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1. WO2020203254 - 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の製造方法、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法

公開番号 WO/2020/203254
公開日 08.10.2020
国際出願番号 PCT/JP2020/011703
国際出願日 17.03.2020
IPC
C08F 220/28 2006.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
220ただ1つの炭素―炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,そのうちのただ1つの脂肪族基がただ1つのカルボキシル基によって停止されている化合物.その塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの共重合体
029個以下の炭素原子をもつモノカルボン酸;その誘導体
10エステル
26カルボキシ酸素以外の酸素を含有するエステル
28アルコール残基中に芳香族環をもたないもの
G03F 7/038 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
038不溶性又は特異的に親水性になる高分子化合物
G03F 7/039 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
039光分解可能な高分子化合物,例.ポジ型電子レジスト
G03F 7/20 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20露光;そのための装置
出願人
  • 富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP]/[JP]
発明者
  • 丸茂 和博 MARUMO Kazuhiro
代理人
  • 伊東 秀明 ITOH Hideaki
  • 三橋 史生 MITSUHASHI Fumio
優先権情報
2019-06738529.03.2019JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) METHOD FOR PRODUCING ACTIVE LIGHT RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING PATTERN, AND METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UNE COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AUX RAYONS DE LUMIÈRE ACTIVE OU SENSIBLE AU RAYONNEMENT, PROCÉDÉ DE FORMATION D'UN MOTIF ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
(JA) 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の製造方法、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法
要約
(EN)
The present invention addresses the first problem of providing a method for producing an active light ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, by which a pattern having excellent LWR can be formed even in cases where the resin composition is prepared using a procedure comprising preparing in advance a polymer solution containing an acid-dissociable resin and a solvent, storing the polymer solution for a prescribed period of time, and then mixing the polymer solution with other raw materials such as a photo-acid generator. In addition, the present invention addresses the second problem of providing: a method for forming a pattern by using an active light ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition obtained using the production method; and a method for producing an electronic device. This method for producing an active light ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes a step A for preparing a polymer solution that contains a solvent and a resin whose polarity increases upon decomposition through the action of an acid; a step B for producing a solution-accommodating body which includes an accommodating container and the polymer solution housed in the accommodating container, and in which the content of an inert gas is 85 vol% or more of the space inside the accommodating container that is not filled with the polymer solution, and for storing the polymer solution in the solution-accommodating body; and a step C for mixing the polymer solution stored in the solution-accommodating body with a compound that generates an acid upon irradiation with active light rays or radiation. The resin whose polarity increases upon decomposition through the action of an acid is a resin that includes a prescribed structure.
(FR)
La présente invention aborde le premier problème consistant à fournir un procédé de production d'une composition de résine sensible aux rayons de lumière active ou sensible au rayonnement, grâce à laquelle un motif ayant un excellent LWR peut être formé même dans les cas où la composition de résine est préparée à l'aide d'une procédure comprenant la préparation à l'avance d'une solution de polymère contenant une résine dissociable par un acide et un solvant, le stockage de la solution de polymère pendant une période de temps prescrite, puis le mélange de la solution de polymère avec d'autres matières premières telles qu'un générateur de photo-acide. De plus, la présente invention aborde le second problème consistant à fournir : un procédé de formation d'un motif à l'aide d'une composition de résine sensible aux rayons de lumière active ou sensible au rayonnement obtenue à l'aide du procédé de production ; et un procédé de production d'un dispositif électronique. Le présent procédé de production d'une composition de résine sensible aux rayons de lumière active ou sensible au rayonnement comprend une étape A de préparation d'une solution de polymère qui contient un solvant et une résine dont la polarité augmente lors de la décomposition sous l'action d'un acide ; une étape B de production d'un corps de réception de solution qui comprend un récipient de réception et la solution de polymère logée dans le récipient de réception, et dans lequel la teneur en gaz inerte est de 85 % en volume ou plus de l'espace à l'intérieur du récipient de réception qui n'est pas rempli avec la solution de polymère, et de stockage de la solution de polymère dans le corps de réception de solution ; et une étape C de mélange de la solution de polymère stockée dans le corps de réception de solution avec un composé qui génère un acide lors de l'irradiation avec des rayons de lumière active ou un rayonnement. La résine dont la polarité augmente lors de la décomposition sous l'action d'un acide est une résine qui comprend une structure prescrite.
(JA)
本発明の第1の課題は、酸分解性樹脂と溶剤とを含むポリマー溶液を予め調製して所定期間保管した後、上記ポリマー溶液と光酸発生剤を含むその他の原料とを混合する手順で調製された場合であっても、LWRが優れるパターンを形成し得る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の製造方法を提供することである。また、本発明の第2の課題は、上記製造方法により得られる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いたパターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法を提供することである。 本発明の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の製造方法は、酸の作用により分解して極性が増大する樹脂と、溶剤とを含むポリマー溶液を調製する工程Aと、収容容器と、上記収容容器内に収容された上記ポリマー溶液とを含み、且つ上記収容容器内の上記ポリマー溶液が充填されていない空間における不活性ガス含有率が85体積%以上である溶液収容体を作製して、上記ポリマー溶液を保管する工程Bと、上記液体収容体で保管された上記ポリマー溶液と、上記活性光線又は放射線の照射によって酸を発生する化合物とを混合する工程Cとを含み、上記酸の作用により分解して極性が増大する樹脂が、所定の構造を含む樹脂である。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報