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1. WO2020241583 - 光干渉測定装置および光干渉測定方法

公開番号 WO/2020/241583
公開日 03.12.2020
国際出願番号 PCT/JP2020/020582
国際出願日 25.05.2020
IPC
G01B 9/02 2006.01
G物理学
01測定;試験
B長さ,厚さまたは同種の直線寸法の測定;角度の測定;面積の測定;表面または輪郭の不規則性の測定
9このサブグループに記述され,かつ光学的測定手段の使用によって特徴づけられた計器
02干渉計
G01N 21/17 2006.01
G物理学
01測定;試験
N材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
21光学的手段,すなわち,赤外線,可視光線または紫外線を使用することによる材料の調査または分析
17調査される材料の特性に応じて入射光が変調されるシステム
出願人
  • 株式会社トプコン TOPCON CORPORATION [JP]/[JP]
  • 国立研究開発法人理化学研究所 RIKEN [JP]/[JP]
発明者
  • 椴山 誉 MOMIYAMA Homare
  • 佐々木 芳彰 SASAKI Yoshiaki
  • 吉峯 功 YOSHIMINE Isao
  • 大谷 知行 OTANI Chiko
  • 湯浅 哲也 YUASA Tetsuya
代理人
  • 八木 秀人 YAGI Hidehito
  • 丹波 真也 TANBA Shinya
  • 太田 悠 OTA Yu
  • 川野 由希 KAWANO Yuki
  • 簾内 里子 SUNOUCHI Satoko
優先権情報
2019-10082730.05.2019JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) LIGHT INTERFERENCE MEASUREMENT DEVICE AND LIGHT INTERFERENCE MEASUREMENT METHOD
(FR) DISPOSITIF DE MESURE D'INTERFÉRENCE LUMINEUSE ET PROCÉDÉ DE MESURE D'INTERFÉRENCE LUMINEUSE
(JA) 光干渉測定装置および光干渉測定方法
要約
(EN)
Provided is light interference measurement technology that improves depth-direction intensity profile resolution without using a wideband light source. A light interference measurement device (1) comprises a measurement unit (2) for acquiring an interferogram of interference waves obtained by causing emitted electromagnetic waves that have been reflected by a reflection surface of an object under measurement and emitted electromagnetic waves that have been reflected by a reference surface to interfere and a signal processing unit (8) for constructing a depth-direction intensity profile by subjecting the interferogram to a Fourier transform. The signal processing unit (8) comprises: a model parameter estimation unit (201) for, on the basis of an interferogram model expression assuming that the object under measurement is an object having a prescribed structure, estimating a parameter of the model expression for an assumed number of faces; an optimal model selection unit (202) for using a statistical method to select an optimal model from the model expression having the parameter estimated for the assumed number of faces applied thereto; and an intensity profile reconstruction unit (203) for reconstructing the intensity profile on the basis of the optimal model.
(FR)
La présente invention concerne une technologie de mesure d'interférence lumineuse qui améliore la résolution de profil d'intensité en sens de profondeur sans utiliser de source lumineuse à large bande. Un dispositif de mesure d'interférence lumineuse (1) comprend une unité de mesure (2) pour acquérir un interférogramme d'ondes d'interférence obtenues en faisant en sorte que des ondes électromagnétiques émises qui ont été réfléchies par une surface de réflexion d'un objet qui fait l'objet d'une mesure et des ondes électromagnétiques émises qui ont été réfléchies par une surface de référence interfèrent et une unité de traitement de signal (8) pour construire un profil d'intensité en sens de profondeur en soumettant l'interférogramme à une transformée de Fourier. L'unité de traitement de signal (8) comprend : une unité d'estimation de paramètre de modèle (201) pour, sur la base d'une expression de modèle d'interférogramme en supposant que l'objet qui fait l'objet d'une mesure est un objet qui a une structure prescrite, estimer un paramètre de l'expression de modèle pour un nombre supposé de faces ; une unité de sélection de modèle optimal (202) pour utiliser un procédé statistique pour sélectionner un modèle optimal, à partir de l'expression modèle, sur lequel le paramètre estimé pour le nombre supposé de faces est appliqué ; et une unité de reconstruction de profil d'intensité (203) pour reconstruire le profil d'intensité sur la base du modèle optimal.
(JA)
広帯域な光源を用いることなく、深さ方向の強度プロファイルの分解能を改善した光干渉測定技術を提供する。光干渉測定装置(1)は、照射した電磁波の、測定対象物の反射面からの反射波と、参照面からの反射波とを干渉させて干渉波のインターフェログラムを取得する測定部(2)と、インターフェログラムをフーリエ変換することにより、深さ方向の強度プロファイルを構成する信号処理部(8)とを備え、信号処理部(8)は、測定対象物が所定の構造を有する構造物であると仮定した場合の、インターフェログラムのモデル式に基づいて、仮定面数についてモデル式のパラメータを推定するモデルパラメータ推定部(201)と、仮定面数について推定したパラメータを適用したモデル式から、統計学的手法により最良モデルを選択する最良モデル選択部(202)と、最良モデルに基づいて強度プロファイルを再構成する強度プロファイル再構成部(203)を備える。
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