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1. WO2020203246 - 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の製造方法、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法

公開番号 WO/2020/203246
公開日 08.10.2020
国際出願番号 PCT/JP2020/011635
国際出願日 17.03.2020
IPC
G03F 7/038 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
038不溶性又は特異的に親水性になる高分子化合物
G03F 7/039 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
039光分解可能な高分子化合物,例.ポジ型電子レジスト
G03F 7/20 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20露光;そのための装置
G03F 7/26 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
26感光材料の処理;そのための装置
出願人
  • 富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP]/[JP]
発明者
  • 上村 聡 KAMIMURA Sou
代理人
  • 伊東 秀明 ITOH Hideaki
  • 三橋 史生 MITSUHASHI Fumio
優先権情報
2019-06881729.03.2019JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) METHOD FOR PRODUCING ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD, AND METHOD FOR PRODUCING ELECTRONIC DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE À LA LUMIÈRE ACTIVE OU AU RAYONNEMENT ACTIF, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
(JA) 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の製造方法、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法
要約
(EN)
The first problem addressed by the present invention is to provide a method for producing an active light sensitive or radiation sensitive resin composition which is capable of forming a pattern that is suppressed in bridge defects. The second problem addressed by the present invention is to provide: a pattern forming method which uses an active light sensitive or radiation sensitive resin composition that is capable of forming a pattern that is suppressed in bridge defects; and a method for producing an electronic device. A method for producing an active light sensitive or radiation sensitive resin composition according to the present invention produces an active light sensitive or radiation sensitive resin composition that is used in a semiconductor device production process, and comprises: a step A for purifying a polymer solution that contains a solvent and a resin which is decomposed by the action of an acid, thereby being increased in the polarity; and a step B for preparing an active light sensitive or radiation sensitive resin composition by adding a compound which generates an acid upon irradiation of active light or radiation to the polymer solution after the step A. The step A comprises a step X wherein the polymer solution is filtered by being passed through a filter X.
(FR)
Le premier problème abordé par la présente invention est de fournir un procédé de production d'une composition de résine sensible à la lumière active ou au rayonnement actif qui est capable de former un motif qui est exempt de défauts de pont. Le second problème abordé par la présente invention est de fournir : un procédé de formation de motif qui utilise une composition de résine sensible à la lumière active ou au rayonnement actif capable de former un motif qui est exempt de défauts de pont ; et un procédé de production d'un dispositif électronique. Un procédé de production d'une composition de résine sensible à la lumière active ou au rayonnement actif selon la présente invention produit une composition de résine sensible à la lumière active ou au rayonnement actif qui est utilisée dans un procédé de production de dispositifs à semi-conducteur, et comprend : une étape A consistant à purifier une solution de polymère qui contient un solvant et une résine qui est décomposée par l'action d'un acide, ce qui augmente la polarité ; et une étape B consistant à préparer une composition de résine sensible à la lumière active ou au rayonnement actif par l'ajout d'un composé qui génère un acide lors de l'irradiation de la solution de polymère avec une lumière active ou un rayonnement actif après l'étape A. L'étape A comprend une étape X dans laquelle la solution de polymère est filtrée par passage à travers un filtre X.
(JA)
本発明の第1の課題は、ブリッジ欠陥が抑制されたパターンを形成し得る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の製造方法を提供することである。また、本発明の第2の課題は、ブリッジ欠陥が抑制されたパターンを形成し得る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いたパターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法を提供することである。 本発明の感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の製造方法は、半導体装置製造工程で使用される感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物の製造方法であって、酸の作用により分解して極性が増大する樹脂と溶剤とを含むポリマー溶液を精製する工程Aと、工程Aを経たポリマー溶液に、活性光線又は放射線の照射によって酸を発生する化合物を加えて、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を調整する工程Bと、を含み、工程Aが、フィルタXに通過させてろ過する工程Xを含む。
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