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1. WO2020246200 - キャリブレーションシステム及び描画装置

公開番号 WO/2020/246200
公開日 10.12.2020
国際出願番号 PCT/JP2020/018752
国際出願日 09.05.2020
IPC
G03F 7/24 2006.1
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20露光;そのための装置
24カーブした表面への露光
CPC
G03F 7/24
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
20Exposure; Apparatus therefor
24Curved surfaces
出願人
  • インスペック株式会社 INSPEC INC. [JP]/[JP]
発明者
  • 菅原 雅史 SUGAWARA Masashi
代理人
  • 安 裕希 AN Youhee
優先権情報
2019-10679107.06.2019JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (ja)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) CALIBRATION SYSTEM AND DRAWING DEVICE
(FR) SYSTÈME D'ÉTALONNAGE ET DISPOSITIF DE DESSIN
(JA) キャリブレーションシステム及び描画装置
要約
(EN) Provided are a calibration system or the like which when a continuous pattern is formed on a long sheet-like substrate, are capable of always performing calibration on an exposure beam with which a substrate is to be irradiated. This calibration system is provided with: an optical system that is provided in an insertable/extractable manner in the optical path of a beam which is emitted from an exposure head and is incident on an exposure surface of a substrate, and that guides the beam in a direction different from the optical path when inserted into the optical path; a movement mechanism that inserts/extracts the optical system into/from the optical path; and a photosensor that has a light-receiving surface for receiving the beam guided by the optical system when the optical system is inserted into the optical path, and that detects an irradiation position and an irradiation intensity of the beam, on the light-receiving surface, incident on the light-receiving surface and outputs a detection signal.
(FR) L'invention concerne un système d'étalonnage ou similaire qui peut toujours effectuer un étalonnage sur un faisceau d'exposition avec lequel un substrat doit être irradié lorsqu'un motif continu est formé sur un substrat long de type feuille. Ce système d'étalonnage comprend : un système optique qui est disposé de manière insérable/extractible dans le trajet optique d'un faisceau qui est émis à partir d'une tête d'exposition et qui est incident sur une surface d'exposition d'un substrat, et qui guide le faisceau dans une direction différente du trajet optique lorsqu'il est inséré dans le trajet optique; un mécanisme de mouvement qui insère le système optique dans le trajet optique ou qui l'en extrait; et un photocapteur qui est doté d'une surface de réception de lumière servant à recevoir le faisceau guidé par le système optique lorsque le système optique est inséré dans le trajet optique et qui détecte, sur la surface de réception de lumière, une position d'irradiation et une intensité d'irradiation du faisceau incident sur la surface de réception de lumière et qui émet un signal de détection.
(JA) 長尺のシート状の基板に対して連続的なパターンを形成する場合に、基板に照射される露光用のビームのキャリブレーションを随時行うことができるキャリブレーションシステム等を提供する。キャリブレーションシステムは、露光ヘッドから出射して基板の露光面に入射するビームの光路に対して挿抜可能に設けられ、該光路に挿入されているときにビームを該光路とは異なる方向に導く光学系と、該光学系を上記光路に対して挿抜する移動機構と、光学系が上記光路に挿入されているときに光学系により導かれたビームを受光する受光面を有し、該受光面に入射したビームの該受光面における照射位置及び照射強度を検出して検出信号を出力する光センサと、を備える。
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