処理中

しばらくお待ちください...

設定

設定

出願の表示

1. WO2020241492 - トリアジン骨格を有するプレポリマー、これを含む組成物、レジストパターン形成方法、回路パターン形成方法、及び当該プレポリマーの精製方法

公開番号 WO/2020/241492
公開日 03.12.2020
国際出願番号 PCT/JP2020/020289
国際出願日 22.05.2020
IPC
C07D 251/34 2006.1
C化学;冶金
07有機化学
D複素環式化合物(高分子化合物C08)
2511,3,5―トリアジン環を含有する複素環式化合物
02他の環と縮合していないもの
12環原子相互間または環原子と非環原子間に3個の二重結合をもつもの
26環の炭素原子に異種原子のみが結合したもの
30酸素原子のみ
34シアヌール酸またはイソシアヌール酸のエステル
C08G 73/00 2006.1
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
G炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物
73グループC08G12/00~C08G71/00に属さない,高分子の主鎖に酸素または炭素を有しまたは有せずに窒素を含む連結基を形成する反応により得られる高分子化合物
C08L 79/00 2006.1
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
L高分子化合物の組成物
79グループC08L61/00~C08L77/00に属さない,主鎖のみに酸素または炭素を含みまたは含まずに窒素を含む結合を形成する反応によって得られる高分子化合物の組成物
G03F 7/023 2006.1
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
022キノンジアジド
023高分子キノンジアジド;高分子添加剤,例.結合剤
G03F 7/11 2006.1
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
09構造の細部,例.支持体,補助層,に特徴のあるもの
11被覆層又は中間層,例.下塗層をもつもの
G03F 7/20 2006.1
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20露光;そのための装置
CPC
C07D 251/34
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
251Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings
02not condensed with other rings
12having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
26with only hetero atoms directly attached to ring carbon atoms
30Only oxygen atoms
34Cyanuric or isocyanuric esters
C08G 73/00
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
73Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
C08L 79/00
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
79Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon only, not provided for in groups C08L61/00 - C08L77/00
G03F 7/023
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
022Quinonediazides
023Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders
G03F 7/11
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
09characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
11having cover layers or intermediate layers, e.g. subbing layers
G03F 7/20
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
20Exposure; Apparatus therefor
出願人
  • 三菱瓦斯化学株式会社 MITSUBISHI GAS CHEMICAL COMPANY, INC. [JP]/[JP]
発明者
  • 米田 昌弘 KOMEDA, Masahiro
  • 松木囿 裕之 MATSUKIZONO, Hiroyuki
  • 遠藤 剛 ENDO, Takeshi
  • 牧野嶋 高史 MAKINOSHIMA, Takashi
  • 越後 雅敏 ECHIGO, Masatoshi
代理人
  • 山本 修 YAMAMOTO, Osamu
  • 宮前 徹 MIYAMAE, Toru
  • 中西 基晴 NAKANISHI, Motoharu
  • 新井 規之 ARAI, Noriyuki
優先権情報
2019-10139430.05.2019JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (ja)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) PREPOLYMER HAVING TRIAZINE SKELETON, COMPOSITION CONTAINING SAME, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, METHOD FOR FORMING CIRCUIT PATTERN, AND METHOD FOR PURIFYING SAID PREPOLYMER
(FR) PRÉPOLYMÈRE AYANT UN SQUELETTE DE TRIAZINE, COMPOSITION LE CONTENANT, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF DE PHOTORÉSINE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF DE CIRCUIT ET PROCÉDÉ DE PURIFICATION DUDIT TRIAZINE
(JA) トリアジン骨格を有するプレポリマー、これを含む組成物、レジストパターン形成方法、回路パターン形成方法、及び当該プレポリマーの精製方法
要約
(EN) A prepolymer having a triazine skeleton, which is formed by reacting a multifunctional cyanate compound and a phenol with each other. The multifunctional cyanate compound is preferably represented by formula (1) or (2). The prepolymer is especially useful as a film forming material for lithography. In the formulae, X represents an oxygen atom or the like; R2 represents a single bond or a divalent group having 0-40 carbon atoms, which may contain a heteroatom; R3 represents a trivalent group having 0-40 carbon atoms, which may contain a heteroatom; each of R0 independently represents an optionally substituted alkyl group having 0-40 carbon atoms, or the like; each m independently represents an integer of 0-9; and each p independently represents an integer of 0-3.
(FR) L'invention concerne un prépolymère ayant un squelette de triazine, qui est formé par réaction d'un composé de cyanate multifonctionnel et d'un phénol l'un avec l'autre. Le composé de cyanate multifonctionnel est de préférence représenté par la formule (1) ou (2). Le prépolymère est particulièrement utile en tant que matériau de formation de film pour lithographie. Dans les formules, X représente un atome d'oxygène ou similaire ; R2 représente une liaison simple ou un groupe divalent ayant de 0 à 40 atomes de carbone, qui peut contenir un hétéroatome ; R3 représente un groupe trivalent ayant de 0 à 40 atomes de carbone, qui peut contenir un hétéroatome ; chacun de R0 représente indépendamment un groupe alkyle éventuellement substitué ayant de 0 à 40 atomes de carbone, ou similaire ; chaque m représente indépendamment un nombre entier de 0 à 9 ; et chaque p représente indépendamment un nombre entier de 0 à 3.
(JA) 多官能シアネート化合物とフェノール類を反応させて形成されるトリアジン骨格を有するプレポリマー。多官能シアネート化合物は好ましくは式(1)又は(2)で表される。当該プレポリマーはリソグラフィー用膜形成材料として特に有用である。 Xは酸素原子等であり;Rは単結合又はヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数0~40の2価の基であり、Rはヘテロ原子を含んでいてもよい炭素数0~40の3価の基であり、Rは各々独立して、置換基を有していてもよい炭素数1~40のアルキル基等であり、mは各々独立して0~9の整数であり、pは各々独立して0~3の整数である。
Related patent documents
JP2021522314This application is not viewable in PATENTSCOPE because the national phase entry has not been published yet or the national entry is issued from a country that does not share data with WIPO or there is a formatting issue or an unavailability of the application.
国際事務局に記録されている最新の書誌情報