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1. WO2020240861 - ビーム偏向デバイス、収差補正器、モノクロメータ、および荷電粒子線装置

公開番号 WO/2020/240861
公開日 03.12.2020
国際出願番号 PCT/JP2019/021843
国際出願日 31.05.2019
IPC
H01J 37/147 2006.1
H電気
01基本的電気素子
J電子管または放電ランプ
37放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
02細部
04電極装置および放電を発生しまたは制御するための関連部品,例.電子光学装置,イオン光学装置
147希望する通路に沿って放電を直進しまたは偏向するための装置
H01J 37/05 2006.1
H電気
01基本的電気素子
J電子管または放電ランプ
37放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
02細部
04電極装置および放電を発生しまたは制御するための関連部品,例.電子光学装置,イオン光学装置
05電子またはイオンをそれらのエネルギーに応じて分離するための電子光学的またはイオン光学的装置
H01J 37/153 2006.1
H電気
01基本的電気素子
J電子管または放電ランプ
37放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
02細部
04電極装置および放電を発生しまたは制御するための関連部品,例.電子光学装置,イオン光学装置
153像欠陥を補正するための電子光学的またはイオン光学的装置,例.スチグマトール
CPC
H01J 37/05
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
02Details
04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
05Electron or ion-optical arrangements for separating electrons or ions according to their energy ; or mass
H01J 37/147
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
02Details
04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
147Arrangements for directing or deflecting the discharge along a desired path
H01J 37/153
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
02Details
04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
153Electron-optical or ion-optical arrangements for the correction of image defects, e.g. stigmators
出願人
  • 株式会社日立ハイテク HITACHI HIGH-TECH CORPORATION [JP]/[JP]
発明者
  • クライト ピーター KRUIT Pieter
  • 土肥 英登 DOHI Hideto
代理人
  • 特許業務法人平木国際特許事務所 HIRAKI & ASSOCIATES
優先権情報
公開言語 (言語コード) 日本語 (ja)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) BEAM DEFLECTION DEVICE, ABERRATION CORRECTOR, MONOCHROMATOR, AND CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE DÉVIATION DE FAISCEAU, CORRECTEUR D'ABERRATION, MONOCHROMATEUR, ET DISPOSITIF À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES
(JA) ビーム偏向デバイス、収差補正器、モノクロメータ、および荷電粒子線装置
要約
(EN) The present disclosure pertains to a beam deflection device capable of properly deflecting a beam. The present disclosure provides a beam deflection device for deflecting a beam inside a charged particle beam device, said beam deflection device being provided with: one or more electrostatic deflectors (207, 208) each having a pair of electrodes disposed so as to face each other across a beam path in a first direction orthogonal to the beam path; and one or more magnetic deflectors (209) each having a pair of magnetic poles disposed so as to face each other across the beam path in a second direction orthogonal to the beam path and to the first direction. When viewed from an incident direction of the beam, the one or more electrostatic deflectors and the one or more magnetic deflectors are stacked along the beam path such that the pair of electrodes at least partially overlap with the pair of magnetic poles and with a gap between the pair of magnetic poles.
(FR) La présente invention concerne un dispositif de déviation de faisceau permettant de dévier correctement un faisceau, qui est un dispositif de déviation de faisceau destiné à dévier un faisceau dans un dispositif à faisceau de particules chargées, ledit dispositif de déviation de faisceau comprenant : un ou plusieurs déflecteurs électrostatiques (207, 208) pourvus chacun d'une paire d'électrodes disposées de façon à être en regard l'une de l'autre en travers d'une trajectoire de faisceau dans une première direction orthogonale à la trajectoire de faisceau ; et un ou plusieurs déflecteurs magnétiques (209) pourvus chacun d'une paire de pôles magnétiques disposés de façon à être en regard l'un de l'autre en travers de la trajectoire de faisceau dans une seconde direction orthogonale à la trajectoire de faisceau et à la première direction. Vus depuis une direction incidente du faisceau, lesdits déflecteurs électrostatiques et lesdits déflecteurs magnétiques sont empilés le long de la trajectoire de faisceau de telle sorte que la paire d'électrodes chevauche au moins partiellement la paire de pôles magnétiques et un espace entre la paire de pôles magnétiques.
(JA) 本開示は、適切にビームを偏向するビーム偏向デバイスに関する。本開示では、荷電粒子線装置内でビームを偏向するためのビーム偏向デバイスであって、ビームの軌道を挟んで、ビームの軌道に直交する第1の方向に対向して配置される一対の電極を有する1以上の静電偏向器(207、208)と、ビームの軌道を挟んで、ビームの軌道と前記第1の方向に直交する第2の方向に対向して配置される一対の磁極を有する1以上の磁界偏向器(209)を備え、ビームの入射方向から見て、一対の電極の少なくとも一部が、一対の磁極と、一対の磁極間のギャップの双方に重なるように、1以上の静電偏向器と前記1以上の磁界偏向器が、前記ビームの軌道に沿って積層されるビーム偏向デバイスを提案する(図2参照)。
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