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1. WO2020246344 - 半導体記憶装置

公開番号 WO/2020/246344
公開日 10.12.2020
国際出願番号 PCT/JP2020/020975
国際出願日 27.05.2020
IPC
H01L 21/8238 2006.1
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
701つの共通基板内または上に形成された複数の固体構成部品または集積回路からなる装置またはその特定部品の製造または処理;集積回路装置またはその特定部品の製造
771つの共通基板内または上に形成される複数の固体構成部品または集積回路からなる装置の製造または処理
78複数の別個の装置に基板を分割することによるもの
82それぞれが複数の構成部品からなる装置,例.集積回路の製造
822基板がシリコン技術を用いる半導体であるもの
8232電界効果技術
8234MIS技術
8238相補型電界効果トランジスタ,例.CMOS
H01L 27/092 2006.1
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
271つの共通基板内または上に形成された複数の半導体構成部品または他の固体構成部品からなる装置
02整流,発振,増幅またはスイッチングに特に適用される半導体構成部品を含むものであり,少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有するもの;少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有する集積化された受動回路素子を含むもの
04基板が半導体本体であるもの
081種類の半導体構成部品だけを含むもの
085電界効果構成部品のみを含むもの
088構成部品が絶縁ゲートを有する電界効果トランジスタであるもの
092相補型MIS電界効果トランジスタ
H01L 21/8244 2006.1
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
701つの共通基板内または上に形成された複数の固体構成部品または集積回路からなる装置またはその特定部品の製造または処理;集積回路装置またはその特定部品の製造
771つの共通基板内または上に形成される複数の固体構成部品または集積回路からなる装置の製造または処理
78複数の別個の装置に基板を分割することによるもの
82それぞれが複数の構成部品からなる装置,例.集積回路の製造
822基板がシリコン技術を用いる半導体であるもの
8232電界効果技術
8234MIS技術
8239メモリ構造
8244スタティックランダムアクセスメモリ構造(SRAM)
H01L 27/11 2006.1
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
271つの共通基板内または上に形成された複数の半導体構成部品または他の固体構成部品からなる装置
02整流,発振,増幅またはスイッチングに特に適用される半導体構成部品を含むものであり,少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有するもの;少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有する集積化された受動回路素子を含むもの
04基板が半導体本体であるもの
10複数の個々の構成部品を反復した形で含むもの
105電界効果構成部品を含むもの
11スタティックランダムアクセスメモリ構造
G11C 11/412 2006.1
G物理学
11情報記憶
C静的記憶
11特定の電気的または磁気的記憶素子の使用によって特徴づけられたデジタル記憶装置;そのための記憶素子
21電気的素子を用いるもの
34半導体装置を用いるもの
40トランジスタを用いるもの
41正帰還によるセル,すなわちリフレッシングまたは電荷再生を必要としないセルを形成するもの,例.双安定マルチバイブレータまたはシュミットトリガ
412電界効果トランジスタのみを用いるもの
CPC
G11C 11/412
GPHYSICS
11INFORMATION STORAGE
CSTATIC STORES
11Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
21using electric elements
34using semiconductor devices
40using transistors
41forming ; static; cells with positive feedback, i.e. cells not needing refreshing or charge regeneration, e.g. bistable multivibrator or Schmitt trigger
412using field-effect transistors only
H01L 21/8238
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
70Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
77Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
78with subsequent division of the substrate into plural individual devices
82to produce devices, e.g. integrated circuits, each consisting of a plurality of components
822the substrate being a semiconductor, using silicon technology
8232Field-effect technology
8234MIS technology ; , i.e. integration processes of field effect transistors of the conductor-insulator-semiconductor type
8238Complementary field-effect transistors, e.g. CMOS
H01L 27/092
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
27Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
02including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier
04the substrate being a semiconductor body
08including only semiconductor components of a single kind
085including field-effect components only
088the components being field-effect transistors with insulated gate
092complementary MIS field-effect transistors
H01L 27/11
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
27Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
02including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier
04the substrate being a semiconductor body
10including a plurality of individual components in a repetitive configuration
105including field-effect components
11Static random access memory structures
出願人
  • 株式会社ソシオネクスト SOCIONEXT INC. [JP]/[JP]
発明者
  • 森脇 真一 MORIWAKI Shinichi
代理人
  • 特許業務法人前田特許事務所 MAEDA & PARTNERS
優先権情報
2019-10372203.06.2019JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (ja)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) SEMICONDUCTOR STORAGE DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE STOCKAGE À SEMI-CONDUCTEUR
(JA) 半導体記憶装置
要約
(EN) Transistors (N1, N5) that correspond to a drive transistor (PD1) are respectively formed at a cell upper part and a cell lower part. Transistors (N2, N6) that correspond to a drive transistor (PD2) are respectively formed at the cell upper part and the cell lower part. A transistor (P1) that corresponds to a load transistor (PU2) is formed at the cell lower part. A transistor (P2) that corresponds to a load transistor (PU1) is formed at the cell upper part.
(FR) L'invention concerne des transistors (NT1, N5) qui correspondent à un transistor d'attaque (PD1) qui sont respectivement formés au niveau d'une partie supérieure de cellule et d'une partie inférieure de cellule. Des transistors (N2, N6) qui correspondent à un transistor d'attaque (PD2) sont respectivement formés au niveau de la partie supérieure de cellule et de la partie inférieure de cellule. Un transistor (P1) qui correspond à un transistor de charge (PU2) est formé au niveau de la partie inférieure de cellule. Un transistor (P2) qui correspond à un transistor de charge (PU1) est formé au niveau de la partie supérieure de cellule.
(JA) ドライブトランジスタ(PD1)に相当するトランジスタ(N1,N5)が、セル上部およびセル下部にそれぞれ形成されている。ドライブトランジスタ(PD2)に相当するトランジスタ(N2,N6)が、セル上部およびセル下部にそれぞれ形成されている。ロードトランジスタ(PU2)に相当するトランジスタ(P1)が、セル下部に形成されている。ロードトランジスタ(PU1)に相当するトランジスタ(P2)が、セル上部に形成されている。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報