処理中

しばらくお待ちください...

設定

設定

出願の表示

1. WO2020241537 - 樹脂組成物、膜、カラーフィルタ、固体撮像素子および画像表示装置

公開番号 WO/2020/241537
公開日 03.12.2020
国際出願番号 PCT/JP2020/020442
国際出願日 25.05.2020
IPC
C08F 299/02 2006.1
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
299非高分子量単量体の不存在下に,炭素-炭素不飽和結合のみが関与する重合体相互の反応によって得られる高分子化合物
02不飽和重縮合物からのもの
C08L 101/00 2006.1
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
L高分子化合物の組成物
101不特定の高分子化合物の組成物
C08L 101/14 2006.1
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
L高分子化合物の組成物
101不特定の高分子化合物の組成物
12物理的性質,例.異方性,粘性または導電性,に特徴があるもの
14水溶性または水膨潤性高分子化合物,例.水性ゲル
G03F 7/004 2006.1
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
G03F 7/037 2006.1
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
027炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
032結合剤をもつもの
037結合剤がポリアミド又はポリイミドであるもの
G03F 7/40 2006.1
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
26感光材料の処理;そのための装置
40画像様除去後の処理,例.加熱
CPC
C08F 299/02
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
299Macromolecular compounds obtained by interreacting polymers involving only carbon-to-carbon unsaturated bond reactions, in the absence of non-macromolecular monomers
02from unsaturated polycondensates
C08L 101/00
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
101Compositions of unspecified macromolecular compounds
C08L 101/14
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
101Compositions of unspecified macromolecular compounds
12characterised by physical features, e.g. anisotropy, viscosity or electrical conductivity
14the macromolecular compounds being water soluble or water swellable, e.g. aqueous gels
G02B 5/20
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
20Filters
G02F 1/1335
GPHYSICS
02OPTICS
FDEVICES OR ARRANGEMENTS, THE OPTICAL OPERATION OF WHICH IS MODIFIED BY CHANGING THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIUM OF THE DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF THE INTENSITY, COLOUR, PHASE, POLARISATION OR DIRECTION OF LIGHT, e.g. SWITCHING, GATING, MODULATING OR DEMODULATING; TECHNIQUES OR PROCEDURES FOR THE OPERATION THEREOF; FREQUENCY-CHANGING; NON-LINEAR OPTICS; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
1Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
01for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
13based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
1333Constructional arrangements; ; Manufacturing methods
1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
G03F 7/004
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
出願人
  • 富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP]/[JP]
発明者
  • 奈良 裕樹 NARA Yuki
代理人
  • 特許業務法人特許事務所サイクス SIKs & Co.
優先権情報
2019-10201131.05.2019JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (ja)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) RESIN COMPOSITION, FILM, COLOR FILTER, SOLID-STAGE IMAGING ELEMENT, AND IMAGE DISPLAY DEVICE
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE, FILM, FILTRE COULEUR, ÉLÉMENT DE PRISE DE VUE À L'ÉTAT SOLIDE ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE D'IMAGES
(JA) 樹脂組成物、膜、カラーフィルタ、固体撮像素子および画像表示装置
要約
(EN) A resin composition comprising a pigment, a resin and a solvent, and having such a property that, when a film having a thickness of 0.60 μm is formed using the resin composition and by heating the resin composition at 200°C for 30 minutes and the film is subjected to a heat treatment at 300°C for 5 hours under a nitrogen atmosphere, the rate of change in absorbance ΔA, which is represented by formula (1), of the film after the heat treatment is 50% or less. A film, a color filter, a solid-stage imaging element, and an image display device, each of which is produced using a resin composition. In the formula, ΔA represents the rate of change in absorbance of the film after the heat treatment; A1 represents a maximum value of the absorbance of the film before the heat treatment in a wavelength range from 400 to 1100 nm; and A2 represents an absorbance of the film after the heat treatment at a wavelength at which the absorbance of the film before the heat treatment shows a maximum value in the wavelength range from 400 to 1100 nm. (1) ΔA = |100-(A2/A1)×100|
(FR) L'invention concerne une composition de résine, laquelle contient un pigment, une résine et un solvant, et à l'aide de laquelle un film d'une épaisseur de 0,60 μm est formé par chauffage à 200℃ pendant 30 min. Lorsque ce film est soumis à un traitement thermique pendant 5 heures et à 300℃ sous atmosphère d'azote, le taux de variation ΔA d'absorbance du film après le traitement thermique, taux représenté par la formule générale (1), est inférieur ou égal à 50%. L'invention concerne également un film, un filtre couleur, un élément de prise de vue à l'état solide et un dispositif d'affichage d'images, lesquels mettent en oeuvre ladite composition de résine. Dans la formule générale (1), ΔA représente le taux de variation d'absorbance après le traitement thermique, A1 représente la valeur maximale d'absorbance du film avant le traitement thermique dans une plage de longueur d'ondes de 400 à 1100 nm, et A2 représente l'absorbance du film après le traitement thermique, à une longueur d'onde indiquant la valeur maximale d'absorbance du film avant le traitement thermique dans une plage de longueur d'ondes de 400 à 1100 nm. (1) ΔA =|100 - (A2/A1) x 100|
(JA) 顔料と、樹脂と、溶剤と、を含む樹脂組成物であって、樹脂組成物を用いて、200℃で30分加熱して厚さ0.60μmの膜を形成した際に、上記膜を窒素雰囲気下にて300℃で5時間加熱処理したとき、加熱処理後の膜の式(1)で表される吸光度の変化率ΔAが50%以下である、樹脂組成物。樹脂組成物を用いた膜、カラーフィルタ、固体撮像素子および画像表示装置。以下の式においてΔAは、加熱処理後の膜の吸光度の変化率であり、A1は、加熱処理前の膜の波長400~1100nmの範囲における吸光度の最大値であり、A2は、加熱処理後の膜の吸光度であって、加熱処理前の膜の波長400~1100nmの範囲における吸光度の最大値を示す波長での吸光度である。 ΔA=|100-(A2/A1)×100| ・・・(1)
Related patent documents
JP2021522742This application is not viewable in PATENTSCOPE because the national phase entry has not been published yet or the national entry is issued from a country that does not share data with WIPO or there is a formatting issue or an unavailability of the application.
国際事務局に記録されている最新の書誌情報