitrogen atom of at least one of the sulfonamide groups bound to a carbon atom of a ring other than a six-membered aromatic ring
C07C 311/48
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
311Amides of sulfonic acids, i.e. compounds having singly-bound oxygen atoms of sulfo groups replaced by nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups
48having nitrogen atoms of sulfonamide groups further bound to another hetero atom
C07C 311/51
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
311Amides of sulfonic acids, i.e. compounds having singly-bound oxygen atoms of sulfo groups replaced by nitrogen atoms, not being part of nitro or nitroso groups
50Compounds containing any of the groups , X being a hetero atom, Y being any atom
51Y being a hydrogen or a carbon atom
C09K 3/00
CCHEMISTRY; METALLURGY
09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
3Materials not provided for elsewhere
出願人
  • 富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP]/[JP]
発明者
  • 王 惠瑜 OU Keiyu
  • 丹呉 直紘 TANGO Naohiro
  • 山本 慶 YAMAMOTO Kei
  • 丸茂 和博 MARUMO Kazuhiro
代理人
  • 中島 順子 NAKASHIMA Junko
  • 米倉 潤造 YONEKURA Junzo
  • 藤森 義真 FUJIMORI Yoshinao
  • 上出 真紀 KAMIDE Maki
優先権情報
2019-12228828.06.2019JP
2020-03048026.02.2020JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (ja)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) METHOD FOR PRODUCING ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD, AND METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE À LA LUMIÈRE ACTIVE OU AU RAYONNEMENT ACTIF, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
(JA) 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の製造方法、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法
要約
(EN) One problem addressed by the present invention is to provide a method for producing an active light sensitive or radiation sensitive resin composition which is capable of forming a pattern that is suppressed in defects. Another problem addressed by the present invention is to provide: a pattern forming method which comprises the above-described method for producing an active light sensitive or radiation sensitive resin composition; and a method for producing an electronic device, said method using the above-described pattern forming method. A method for producing an active light sensitive or radiation sensitive resin composition according to the present invention produces an active light sensitive or radiation sensitive resin composition that contains at least a resin, which is decomposed by the action of an acid and the polarity of which is consequently increased, a compound that generates an acid when irradiated with active light or radiation, and a solvent; the compound that generates an acid when irradiated with active light or radiation comprises one or more compounds selected from the group consisting of compound (I) to compound (III); and an active light sensitive or radiation sensitive resin composition is produced by mixing one or more compounds that are selected from the group consisting of compound (I) to compound (III) and a first solution that contains the above-described resin, which is decomposed by the action of an acid and the polarity of which is consequently increased, and a first solvent.
(FR) Le premier problème abordé par la présente invention est de fournir un procédé de production d'une composition de résine sensible à la lumière active ou au rayonnement actif qui est capable de former un motif exempt de défauts. Un autre problème abordé par la présente invention est de fournir : un procédé de formation de motif qui comprend le procédé décrit ci-dessus pour produire une composition de résine sensible à la lumière active ou au rayonnement actif ; et un procédé de fabrication d'un dispositif électronique, ledit procédé utilisant le procédé de formation de motif décrit ci-dessus. La présente invention concerne un procédé de production d'une composition de résine sensible à la lumière active ou au rayonnement actif permettant de produire une composition de résine sensible à la lumière active ou au rayonnement actif qui contient au moins une résine décomposée par l'action d'un acide et dont la polarité est par conséquent augmentée, un composé destiné à générer un acide lorsqu'il est irradié par une lumière active ou un rayonnement actif, et un solvant ; le composé qui génère un acide lorsqu'il est irradié par une lumière active ou un rayonnement actif comprend un ou plusieurs composés choisis dans le groupe constitué par les composés (I) à (III) ; et une composition de résine sensible à la lumière active ou au rayonnement actif est produite par mélange d'un ou de plusieurs composés choisis dans le groupe constitué par les composés (I) à (III) et une première solution qui contient la résine décrite ci-dessus, qui est décomposée par l'action d'un acide et dont la polarité est par conséquent augmentée, et un premier solvant.
(JA) 本発明の課題は、欠陥が抑制されたパターンを形成し得る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の製造方法を提供することである。また、本発明の他の課題は、上記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の製造方法を含むパターン形成方法、及び、上記パターン形成方法を用いた電子デバイスの製造方法を提供することである。 本発明の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の製造方法は、酸の作用により分解して極性が増大する樹脂と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、溶剤と、を少なくとも含む感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の製造方法であり、上記活性光線又は放射線の照射によって酸を発生する化合物が、化合物(I)~下記化合物(III)からなる群より選ばれる1種以上の化合物を含み、上記酸の作用により分解して極性が増大する樹脂及び第1の溶剤を含む第1の溶液と、化合物(I)~化合物(III)からなる群より選ばれる1種以上の化合物と、を混合して感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を製造する方法である。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報