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1. WO2020203787 - 窒化珪素基板、窒化珪素-金属複合体、窒化珪素回路基板、及び、半導体パッケージ

公開番号 WO/2020/203787
公開日 08.10.2020
国際出願番号 PCT/JP2020/014060
国際出願日 27.03.2020
IPC
H01L 23/13 2006.01
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
23半導体または他の固体装置の細部
12マウント,例.分離できない絶縁基板
13形状に特徴のあるもの
H01L 23/15 2006.01
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
23半導体または他の固体装置の細部
12マウント,例.分離できない絶縁基板
14材料またはその電気特性に特徴のあるもの
15セラミックまたはガラス基板
H01L 23/36 2006.01
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
23半導体または他の固体装置の細部
34冷却,加熱,換気または温度補償用装置
36冷却または加熱を容易にするための材料の選択または成形,例.ヒート・シンク
C04B 37/02 2006.01
C化学;冶金
04セメント;コンクリート;人造石;セラミックス;耐火物
B石灰;マグネシア;スラグ;セメント;その組成物,例.モルタル,コンクリートまたは類似の建築材料;人造石;セラミックス;耐火物;天然石の処理
37焼成セラミック物品と他の焼成セラミック物品または他の物品との加熱による接合
02金属物品との
C04B 35/587 2006.01
C化学;冶金
04セメント;コンクリート;人造石;セラミックス;耐火物
B石灰;マグネシア;スラグ;セメント;その組成物,例.モルタル,コンクリートまたは類似の建築材料;人造石;セラミックス;耐火物;天然石の処理
35組成に特徴を持つ成形セラミック製品;セラミック組成;セラミック製品を製造するための無機化合物粉末の処理
515非酸化物を基とするもの
58ほう化物,窒化物またはけい化物を基とするもの
584窒化けい素を基とするもの
587ファインセラミックス
G01N 23/223 2006.01
G物理学
01測定;試験
N材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
23グループG01N3/00~G01N17/00,G01N21/00またはG01N22/00に包含されない波動性または粒子性放射線,例.X線,中性子線,の使用による材料の調査または分析
22材料からの二次放射の測定によるもの
223X線またはガンマ線を試料に照射して蛍光X線を測定するもの
出願人
  • デンカ株式会社 DENKA COMPANY LIMITED [JP]/[JP]
発明者
  • 津川 優太 TSUGAWA Yuta
  • 小橋 聖治 KOBASHI Seiji
  • 西村 浩二 NISHIMURA Koji
代理人
  • 速水 進治 HAYAMI Shinji
優先権情報
2019-06554129.03.2019JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) SILICON NITRIDE SUBSTRATE, SILICON NITRIDE-METAL COMPLEX, SILICON NITRIDE CIRCUIT BOARD, AND SEMICONDUCTOR PACKAGE
(FR) SUBSTRAT DE NITRURE DE SILICIUM, COMPLEXE NITRURE DE SILICIUM-MÉTAL, CARTE DE CIRCUIT IMPRIMÉ EN NITRURE DE SILICIUM ET BOÎTIER SEMI-CONDUCTEUR
(JA) 窒化珪素基板、窒化珪素-金属複合体、窒化珪素回路基板、及び、半導体パッケージ
要約
(EN)
Provided is a silicon nitride substrate which comprises silicon nitride and magnesium, wherein when the surface of the silicon nitride substrate is analyzed with an X-ray fluorescence analyzer under a specific condition I, XB/XA is 0.8 to 1.0.
(FR)
L'invention concerne un substrat de nitrure de silicium qui comprend du nitrure de silicium et du magnésium, dans lequel, lorsque la surface du substrat de nitrure de silicium est analysée avec un analyseur par fluorescence X sous une condition spécifique I, XB/XA est compris entre 0,8 et 1,0.
(JA)
窒化珪素とマグネシウムを含有する窒化珪素基板であって、窒化珪素基板の表面を、特定の条件Iで、蛍光X線分析装置で分析した際、XB/XAが0.8以上、1.0以下である、窒化珪素基板が提供される。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報