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1. WO2020202471 - 研磨液、研磨液セット、研磨方法及び欠陥抑制方法

公開番号 WO/2020/202471
公開日 08.10.2020
国際出願番号 PCT/JP2019/014680
国際出願日 02.04.2019
IPC
H01L 21/304 2006.01
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02半導体装置またはその部品の製造または処理
04少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
30H01L21/20~H01L21/26に分類されない方法または装置を用いる半導体本体の処理
302表面の物理的性質または形状を変換するため,例.エッチング,ポリシング,切断
304機械的処理,例.研摩,ポリシング,切断
出願人
  • 日立化成株式会社 HITACHI CHEMICAL COMPANY, LTD. [JP]/[JP]
発明者
  • 花野 真之 HANANO Masayuki
  • 高橋 寿登 TAKAHASHI Hisato
  • 瀧澤 寿夫 TAKIZAWA Toshio
代理人
  • 長谷川 芳樹 HASEGAWA Yoshiki
  • 清水 義憲 SHIMIZU Yoshinori
  • 平野 裕之 HIRANO Hiroyuki
優先権情報
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) POLISHING SOLUTION, POLISHING SOLUTION SET, POLISHING METHOD, AND DEFECT SUPPRESSING METHOD
(FR) SOLUTION DE POLISSAGE, ENSEMBLE DE SOLUTION DE POLISSAGE, PROCÉDÉ DE POLISSAGE ET PROCÉDÉ DE SUPPRESSION DE DÉFAUT
(JA) 研磨液、研磨液セット、研磨方法及び欠陥抑制方法
要約
(EN)
Provided is a polishing solution containing abrasive grains, a first nitrogen-containing compound, a second nitrogen-containing compound, and water, wherein the first nitrogen-containing compound comprises at least one selected from the group consisting of: (I) a compound including an aromatic ring having one nitrogen atom in the ring, and a hydroxyl group; (II) a compound including an aromatic ring having one nitrogen atom in the ring, and a functional group including a nitrogen atom; (III) a compound including a six-membered ring having two nitrogen atoms in the ring; (IV) a compound including a benzene ring and a ring including a nitrogen atom in the ring; and (V) a compound including a benzene ring to which two or more functional groups having a nitrogen atom are attached. The second nitrogen-containing compound has an HLB value of more than or equal to 7.
(FR)
L'invention concerne une solution de polissage contenant des grains abrasifs, un premier composé contenant de l'azote, un second composé contenant de l'azote et de l'eau, le premier composé contenant de l'azote comprenant au moins un élément choisi dans le groupe constitué par : (I) un composé comprenant un cycle aromatique ayant un atome d'azote dans le cycle, et un groupe hydroxyle ; (II) un composé comprenant un cycle aromatique ayant un atome d'azote dans le cycle, et un groupe fonctionnel comprenant un atome d'azote ; (III) un composé comprenant un cycle à six chaînons ayant deux atomes d'azote dans le cycle ; (IV) un composé comprenant un cycle benzène et un cycle comprenant un atome d'azote dans le cycle ; et (V) un composé comprenant un cycle benzénique auquel sont attachés au moins deux groupes fonctionnels ayant un atome d'azote. Le second composé contenant de l'azote a une valeur HLB supérieure ou égale à 7.
(JA)
砥粒と、第1の含窒素化合物と、第2の含窒素化合物と、水と、を含有し、前記第1の含窒素化合物が、(I)1個の窒素原子を環内に含む芳香環と、水酸基と、を有する化合物、(II)1個の窒素原子を環内に含む芳香環と、窒素原子を含む官能基と、を有する化合物、(III)2個の窒素原子を環内に含む6員環を有する化合物、(IV)ベンゼン環と、窒素原子を環内に含む環と、を有する化合物、及び、(V)窒素原子を含む2個以上の官能基が結合したベンゼン環を有する化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種を含み、前記第2の含窒素化合物のHLB値が7以上である、研磨液。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報