処理中

しばらくお待ちください...

設定

設定

出願の表示

1. WO2020202900 - 露光装置および露光方法

公開番号 WO/2020/202900
公開日 08.10.2020
国際出願番号 PCT/JP2020/007338
国際出願日 25.02.2020
IPC
G03F 7/20 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20露光;そのための装置
出願人
  • サンエー技研株式会社 SANEI GIKEN CO., LTD. [JP]/[JP]
発明者
  • 高木 俊博 TAKAGI, Toshihiro
  • 小林 和弘 KOBAYASHI, Kazuhiro
代理人
  • 山本 修 YAMAMOTO, Osamu
  • 宮前 徹 MIYAMAE, Toru
  • 中西 基晴 NAKANISHI, Motoharu
  • 田村 義行 TAMURA, Yoshiyuki
優先権情報
2019-07041402.04.2019JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) EXPOSURE DEVICE AND EXPOSURE METHOD
(FR) DISPOSITIF D'EXPOSITION ET PROCÉDÉ D'EXPOSITION
(JA) 露光装置および露光方法
要約
(EN)
According to the present invention, an exposure surface of a substrate and an imaging surface of an exposure part are matched while maintaining flatness of the substrate, and a flaw occurring on the exposure surface of the substrate is prevented. This exposure device for exposing a substrate is provided with: a substrate holder that has a holding surface for suctions and holds the substrate; a driving mechanism that moves the substrate holder in a direction perpendicular to the holding surface; and a substrate pressing member that is disposed so as not to be displaced in the direction perpendicular to the holding surface and that abuts the substrate at a position avoiding the exposure region of the substrate when the substrate held by the substrate holder pressed against the substrate pressing member by the driving mechanism.
(FR)
Selon la présente invention, une surface d'exposition d'un substrat et une surface d'imagerie d'une partie d'exposition sont mises en correspondance tout en maintenant la planéité du substrat, et un défaut se produisant sur la surface d'exposition du substrat est évité. Ce dispositif d'exposition servant à exposer un substrat est pourvu : d'un support de substrat qui est doté d'une surface de maintien utilisée pour des aspirations et qui maintient le substrat ; d'un mécanisme d'entraînement qui déplace le support de substrat dans une direction perpendiculaire à la surface de support ; et d'un élément de pression de substrat qui est disposé de façon à ne pas être déplacé dans la direction perpendiculaire à la surface de support et qui vient en butée contre le substrat dans une position évitant la région d'exposition du substrat lorsque le substrat maintenu par le support de substrat est pressé contre l'élément de pression de substrat par le mécanisme d'entraînement.
(JA)
基板の平坦性を維持した上で、基板の露光面と露光部の結像面とを一致させるとともに、基板の露光面に発生する不具合を防止する。基板を露光する露光装置であって、基板を吸引吸着して保持する保持面を有する基板ホルダと、基板ホルダを、保持面に直交する方向に移動させる駆動機構と、保持面に直交する方向に変位しないように配置される基板押さえ部材であって、基板ホルダに保持された基板が駆動機構により基板押さえ部材に押し当てられたとき、基板の露光領域を避けた位置で基板と当接する基板押さえ部材とを備える。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報