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1. WO2020261702 - Fe-Pt-BN系スパッタリングターゲット及びその製造方法

公開番号 WO/2020/261702
公開日 30.12.2020
国際出願番号 PCT/JP2020/015625
国際出願日 07.04.2020
IPC
C23C 14/34 2006.1
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
14被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22被覆の方法に特徴のあるもの
34スパッタリング
CPC
C23C 14/34
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
22characterised by the process of coating
34Sputtering
出願人
  • 田中貴金属工業株式会社 TANAKA KIKINZOKU KOGYO K.K. [JP]/[JP]
発明者
  • 山本 孝充 YAMAMOTO, Takamichi
  • 西浦 正紘 NISHIURA, Masahiro
  • 黒瀬 健太 KUROSE, Kenta
  • 小林 弘典 KOBAYASHI, Hironori
  • 宮下 敬史 MIYASHITA, Takanobu
  • 松田 朋子 MATSUDA, Tomoko
代理人
  • 山本 修 YAMAMOTO, Osamu
  • 宮前 徹 MIYAMAE, Toru
  • 中西 基晴 NAKANISHI, Motoharu
  • 松山 美奈子 MATSUYAMA, Minako
優先権情報
2019-12170228.06.2019JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (ja)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) FE-PT-BN-BASED SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
(FR) CIBLE DE PULVÉRISATION À BASE DE FE-PT-BN ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) Fe-Pt-BN系スパッタリングターゲット及びその製造方法
要約
(EN) Provided is a Fe-Pt-BN-based sputtering target which has a high relative density and can generate particles in a reduced amount. A Fe-Pt-BN-based sputtering target having such a property that, when a measurement is carried out by the below-mentioned procedure, a residue remaining after the dissolution of the sputtering target in aqua regia has a particle size distribution that D90 is 5.5 μm or less and the amount of fine particles each having a particle size of less than 1 μm is 35% or more. Procedure: (1) an about 4-square-millimeter specimen was cut out from the sputtering target and is then ground to prepare a ground product; (2) the ground product is sieved using sieves respectively having mesh opening sizes of 106 μm and 300 μm, and a powder that has passed through the 300-μm sieve and has remained on the 106-μm sieve is collected; (3) the powder is immersed in aqua regia that is heated to 200℃ to prepare a residue-containing solution in which the powder is dissolved; (4) the residue-containing solution is filtrated through a paper filter No. 5 A as prescribed in JIS P 3801, and then a residue on the paper filter is dried at 80℃ to prepare a residue powder; (5) the residue powder is dispersed in water containing a surfactant to prepare a sample solution; and (6) the sample solution is applied to a particle size analyzer to measure a particle size distribution.
(FR) L'invention concerne une cible de pulvérisation à base de Fe-Pt-BN qui a une densité relative élevée et peut générer des particules en quantité réduite. L'invention concerne une cible de pulvérisation à base de Fe-Pt-BN ayant une propriété telle que, lorsqu'une mesure est effectuée par la procédure mentionnée ci-après, un résidu restant après la dissolution de la cible de pulvérisation dans l'eau régale a une distribution de tailles des particules telle que D90 est de 5,5 µm ou moins et la quantité de particules fines ayant chacune une taille de particule inférieure à 1 µm est de 35 % ou plus. Procédure : (1) un échantillon d'environ 4 millimètres carrés a été découpé de la cible de pulvérisation et est ensuite broyé pour préparer un produit broyé ; (2) le produit broyé est tamisé à l'aide de tamis ayant respectivement des tailles d'ouverture de maille de 106 µm et 300 µm, et une poudre qui est passée à travers le tamis de 300 µm et qui est restée sur le tamis de 106 µm est collectée ; (3) la poudre est immergée dans de l'eau régale qui est chauffée à 200 °C pour préparer une solution contenant des résidus dans laquelle la poudre est dissoute ; (4) la solution contenant des résidus est filtrée à travers un filtre de papier n° 5 A selon la norme JIS P 3801, puis un résidu sur le filtre de papier est séché à 80 °C pour préparer une poudre résiduelle ; (5) la poudre résiduelle est dispersée dans de l'eau contenant un tensioactif pour préparer une solution-échantillon ; et (6) la solution-échantillon est appliquée à un analyseur de taille de particule pour mesurer une distribution de tailles des particules.
(JA) 相対密度が高く、パーティクル発生が少ないFe-Pt-BN系スパッタリングターゲットを提供する。 下記手順で測定した場合に、王水溶解後の残渣は、D90が5.5μm以下であり、1μm未満の微細粒子が35%以下である粒度分布を有するFe-Pt-BN系スパッタリングターゲット。手順:(1)スパッタリングターゲットから約4mm角の試料片を切断して粉砕し、粉砕物を調製し、(2)粉砕物を目開き106μm及び300μmの篩を用いて分級し、300μmの篩を通過し106μmの篩上に残った粉末を採取し、(3)粉末を、200℃に加熱した王水中に浸漬し、粉末を溶解させた残渣含有溶液を調製し、(4)残渣含有溶液をJIS P 3801に規定される5種Aのろ紙でろ過し、ろ紙上の残渣を80℃で乾燥させて、残渣粉末を調製し、(5)残渣粉末を、界面活性剤を含む水に分散させて、試料溶液を調製し、(6)試料溶液を粒度分析計にかけ、粒度分布を測定する。
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