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1. WO2020203663 - 感光性樹脂組成物作製キットおよび感光性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜付き基板およびその製造方法

公開番号 WO/2020/203663
公開日 08.10.2020
国際出願番号 PCT/JP2020/013735
国際出願日 26.03.2020
IPC
C08F 290/06 2006.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
290脂肪族不飽和の末端基または側基の導入により変性された重合体に,単量体を重合させて得られる高分子化合物
02不飽和末端基の導入により変性された重合体への
06サブクラスC08Gに分類される重合体
C09D 201/08 2006.01
C化学;冶金
09染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
Dコーティング組成物,例.ペンキ,ワニスまたはラッカー;パテ;塗料除去剤インキ消し;インキ;修正液;木材用ステイン;糊状または固形の着色料または捺染料;これらの物質の使用法
201不特定の高分子化合物に基づくコーティング組成物
02特定の基の存在によって特徴づけられるもの
06酸素原子を含むもの
08カルボキシル基
G03F 7/004 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
G03F 7/027 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
027炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
G03F 7/031 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
027炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
028増感物質をもつもの,例.光重合開始剤
031グループG03F7/029に包含されない有機化合物
G03F 7/033 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
027炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
032結合剤をもつもの
033結合剤が炭素-炭素不飽和結合を含む反応のみによって得られた重合体であるもの,例.ビニル重合体
出願人
  • 株式会社カネカ KANEKA CORPORATION [JP]/[JP]
発明者
  • 河野 富美弥 KONO, Fumiya
  • 木戸 雅善 KIDO, Masayoshi
代理人
  • 新宅 将人 SHINTAKU, Masato
優先権情報
2019-06834029.03.2019JP
2019-11132614.06.2019JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION PREPARATION KIT AND PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURABLE FILM, SUBSTRATE WITH CURABLE FILM AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
(FR) KIT DE PRÉPARATION DE COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE ET COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, FILM DURCISSABLE, SUBSTRAT POURVU D'UN FILM DURCISSABLE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION CORRESPONDANT
(JA) 感光性樹脂組成物作製キットおよび感光性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜付き基板およびその製造方法
要約
(EN)
This photosensitive resin composition preparation kit includes agent A and agent B, and a photosensitive resin composition can be prepared by mixing agent A and agent B. Agent A contains: a compound (a1) having a carboxy group but not having an ethylenically unsaturated group; a compound (a2) having a carboxy group and an ethylenically unsaturated group; a matting agent (a3); and a first dispersing agent (a4). Agent B contains: a compound (b1) having a reactive group capable of reacting with a carboxy group; a photo-radical polymerization initiator (b2); a colorant (b3); and a second dispersing agent (b4). The acid number of the first dispersing agent is 1 to 60 mg KOH/g, and the amine number of the second dispersing agent is 1 mg KOH/g or more.
(FR)
L'invention concerne un kit de préparation de composition de résine photosensible comprenant un agent A et un agent B et une composition de résine photosensible pouvant être préparée par mélange de l'agent A et de l'agent B. L'agent A contient : un composé (a1) présentant un groupe carboxy mais ne présentant pas un groupe éthyléniquement insaturé ; un composé (a2) présentant un groupe carboxy et un groupe éthyléniquement insaturé ; un agent de matité (a3) ; et un premier agent de dispersion (a4). L'agent B contient : un composé (b1) présentant un groupe réactif en mesure de réagir avec un groupe carboxy ; un initiateur de polymérisation photo-radicalaire (b2) ; un colorant (b3) ; et un deuxième agent de dispersion (b4). L'indice d'acide du premier agent dispersant est de 1 à 60 mg KOH/g et l'indice d'amine du deuxième agent dispersant est de 1 Mg KOH/g ou plus.
(JA)
感光性樹脂組成物作製キットは、A剤およびB剤を含み、A剤とB剤とを混合することにより感光性樹脂組成物を調製できる。A剤は、(a1)カルボキシ基を有しエチレン性不飽和基を有さない化合物、(a2)カルボキシ基およびエチレン性不飽和基を有する化合物、(a3)マット剤、および(a4)第一分散剤を含有する。B剤は、(b1)カルボキシ基と反応可能な反応性基を有する化合物、(b2)光ラジカル重合開始剤、(b3)着色剤、および(b4)第二分散剤を含有する。第一分散剤の酸価が1~60mgKOH/gであり、第二分散剤のアミン価が1mgKOH/g以上である。
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