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1. WO2020203104 - 計測装置、パターン形成装置および物品の製造方法

公開番号 WO/2020/203104
公開日 08.10.2020
国際出願番号 PCT/JP2020/010427
国際出願日 11.03.2020
IPC
G01N 21/956 2006.01
G物理学
01測定;試験
N材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
21光学的手段,すなわち,赤外線,可視光線または紫外線を使用することによる材料の調査または分析
84特殊な応用に特に適合したシステム
88きず,欠陥,または汚れの存在の調査
95調査対象物の材質や形に特徴付けられるもの
956物体表面のパターンの検査
G01B 11/24 2006.01
G物理学
01測定;試験
B長さ,厚さまたは同種の直線寸法の測定;角度の測定;面積の測定;表面または輪郭の不規則性の測定
11光学的手段の使用によって特徴づけられた測定装置
24輪郭または曲率の測定用
G03F 7/20 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20露光;そのための装置
H01L 21/027 2006.01
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02半導体装置またはその部品の製造または処理
027その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループH01L21/18またはH01L21/34に分類されないもの
出願人
  • キヤノン株式会社 CANON KABUSHIKI KAISHA [JP]/[JP]
発明者
  • 平井 真一郎 HIRAI Shinichiro
  • 小林 謙一 KOBAYASHI Kenichi
代理人
  • 阿部 琢磨 ABE Takuma
  • 黒岩 創吾 KUROIWA Sogo
優先権情報
2019-06886229.03.2019JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) MEASUREMENT DEVICE, PATTERNING DEVICE, AND METHOD FOR PRODUCING ARTICLE
(FR) DISPOSITIF DE MESURE, DISPOSITIF DE FORMATION DE MOTIFS ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'ARTICLE
(JA) 計測装置、パターン形成装置および物品の製造方法
要約
(EN)
Provided is a measurement device for detecting foreign matter on a substrate having a pattern formed in a pattern formation region thereof. The measurement device comprises: an irradiation unit for irradiating the substrate with light; a detection unit for detecting scattered light which is the light emitted from the irradiation unit scattered by the substrate; and a control unit for detecting foreign matter on the substrate on the basis of a result of the detection by the detection unit.
(FR)
L'invention concerne un dispositif de mesure permettant de détecter une matière étrangère sur un substrat ayant un motif formé dans une région de formation de motif associée. Le dispositif de mesure comprend : une unité d'exposition servant à exposer le substrat à une lumière ; une unité de détection servant à détecter une lumière diffusée qui est la lumière émise par l'unité d'exposition diffusée par le substrat ; et une unité de commande servant à détecter une matière étrangère sur le substrat sur la base d'un résultat de la détection par l'unité de détection.
(JA)
パターン形成領域にパターンが形成された基板上の異物を検知する計測装置であって、基板に対して光を照射する照射部と、照射部から照射された光であって、基板によって散乱された散乱光を検出する検出部と、検出部の検出結果に基づいて基板上の異物の検知を行う制御部を含む。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報