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1. WO2020203288 - プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法

公開番号 WO/2020/203288
公開日 08.10.2020
国際出願番号 PCT/JP2020/011933
国際出願日 18.03.2020
IPC
H05H 1/46 2006.01
H電気
05他に分類されない電気技術
Hプラズマ技術;加速された荷電粒子のまたは中性子の発生;中性分子または原子ビームの発生または加速
1プラズマの生成;プラズマの取扱い
24プラズマの発生
46電磁界を用いるもの,例.高周波またはマイクロ波エネルギー
H01L 21/31 2006.01
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02半導体装置またはその部品の製造または処理
04少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
30H01L21/20~H01L21/26に分類されない方法または装置を用いる半導体本体の処理
31半導体本体上への絶縁層の形成,例.マスキング用またはフォトリソグラフィック技術の使用によるもの;これらの層の後処理;これらの層のための材料の選択
C23C 16/511 2006.01
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
16ガス状化合物の分解による化学的被覆であって,表面材料の反応生成物を被覆層中に残さないもの,すなわち化学蒸着(CVD)法
44被覆の方法に特徴のあるもの
50放電を用いるもの
511マイクロ波放電を用いるもの
出願人
  • 東京エレクトロン株式会社 TOKYO ELECTRON LIMITED [JP]/[JP]
発明者
  • 小谷 光司 KOTANI, Koji
  • 山本 伸彦 YAMAMOTO, Nobuhiko
  • 長田 勇輝 OSADA, Yuki
代理人
  • 伊東 忠重 ITOH, Tadashige
  • 伊東 忠彦 ITOH, Tadahiko
優先権情報
2019-07011101.04.2019JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) PLASMA PROCESSING DEVICE AND PLASMA PROCESSING METHOD
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT PAR PLASMA
(JA) プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
要約
(EN)
Provided is a plasma processing device comprising: a dielectric window that is disposed inside a chamber and facing a stage; a microwave introduction unit that introduces microwaves into the chamber; a first compartment that is inside the chamber and that is connected to the microwave introduction unit; an electroconductive window member that is disposed between the dielectric window and the first compartment, and that has an opening through which the microwaves pass; and a driving mechanism for rotating the electroconductive window member.
(FR)
L'invention concerne un dispositif de traitement par plasma comprenant une fenêtre diélectrique disposée à l'intérieur d'une chambre et faisant face à un étage ; une unité d'introduction de micro-ondes introduisant des micro-ondes dans la chambre ; un premier compartiment à l'intérieur de la chambre connecté à l'unité d'introduction de micro-ondes ; un élément de fenêtre électroconducteur disposé entre la fenêtre diélectrique et le premier compartiment ayant une ouverture à travers laquelle passent les micro-ondes ; et un mécanisme d'entraînement pour faire tourner l'élément de fenêtre électroconducteur.
(JA)
ステージに対向してチャンバ内に配置される誘電体窓と、前記チャンバ内にマイクロ波を導入するマイクロ波導入部と、前記マイクロ波導入部に接続される、前記チャンバ内の第1の室と、前記誘電体窓と前記第1の室との間に配置され、マイクロ波が通過する開口部を有する導電性窓部材と、前記導電性窓部材を回転させる駆動機構と、を有する、プラズマ処理装置が提供される。
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