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1. WO2020218062 - 感光性樹脂組成物、レジストパターン膜の製造方法、およびメッキ造形物の製造方法

公開番号 WO/2020/218062
公開日 29.10.2020
国際出願番号 PCT/JP2020/016292
国際出願日 13.04.2020
IPC
G03F 7/004 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
G03F 7/039 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
039光分解可能な高分子化合物,例.ポジ型電子レジスト
G03F 7/20 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20露光;そのための装置
出願人
  • JSR株式会社 JSR CORPORATION [JP]/[JP]
発明者
  • 佐野 有香 SANO Yuka
  • 松本 朋之 MATSUMOTO Tomoyuki
  • 榊原 宏和 SAKAKIBARA Hirokazu
代理人
  • 特許業務法人SSINPAT SSINPAT PATENT FIRM
優先権情報
2019-08275724.04.2019JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN FILM, AND METHOD FOR PRODUCING PLATED SHAPED ARTICLE
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN FILM DE MOTIF DE RÉSERVE, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN ARTICLE FAÇONNÉ PLAQUÉ
(JA) 感光性樹脂組成物、レジストパターン膜の製造方法、およびメッキ造形物の製造方法
要約
(EN)
The present invention addresses the problem of providing a photosensitive resin composition for forming a resist pattern film having reduced traces of standing waves and having a rectangular cross section. The photosensitive resin composition of the present invention comprises (A) a polymer having an acid-dissociable group, (B) a photo-acid generator, (C) a carbamic acid ester having a hydroxyl group and (D) a solvent, wherein the solvent (D) comprises at least one solvent (D1) selected from propylene glycol monomethyl ether acetate and others and at least one solvent (D2) selected from dipropylene glycol dimethyl ether and others.
(FR)
La présente invention aborde le problème de la fourniture d'une composition de résine photosensible servant à former un film de motif de réserve ayant des traces réduites d'ondes stationnaires et ayant une section transversale rectangulaire. La composition de résine photosensible de la présente invention comprend (A) un polymère ayant un groupe dissociable par un acide, (B) un générateur de photo-acide, (C) un ester d'acide carbamique ayant un groupe hydroxyle et (D) un solvant, le solvant (D) comprenant au moins un solvant (D1) choisi parmi l'acétate de propylène glycol monométhyléther et d'autres solvants et au moins un solvant (D2) choisi parmi le dipropylène glycol diméthyléther et d'autres solvants.
(JA)
本発明の課題は、定在波跡が抑制され、断面が矩形のレジストパターン膜を形成するための感光性樹脂組成物を提供することにある。本発明の感光性樹脂組成物は、酸解離性基を有する重合体(A);光酸発生剤(B);水酸基を有するカルバミン酸エステル(C);および溶剤(D);を含有し、前記溶剤(D)が、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等から選ばれる少なくとも1種の溶剤(D1)と、ジプロピレングリコールジメチルエーテル等から選ばれる少なくとも1種の溶剤(D2)とを含有する。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報